专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201947316A 相移空白罩幕审中-公开
公开(公告)号：TW201947316A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW107117194
申请日：2018-05-21
申请人：南韓商S&S技術股份有限公司 , S&S TECH CO., LTD.
发明人：南基守 , NAM, KEE-SOO , 申澈 , SHIN, CHEOL , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 李鍾華 , LEE, JONG-HWA , 梁澈圭 , YANG, CHUL-KYU , 崔珉箕 , CHOI, MIN-KI
IPC分类号： G03F1/46 , G03F1/26
摘要：根據本公開的相移膜包括組成不同的多個層，其可以通過一種蝕刻劑進行蝕刻，並且形成為連續膜或多層膜，所述膜通過一次或多次層疊具有不同組成的層而具有至少兩層。因此，不僅通過減小相移膜的厚度，而且還通過考慮各種變數從而使得在將相移膜圖案化時，使邊界部分的截面傾斜度變陡以獲得更清晰的相移膜圖案邊界，由此確保了相移膜圖案的透射率、相移量及均勻性，因此提供了這樣的相移空白罩幕及光罩，其中光刻物件及相移膜圖案的圖案精度得以改善。
简体摘要：根据本公开的相移膜包括组成不同的多个层，其可以通过一种蚀刻剂进行蚀刻，并且形成为连续膜或多层膜，所述膜通过一次或多次层叠具有不同组成的层而具有至少两层。因此，不仅通过减小相移膜的厚度，而且还通过考虑各种变量从而使得在将相移膜图案化时，使边界部分的截面倾斜度变陡以获得更清晰的相移膜图案边界，由此确保了相移膜图案的透射率、相移量及均匀性，因此提供了这样的相移空白罩幕及光罩，其中光刻对象及相移膜图案的图案精度得以改善。

2. 发明专利

TWI686663B 相移空白罩幕有权
公开(公告)号：TWI686663B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107117194
申请日：2018-05-21
申请人：南韓商S&S技術股份有限公司 , S&S TECH CO., LTD.
发明人：南基守 , NAM, KEE-SOO , 申澈 , SHIN, CHEOL , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 李鍾華 , LEE, JONG-HWA , 梁澈圭 , YANG, CHUL-KYU , 崔珉箕 , CHOI, MIN-KI
IPC分类号： G03F1/46 , G03F1/26

3. 发明专利

TWI567481B 相移空白遮罩及其製造方法有权
简体标题：相移空白遮罩及其制造方法
公开(公告)号：TWI567481B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW102115474
申请日：2013-04-30
申请人： S&S技術股份有限公司 , S&S TECH CO., LTD.
发明人：南基守 , NAM, KEE-SOO , 姜亘遠 , KANG, GEUNG-WON , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 張種沅 , JANG, JONG-WON , 崔珉箕 , CHOI, MIN-KI
IPC分类号： G03F1/26
CPC分类号： G03F1/26

4. 发明专利

TWI679489B 用於防止靜電破壞的空白遮罩和光遮罩有权
简体标题：用于防止静电破坏的空白遮罩和光遮罩
公开(公告)号：TWI679489B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107134166
申请日：2018-09-27
申请人：南韓商S&S技術股份有限公司 , S&S TECH CO., LTD.
发明人：南基守 , NAM, KEE-SOO , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 金世民 , KIM, SEI-MIN , 金大漢 , KIM, DAE-HAN , 柳熙山 , YU, HEE-SAN
IPC分类号： G03F1/50

5. 发明专利

TWI437383B 用於製造空白遮罩之光阻去除裝置、空白遮罩及其製造方法有权
简体标题：用于制造空白遮罩之光阻去除设备、空白遮罩及其制造方法
公开(公告)号：TWI437383B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW100117355
申请日：2011-05-18
申请人： S&S技術股份有限公司 , S & S TECH CO., LTD.
发明人：琴斗勳 , GEUM, DU-HUN , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 南基守 , NAM, KEE-SOO
IPC分类号： G03F7/26 , G03F1/00

6. 发明专利

TWI432907B 形成光阻之裝置、空白光罩、及空白光罩之製造方法有权
简体标题：形成光阻之设备、空白光罩、及空白光罩之制造方法
公开(公告)号：TWI432907B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW100117353
申请日：2011-05-18
申请人： S&S技術股份有限公司 , S & S TECH CO., LTD.
发明人：琴斗勳 , GEUM, DU-HUN , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 南基守 , NAM, KEE-SOO
IPC分类号： G03F7/16 , G03F1/00

7. 发明专利

TW201344340A 相移空白遮罩及其製造方法审中-公开
简体标题：相移空白遮罩及其制造方法
公开(公告)号：TW201344340A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102115474
申请日：2013-04-30
申请人： S&S技術股份有限公司 , S&S TECH CO., LTD.
发明人：南基守 , NAM, KEE-SOO , 姜亘遠 , KANG, GEUNG-WON , 金東建 , KIM, DONG-GEUN , 張種沅 , JANG, JONG-WON , 崔珉箕 , CHOI, MIN-KI
IPC分类号： G03F1/26
CPC分类号： G03F1/26
摘要：本發明提供一種相移空白遮罩，其中相移層形成為至少兩個連續層或多層膜且相移層包含的最上相移層較薄地形成以含有少量氧(O)以增強其耐化學性和耐久性。因此，包含相對於含酸性和鹼性材料、熱去離子水或臭氧水的清潔液具有增強的耐化學性和耐久性的相移層的相移空白遮罩可使用具有增強的耐化學性和耐久性的最上相移層而提供，清潔液用於在空白遮罩的製造期間重複執行的清潔製程。此外，可防止重複執行清潔製程時引起的相移層折射率及相移度降級，因為最上相移層具有增強的耐化學性和耐久性。因此，可提供包含薄的相移層的相移空白遮罩。
简体摘要：本发明提供一种相移空白遮罩，其中相移层形成为至少两个连续层或多层膜且相移层包含的最上相移层较薄地形成以含有少量氧(O)以增强其耐化学性和耐久性。因此，包含相对于含酸性和碱性材料、热去离子水或臭氧水的清洁液具有增强的耐化学性和耐久性的相移层的相移空白遮罩可使用具有增强的耐化学性和耐久性的最上相移层而提供，清洁液用于在空白遮罩的制造期间重复运行的清洁制程。此外，可防止重复运行清洁制程时引起的相移层折射率及相移度降级，因为最上相移层具有增强的耐化学性和耐久性。因此，可提供包含薄的相移层的相移空白遮罩。

8. 发明专利

TW201205199A 形成光阻之裝置、空白光罩、及空白光罩之製造方法 APPARATUS FOR FORMING RESIST, PHOTOMASK BLANK, AND MEHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK 审中-公开
简体标题：形成光阻之设备、空白光罩、及空白光罩之制造方法 APPARATUS FOR FORMING RESIST, PHOTOMASK BLANK, AND MEHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK
公开(公告)号：TW201205199A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：TW100117353
申请日：2011-05-18
申请人： S&S技術股份有限公司
发明人：琴斗勳 , 金東建 , 南基守
IPC分类号： G03F
摘要：本發明提供一種空白光罩之製造方法，其係包括藉由將光阻劑滴在透明基板上並旋轉該基板，以在該基板上形成光阻，其中在旋轉該基板時，產生以該基板之旋轉方向的相反方向、沿著該基板之側邊流動之第一氣流，藉以防止該光阻劑附著在該基板之側邊。
简体摘要：本发明提供一种空白光罩之制造方法，其系包括借由将光阻剂滴在透明基板上并旋转该基板，以在该基板上形成光阻，其中在旋转该基板时，产生以该基板之旋转方向的相反方向、沿着该基板之侧边流动之第一气流，借以防止该光阻剂附着在该基板之侧边。

9. 发明专利

TW201205207A 光阻去除裝置、空白遮罩及其製造方法 A RESIST REMOVING APPARATUS, MASK BLANKS AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
简体标题：光阻去除设备、空白遮罩及其制造方法 A RESIST REMOVING APPARATUS, MASK BLANKS AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME
公开(公告)号：TW201205207A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：TW100117355
申请日：2011-05-18
申请人： S&S技術股份有限公司
发明人：琴斗勳 , 金東建 , 南基守
IPC分类号： G03F
摘要：本發明提供一種空白遮罩及其製造方法。該空白遮罩包括在矩形基板之主要表面上之金屬層，及在該金屬層上之光阻，其中該光阻係自基板之邊緣區域被去除，而由上方觀看時該光阻在基板之角為直角。
简体摘要：本发明提供一种空白遮罩及其制造方法。该空白遮罩包括在矩形基板之主要表面上之金属层，及在该金属层上之光阻，其中该光阻系自基板之边缘区域被去除，而由上方观看时该光阻在基板之角为直角。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式