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1. 发明专利

TW201206556A 電透析系統及技術 SYSTEMS AND TECHNIQUES FOR ELECTRODIALYSIS 审中-公开
简体标题：电透析系统及技术 SYSTEMS AND TECHNIQUES FOR ELECTRODIALYSIS
公开(公告)号：TW201206556A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100117363
申请日：2011-05-18
申请人：西門子私人有限公司
发明人：吳基海 , 傅榮強 , 梁立祥 , 雍芝明吉米 , 葉肯湖
IPC分类号： B01D , C02F
CPC分类号： C02F1/4693 , B01D61/46 , B01D61/50 , B01D61/54 , B01D63/084 , B01D63/10 , B01D2311/14 , B01D2311/243 , B01D2311/246 , B01D2313/14 , C02F2001/46138 , C02F2201/4612 , C02F2201/4613 , C02F2301/066 , C02F2303/24 , Y02W10/33 , Y02W10/37
摘要：電化分離裝置係配置成適用於較低能量消耗。用以減少遮蔽效應之技術可以包含在一間隔板網屏與一相鄰離子選擇性薄膜間提供距離。可以使用一具有比外圍框架薄之網屏的間隔板。亦可以施加輕微壓力至一隔間，以促成在一間隔板網屏與一相鄰離子選擇性薄膜間之距離。
简体摘要：电化分离设备系配置成适用于较低能量消耗。用以减少屏蔽效应之技术可以包含在一间隔板网屏与一相邻离子选择性薄膜间提供距离。可以使用一具有比外围框架薄之网屏的间隔板。亦可以施加轻微压力至一隔间，以促成在一间隔板网屏与一相邻离子选择性薄膜间之距离。

2. 发明专利

TWI573766B 工業水系統的處理有权
简体标题：工业水系统的处理
公开(公告)号：TWI573766B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW102106496
申请日：2013-02-25
申请人：奈寇公司 , NALCO COMPANY
发明人：勞那拉辛哈M , RAO, NARASIMHA M. , 海曲史蒂芬R , HATCH, STEVEN R. , 帆崔斯克威廉A , VON DRASEK, WILLIAM A.
IPC分类号： C02F9/00 , C02F1/68 , G01N21/64 , G01N33/18 , G05D21/00
CPC分类号： B01D61/00 , B01D2311/10 , B01D2311/14 , B01D2311/16 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , C02F1/008 , C02F1/44 , C02F1/686 , C02F1/687 , C02F2103/023 , C02F2103/18 , C02F2103/28 , C02F2103/365 , C02F2103/42 , C02F2209/006 , C02F2209/01 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C02F2209/11 , C02F2209/40

3. 发明专利

TW201716340A 工業水系統的處理审中-公开
简体标题：工业水系统的处理
公开(公告)号：TW201716340A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105139675
申请日：2013-02-25
申请人：奈寇公司 , NALCO COMPANY
发明人：勞那拉辛哈M , RAO, NARASIMHA M. , 海曲史蒂芬R , HATCH, STEVEN R. , 帆崔斯克威廉A , VON DRASEK, WILLIAM A.
IPC分类号： C02F9/00 , C02F1/68 , G01N21/64 , G01N33/18 , G05D21/00
CPC分类号： B01D61/00 , B01D2311/10 , B01D2311/14 , B01D2311/16 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , C02F1/008 , C02F1/44 , C02F1/686 , C02F1/687 , C02F2103/023 , C02F2103/18 , C02F2103/28 , C02F2103/365 , C02F2103/42 , C02F2209/006 , C02F2209/01 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C02F2209/11 , C02F2209/40
摘要：本發明揭示一種控制工業水系統之處理的方法。該方法包含以下步驟：提供一種用於控制至少一種處理化學品之傳遞的設備，該設備包含至少一個感測器及執行方案之電子輸入/輸出裝置；使用該至少一個感測器量測工業水系統之參數；將所量測之參數中繼至該電子裝置；基於所量測之參數調整方案；根據所調整之方案將濃縮之處理化學品傳遞至工業水系統之液流中，該濃縮之處理化學品包含活性成分，必要時追蹤該活性成分，該活性成分具有一定濃度；重複量測、調整及傳遞；且視情況重複該等步驟以獲取參數之n值、活性成分之n值及/或濃縮之處理化學品之n值。
简体摘要：本发明揭示一种控制工业水系统之处理的方法。该方法包含以下步骤：提供一种用于控制至少一种处理化学品之传递的设备，该设备包含至少一个传感器及运行方案之电子输入/输出设备；使用该至少一个传感器量测工业水系统之参数；将所量测之参数中继至该电子设备；基于所量测之参数调整方案；根据所调整之方案将浓缩之处理化学品传递至工业水系统之液流中，该浓缩之处理化学品包含活性成分，必要时追踪该活性成分，该活性成分具有一定浓度；重复量测、调整及传递；且视情况重复该等步骤以获取参数之n值、活性成分之n值及/或浓缩之处理化学品之n值。

4. 发明专利

TW515779B 一種利用製成水之電阻率來生產高純度水的控制方法失效
简体标题：一种利用制成水之电阻率来生产高纯度水的控制方法
公开(公告)号：TW515779B
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：TW087101216
申请日：1998-02-02
申请人：季諾環保公司
发明人：安東尼A.托恩里 , 艾立克哈立生
IPC分类号： C02F
CPC分类号： B01D61/022 , B01D61/04 , B01D61/12 , B01D2311/04 , C02F1/441 , Y10S210/90 , B01D2311/103 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/243
摘要：一種改良式控制方法，用以生產高純度水，其可連續地製造出電阻率在0.8至4百萬歐姆-公分範圍內之高純度水，該方法的步驟包括提供一待純化之供應水流，並且提供一第一逆滲透模組(10)，其具有第一高壓側(8)和第一低壓側(12)，並且有一第一滲透液(permeate)生成在第一低壓側(12)。在供應水流加到第一逆滲透模組(10)的高壓側(8)之前，監控即將加到第一逆滲透模組(10)高壓側(8)之供應水流的pH值。提供一第二逆滲透模組(18)，其具有第二高壓側(16)和第二低壓側(22)，用以生產高純化之製成水。從第一逆滲透模組(10)生成之第一滲透液被導入第二逆滲透模組(18)之高壓側(16)，並且量測在第二逆滲透模組(18)之第二低壓側(22)所得到之製成水的電阻，用以提供一電阻量測值。將上述電阻量測值傳達至一可程式邏輯控制器，並在其中將此電阻量測值與一先前的電阻量測值作比較，以提供一比較值。然後回應於該比較值，保持或者升高/降低供應水流的pH值，藉以生產具有期望電阻率的高純度水。成水的電阻，用以提供一電阻量測值。將上述電阻量測值傳達至一可程式邏輯控制器，並在其中將此電阻量測值與一先前的電阻量測值作比較，以提供一比較值。然後回應於該比較值，保持或者升高/降低供應水流的pH值，藉以生產具有期望電阻率的高純度水。
简体摘要：一种改良式控制方法，用以生产高纯度水，其可连续地制造出电阻率在0.8至4百万欧姆-公分范围内之高纯度水，该方法的步骤包括提供一待纯化之供应水流，并且提供一第一逆渗透模块(10)，其具有第一高压侧(8)和第一低压侧(12)，并且有一第一渗透液(permeate)生成在第一低压侧(12)。在供应水流加到第一逆渗透模块(10)的高压侧(8)之前，监控即将加到第一逆渗透模块(10)高压侧(8)之供应水流的pH值。提供一第二逆渗透模块(18)，其具有第二高压侧(16)和第二低压侧(22)，用以生产高纯化之制成水。从第一逆渗透模块(10)生成之第一渗透液被导入第二逆渗透模块(18)之高压侧(16)，并且量测在第二逆渗透模块(18)之第二低压侧(22)所得到之制成水的电阻，用以提供一电阻量测值。将上述电阻量测值传达至一可进程逻辑控制器，并在其中将此电阻量测值与一先前的电阻量测值作比较，以提供一比较值。然后回应于该比较值，保持或者升高/降低供应水流的pH值，借以生产具有期望电阻率的高纯度水。成水的电阻，用以提供一电阻量测值。将上述电阻量测值传达至一可进程逻辑控制器，并在其中将此电阻量测值与一先前的电阻量测值作比较，以提供一比较值。然后回应于该比较值，保持或者升高/降低供应水流的pH值，借以生产具有期望电阻率的高纯度水。

5. 发明专利

TWI613156B 工業水系統的處理有权
简体标题：工业水系统的处理
公开(公告)号：TWI613156B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW105139675
申请日：2013-02-25
申请人：奈寇公司 , NALCO COMPANY
发明人：勞那拉辛哈M , RAO, NARASIMHA M. , 海曲史蒂芬R , HATCH, STEVEN R. , 帆崔斯克威廉A , VON DRASEK, WILLIAM A.
IPC分类号： C02F9/00 , C02F1/68 , G01N21/64 , G01N33/18 , G05D21/00
CPC分类号： B01D61/00 , B01D2311/10 , B01D2311/14 , B01D2311/16 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , C02F1/008 , C02F1/44 , C02F1/686 , C02F1/687 , C02F2103/023 , C02F2103/18 , C02F2103/28 , C02F2103/365 , C02F2103/42 , C02F2209/006 , C02F2209/01 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C02F2209/11 , C02F2209/40

6. 发明专利

TW201728535A 製備包含至少一種鹼土金屬碳酸氫鹽之水性溶液的方法审中-公开
简体标题：制备包含至少一种碱土金属碳酸氢盐之水性溶液的方法
公开(公告)号：TW201728535A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW106103668
申请日：2017-02-06
申请人：歐米亞國際公司 , OMYA INTERNATIONAL AG
发明人：聶爾森尼可拉斯夏樂斯 , NELSON, NICHOLAS CHARLES , 李博赫伯特 , RIEPL, HERBERT , 克羅伊格爾沃夫甘 , KREUGER, WOLFGANG
IPC分类号： C01B31/24 , C02F1/68 , A23L2/54
CPC分类号： C02F1/66 , B01D61/12 , B01D61/14 , B01D61/18 , B01D65/02 , B01D2311/04 , B01D2311/06 , B01D2311/08 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , B01D2311/246 , B01D2311/25 , B01D2311/2642 , B01D2311/2661 , B01D2311/268 , B01D2321/04 , C02F1/444 , C02F1/68 , C02F2209/24
摘要：本發明係關於一種用於製備包含至少一種鹼土金屬碳酸氫鹽之水性溶液的方法、用於水礦化及/或穩定化之方法以及藉由該方法獲得的包含至少一種鹼土金屬碳酸氫鹽之水性溶液用於水礦化及/或穩定化之用途。
简体摘要：本发明系关于一种用于制备包含至少一种碱土金属碳酸氢盐之水性溶液的方法、用于水矿化及/或稳定化之方法以及借由该方法获得的包含至少一种碱土金属碳酸氢盐之水性溶液用于水矿化及/或稳定化之用途。

7. 发明专利

TW201402475A 工業水系統的處理审中-公开
简体标题：工业水系统的处理
公开(公告)号：TW201402475A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102106496
申请日：2013-02-25
申请人：奈寇公司 , NALCO COMPANY
发明人：勞那拉辛哈M , RAO, NARASIMHA M. , 海曲史蒂芬R , HATCH, STEVEN R. , 帆崔斯克威廉A , VON DRASEK, WILLIAM A.
IPC分类号： C02F9/00 , C02F1/68 , G01N21/64 , G01N33/18 , G05D21/00
CPC分类号： B01D61/00 , B01D2311/10 , B01D2311/14 , B01D2311/16 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , C02F1/008 , C02F1/44 , C02F1/686 , C02F1/687 , C02F2103/023 , C02F2103/18 , C02F2103/28 , C02F2103/365 , C02F2103/42 , C02F2209/006 , C02F2209/01 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C02F2209/11 , C02F2209/40
摘要：本發明揭示一種控制工業水系統之處理的方法。該方法包含以下步驟：提供一種用於控制至少一種處理化學品之傳遞的設備，該設備包含至少一個感測器及執行方案之電子輸入/輸出裝置；使用該至少一個感測器量測工業水系統之參數；將所量測之參數中繼至該電子裝置；基於所量測之參數調整方案；根據所調整之方案將濃縮之處理化學品傳遞至工業水系統之液流中，該濃縮之處理化學品包含活性成分，必要時追蹤該活性成分，該活性成分具有一定濃度；重複量測、調整及傳遞；且視情況重複該等步驟以獲取參數之n值、活性成分之n值及/或濃縮之處理化學品之n值。
简体摘要：本发明揭示一种控制工业水系统之处理的方法。该方法包含以下步骤：提供一种用于控制至少一种处理化学品之传递的设备，该设备包含至少一个传感器及运行方案之电子输入/输出设备；使用该至少一个传感器量测工业水系统之参数；将所量测之参数中继至该电子设备；基于所量测之参数调整方案；根据所调整之方案将浓缩之处理化学品传递至工业水系统之液流中，该浓缩之处理化学品包含活性成分，必要时追踪该活性成分，该活性成分具有一定浓度；重复量测、调整及传递；且视情况重复该等步骤以获取参数之n值、活性成分之n值及/或浓缩之处理化学品之n值。

8. 发明专利

TWI480232B 蝕刻液之處理裝置及處理方法有权
简体标题：蚀刻液之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TWI480232B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW099109625
申请日：2010-03-30
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：小森英之 , KOMORI, HIDEYUKI , 織田信博 , ORITA, NOBUHIRO
IPC分类号： C02F1/58 , C02F1/44 , C02F1/48 , G01N27/26 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/30604 , B01D61/027 , B01D61/12 , B01D61/145 , B01D61/22 , B01D61/58 , B01D2311/06 , C02F1/52 , C02F1/66 , C02F11/12 , C02F2001/5218 , C02F2103/346 , Y02W10/37 , B01D2311/12 , B01D2311/24 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , B01D2311/10

9. 发明专利

TW201102352A 蝕刻液之處理裝置及處理方法审中-公开
简体标题：蚀刻液之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TW201102352A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099109625
申请日：2010-03-30
申请人：栗田工業股份有限公司
发明人：小森英之 , 織田信博
IPC分类号： C02F , G01N , H01L
CPC分类号： H01L21/30604 , B01D61/027 , B01D61/12 , B01D61/145 , B01D61/22 , B01D61/58 , B01D2311/06 , C02F1/52 , C02F1/66 , C02F11/12 , C02F2001/5218 , C02F2103/346 , Y02W10/37 , B01D2311/12 , B01D2311/24 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , B01D2311/10
摘要：可使蝕刻液的更換頻度減少，並且亦防止在經處理的蝕刻液中混入雜質之蝕刻液之處理裝置及蝕刻液之處理方法。係用以循環再利用將矽作蝕刻處理之蝕刻液的蝕刻液之處理裝置，其具備有：將來自蝕刻槽（2）的蝕刻液進行膜處理的膜分離手段（3）；及使該膜分離手段（3）的膜透過液在該蝕刻槽作循環的循環手段（6）。前述膜分離手段（3）係具有UF膜模組（4）與NF膜模組（5）。亦可在膜透過液添加鹼及有機物。
简体摘要：可使蚀刻液的更换频度减少，并且亦防止在经处理的蚀刻液中混入杂质之蚀刻液之处理设备及蚀刻液之处理方法。系用以循环再利用将硅作蚀刻处理之蚀刻液的蚀刻液之处理设备，其具备有：将来自蚀刻槽（2）的蚀刻液进行膜处理的膜分离手段（3）；及使该膜分离手段（3）的膜透过液在该蚀刻槽作循环的循环手段（6）。前述膜分离手段（3）系具有UF膜模块（4）与NF膜模块（5）。亦可在膜透过液添加碱及有机物。

10. 发明专利

TW200640563A 電純化設備中吸附介質之再生 REGENERATION OF ADSORPTION MEDIA WITHIN ELECTRICAL PURIFICATION APPARATUSES 审中-公开
简体标题：电纯化设备中吸附介质之再生 REGENERATION OF ADSORPTION MEDIA WITHIN ELECTRICAL PURIFICATION APPARATUSES
公开(公告)号：TW200640563A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW095112817
申请日：2006-04-11
申请人：美國過濾器股份有限公司 USFILTER CORPORATION
发明人：艾芙珍妮雅弗瑞迪娜 FREYDINA, EVGENIYA , 艾塔克塞吉 SEZGI, AYTAC , 梁立祥 LIANG, LI-SHIANG
IPC分类号： B01D , B01J , C02F
CPC分类号： C02F1/4695 , B01D61/48 , B01D61/54 , B01D2311/24 , B01D2311/243 , B01D2311/246 , B01D2311/2623 , B01D2311/2626 , B01D2313/48 , B01D2321/16
摘要：本發明通常關於電純化液體的方法、系統及裝置，其中該液體包含下列物種：諸如礦物、鹽、離子、有機物及其類似物。本發明一方面提供一種包含一電去離子裝置的電純化設備。該電去離子裝置可以任何合適的方式(例如，連續或基本上連續、週期性、在需求後)與週期性逆轉極性來運轉。在另一方面，本發明提供一種在電純化裝置內再生介質之方法，例如，將該介質曝露至一或多種洗提溶液，及／或藉由將該介質曝露至某些洗提條件來選擇性從該介質中脫附離子、有機物及／或其它物種。在更另一方面，本發明提供一種可選擇性從欲純化的液體中移除一或多種離子、有機物及／或其它物種之方法，藉由選擇性從溶液中移除一或多種可容易析出及／或造成積垢或骯髒發生之離子或有機物及其類似物。在仍然另一方面，本發明提供一種使用電純化設備，以連續或半連續方式來處理包含離子、有機物及／或其它物種之溶液的方法，同時亦進行包含在該裝置內的介質再生。
简体摘要：本发明通常关于电纯化液体的方法、系统及设备，其中该液体包含下列物种：诸如矿物、盐、离子、有机物及其类似物。本发明一方面提供一种包含一电去离子设备的电纯化设备。该电去离子设备可以任何合适的方式(例如，连续或基本上连续、周期性、在需求后)与周期性逆转极性来运转。在另一方面，本发明提供一种在电纯化设备内再生介质之方法，例如，将该介质曝露至一或多种洗提溶液，及／或借由将该介质曝露至某些洗提条件来选择性从该介质中脱附离子、有机物及／或其它物种。在更另一方面，本发明提供一种可选择性从欲纯化的液体中移除一或多种离子、有机物及／或其它物种之方法，借由选择性从溶液中移除一或多种可容易析出及／或造成积垢或肮脏发生之离子或有机物及其类似物。在仍然另一方面，本发明提供一种使用电纯化设备，以连续或半连续方式来处理包含离子、有机物及／或其它物种之溶液的方法，同时亦进行包含在该设备内的介质再生。

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