会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 微混合晶片 MICRO-MIXER BIOCHIP
    • 微混合芯片 MICRO-MIXER BIOCHIP
    • TW201034931A
    • 2010-10-01
    • TW098110432
    • 2009-03-30
    • 國立成功大學
    • 李國賓楊松益
    • B81BG01N
    • B01F5/0068B01F11/0071B01F13/0059
    • 本發明提供一種微混合晶片,其係包含:一基板,其具有一表面;一流道層,其與前述基板之表面結合,包含一反應槽及一單邊流道,其中前述單邊流道之一端係封閉,另一端係與前述反應槽相連,且該單邊流道之頂部係以可撓性材料所形成;以及一氣壓腔體層,其位於前述流道層之頂面,其包含一進氣孔、至少一氣室及一連接前述氣室與進氣孔之氣體管道,其中前述氣室之數量及位置之設置係對應於前述流道層之單邊流道。
    • 本发明提供一种微混合芯片,其系包含:一基板,其具有一表面;一流道层,其与前述基板之表面结合,包含一反应槽及一单边流道,其中前述单边流道之一端系封闭,另一端系与前述反应槽相连,且该单边流道之顶部系以可挠性材料所形成;以及一气压腔体层,其位于前述流道层之顶面,其包含一进气孔、至少一气室及一连接前述气室与进气孔之气体管道,其中前述气室之数量及位置之设置系对应于前述流道层之单边流道。
    • 3. 发明专利
    • 氣體混合裝置及基板處理裝置
    • 气体混合设备及基板处理设备
    • TW201809341A
    • 2018-03-16
    • TW106118705
    • 2017-06-06
    • 日商東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 山下潤YAMASHITA, JUN
    • C23C16/455H01L21/31
    • C23C16/45514B01F3/02B01F3/026B01F5/0068B01F2005/0014B01F2215/0096C23C16/308C23C16/4412C23C16/45512C23C16/45531C23C16/45544C23C16/45565
    • 本發明提供一種:當混合複數種氣體時,將氣體一致地混合的技術。 在頂面被封閉之圓筒部(40)的於底面中央部設有氣體流出通路(41),將相對於圓筒部(40)的中心形成對稱旋轉的複數個氣流導引內壁(42A)~(42C),沿著氣體流出通路(41)的開口緣,保持間隔地配置。此外,氣流導引內壁(42A)~(42C)之周方向的一側端部,朝向圓筒部(40)的中心部靠近地形成彎曲。然後,將第1~第3氣體流入管(45A)~(45C)連接於:在氣流導引內壁(42A)~(42C)、與圓筒部(40)的內周面之間,靠近氣流導引內壁(42A)~(42C)之周方向的另一側的位置。由第1~第3氣體流入管(45A)~(45C)供給的氣體,沿著氣流導引內壁(42A)~(42C)的外周面流動,而成為沿著位於周方向之一側的氣流導引內壁(42A)~(42C)的內周面流動的迴旋流,並在氣體流出通路(41)混合。
    • 本发明提供一种:当混合复数种气体时,将气体一致地混合的技术。 在顶面被封闭之圆筒部(40)的于底面中央部设有气体流出通路(41),将相对于圆筒部(40)的中心形成对称旋转的复数个气流导引内壁(42A)~(42C),沿着气体流出通路(41)的开口缘,保持间隔地配置。此外,气流导引内壁(42A)~(42C)之周方向的一侧端部,朝向圆筒部(40)的中心部靠近地形成弯曲。然后,将第1~第3气体流入管(45A)~(45C)连接于:在气流导引内壁(42A)~(42C)、与圆筒部(40)的内周面之间,靠近气流导引内壁(42A)~(42C)之周方向的另一侧的位置。由第1~第3气体流入管(45A)~(45C)供给的气体,沿着气流导引内壁(42A)~(42C)的外周面流动,而成为沿着位于周方向之一侧的气流导引内壁(42A)~(42C)的内周面流动的回旋流,并在气体流出通路(41)混合。
    • 5. 发明专利
    • 微混合晶片 MICRO-MIXER CHIP
    • 微混合芯片 MICRO-MIXER CHIP
    • TWI372721B
    • 2012-09-21
    • TW098110432
    • 2009-03-30
    • 國立成功大學
    • 李國賓楊松益
    • B81BG01N
    • B01F5/0068B01F11/0071B01F13/0059
    • 本發明提供一種微混合晶片,其係包含:一基板,其具有一表面;一流道層,其與前述基板之表面結合,包含一反應槽及一單邊流道,其中前述單邊流道之一端係封閉,另一端係與前述反應槽相連,且該單邊流道之頂部係以可撓性材料所形成;以及一氣壓腔體層,其位於前述流道層之頂面,其包含一進氣孔、至少一氣室及一連接前述氣室與進氣孔之氣體管道,其中前述氣室之數量及位置之設置係對應於前述流道層之單邊流道。
    • 本发明提供一种微混合芯片,其系包含:一基板,其具有一表面;一流道层,其与前述基板之表面结合,包含一反应槽及一单边流道,其中前述单边流道之一端系封闭,另一端系与前述反应槽相连,且该单边流道之顶部系以可挠性材料所形成;以及一气压腔体层,其位于前述流道层之顶面,其包含一进气孔、至少一气室及一连接前述气室与进气孔之气体管道,其中前述气室之数量及位置之设置系对应于前述流道层之单边流道。
    • 8. 发明专利
    • 用於溶解一微料的固體於一極度臨界或幾乎是臨界流體的溶解裝置和方法以及染色裝置
    • 用于溶解一微料的固体于一极度临界或几乎是临界流体的溶解设备和方法以及染色设备
    • TW555917B
    • 2003-10-01
    • TW090110147
    • 2001-04-26
    • 史托布拉班有限公司
    • 渦爾里吉爾特菲依
    • D06BB01F
    • B01F5/0068B01F1/0022B01F1/0038B01F5/0415B01F5/106B01F2003/0064D06B23/205
    • 根據本發明,把微粒固體溶於極度臨界或幾乎是臨界流體內所用溶解裝置包括有循環迴路,其係有進料管(14)以供極度臨界或幾乎是臨界流體的進行流加以進料,一旋風器(7)其係與進料管(14)相通且具有主要排放管(9),以把微粒固體在極度臨界或幾乎是臨界流體內形成的溶液之主要排放流排出,有輔助排放管(11),以便把具有固體粒分散於內之極度臨界或幾乎是臨界流體之輔助流排出,輔助排放管(11)與該進料管(14)相通,此種溶解裝置與前案技藝相較,壓力降小而溶解率高。本發明又涉及染色裝置,其係設有本發明的溶解裝置,及其使用方法。
    • 根据本发明,把微粒固体溶于极度临界或几乎是临界流体内所用溶解设备包括有循环回路,其系有进料管(14)以供极度临界或几乎是临界流体的进行流加以进料,一旋风器(7)其系与进料管(14)相通且具有主要排放管(9),以把微粒固体在极度临界或几乎是临界流体内形成的溶液之主要排放流排出,有辅助排放管(11),以便把具有固体粒分散于内之极度临界或几乎是临界流体之辅助流排出,辅助排放管(11)与该进料管(14)相通,此种溶解设备与前案技艺相较,压力降小而溶解率高。本发明又涉及染色设备,其系设有本发明的溶解设备,及其使用方法。
    • 9. 发明专利
    • 利用活性污泥床之污水處理裝置
    • 利用活性污泥床之污水处理设备
    • TW230766B
    • 1994-09-21
    • TW082100586
    • 1993-01-30
    • 植田千惠植田岩雄
    • 植田岩雄
    • C02F
    • C02F3/121B01F3/04269B01F5/0068B01F5/0071B01F15/0272B01F2003/04319B01F2003/0434B01F2003/04382C02F3/06C02F3/1221C02F2103/42Y02W10/15
    • 本發明之目的係在提供一種不問季節或裝置之設置地域,從高負荷處理以至低負荷高度處理,均能有效地以高效率進行污水之處理,同時又絕不將剩餘污泥送至裝置外之利用活性污泥床之污水處理裝置。
      就結構上而言,根據本發明,係在配設有多數個活性污泥床34、36、38、40及曝氣管之污水處理槽14、16、18、20內,設置旋轉水流產生機構42、46及加溫配管48。此外,又由第三污水處理槽18,將處理途中之污水回送至第一、第二污水處理槽14、16,另外,又併設沈降槽22及污泥消化槽26,將污泥處理後之上澄水,給送至第一污水處理槽。
    • 本发明之目的系在提供一种不问季节或设备之设置地域,从高负荷处理以至低负荷高度处理,均能有效地以高效率进行污水之处理,同时又绝不将剩余污泥送至设备外之利用活性污泥床之污水处理设备。 就结构上而言,根据本发明,系在配设有多数个活性污泥床34、36、38、40及曝气管之污水处理槽14、16、18、20内,设置旋转水流产生机构42、46及加温配管48。此外,又由第三污水处理槽18,将处理途中之污水回送至第一、第二污水处理槽14、16,另外,又并设沈降槽22及污泥消化槽26,将污泥处理后之上澄水,给送至第一污水处理槽。