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1. 发明专利

TWI468733B 用於光可定向層中定向處理之感壓黏膜有权
简体标题：用于光可定向层中定向处理之感压黏膜
公开(公告)号：TWI468733B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW100102513
申请日：2011-01-24
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：金信英 , KIM, SIN YOUNG , 尹赫 , YOON, HYUK , 朴鐘聲 , PARK, JONG SUNG , 洪敬寄 , HONG, KYUNG KI , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN , 朴文洙 , PARK, MOON SOO , 許斗寧 , HUH, DOO YOUNG
IPC分类号： G02B27/22
CPC分类号： G02B5/3016 , B29D11/00634 , G02B27/2214 , G02B27/26 , G02F1/133788 , H04N13/31

2. 发明专利

TW201102242A 四角單元之製備方法 PROCESS FOR PREPARATION OF QUADRANGLE UNIT 审中-公开
简体标题：四角单元之制备方法 PROCESS FOR PREPARATION OF QUADRANGLE UNIT
公开(公告)号：TW201102242A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099107091
申请日：2010-03-10
申请人： LG化學公司
发明人：李鎬敬 , 張應鎮 , 李圭滉 , 李裕敏 , 金勳烈
IPC分类号： B26D
CPC分类号： G05B19/18 , B23K26/0604 , B23K26/0673 , B23K26/38 , B26D5/00 , B26D5/007 , B26F3/004 , G05B2219/35215 , G06Q10/04 , Y02P80/40
摘要：本發明係有關於一種由具有相對大尺寸之一四角基材切割出一或多種具有相對小的尺寸之四角單元片體的方法，其係使用具有多個切割器之一切割框架以製造四角單元片體；該方法包括：(a)一檢查步驟，其係於一四角基材的一縱向以及一橫向方向對其進行掃描，以檢查四角基材上的缺陷位置；(b)一計算步驟，其係計算以二或多種切割框架虛擬切割四角基材時之一產量；(c)一選擇步驟，其係於計算步驟(b)所計算出之產量的前30％的範圍內選擇出一切割框架；以及(d)一製造步驟，其係使用於選擇步驟(c)中所選擇之切割框架切割四角基材，以製造四角單元片體。
简体摘要：本发明系有关于一种由具有相对大尺寸之一四角基材切割出一或多种具有相对小的尺寸之四角单元片体的方法，其系使用具有多个切割器之一切割框架以制造四角单元片体；该方法包括：(a)一检查步骤，其系于一四角基材的一纵向以及一横向方向对其进行扫描，以检查四角基材上的缺陷位置；(b)一计算步骤，其系计算以二或多种切割框架虚拟切割四角基材时之一产量；(c)一选择步骤，其系于计算步骤(b)所计算出之产量的前30％的范围内选择出一切割框架；以及(d)一制造步骤，其系使用于选择步骤(c)中所选择之切割框架切割四角基材，以制造四角单元片体。

3. 外观设计

TWD137266S 偏光板之承載盒 BOXES FOR CARRYING POLARIZING PLATES 有权
简体标题：偏光板之承载盒 BOXES FOR CARRYING POLARIZING PLATES
公开(公告)号：TWD137266S
公开(公告)日：2010-10-11
申请号：TW098304842
申请日：2009-10-13
申请人： LG化學公司
设计人：金景植 , 張應鎮 , 禹志壎 , 吳廷珉
摘要：【物品用途】本創作係為一種用以裝載液晶面板之偏光板的偏光板承載盒。【創作特點】本創作所請標的為結合形狀及結構之偏光板之承載盒。承載盒的材質是合成樹脂及金屬。本創作之特徵在於，包括有一方形主體、以及主體每一面的獨特幾何圖形之配置。主體前側、及後側分別包括有一具四個凸框之凹槽，且主體的左側、及右側分別包括有一具一凸框之凹槽。本創作承載偏光板如使用狀態參考圖所示。本創作呈現一種融合古典及未來元素的風格。本創作係關於一種新穎、又富創意的設計，其不僅可達到預定的功能，而且又提供一個先前技藝所未有之具美感外觀，並且帶給觀賞者賞心悅目的感受。
简体摘要：【物品用途】本创作系为一种用以装载液晶皮肤之偏光板的偏光板承载盒。【创作特点】本创作所请标的为结合形状及结构之偏光板之承载盒。承载盒的材质是合成树脂及金属。本创作之特征在于，包括有一方形主体、以及主体每一面的独特几何图形之配置。主体前侧、及后侧分别包括有一具四个凸框之凹槽，且主体的左侧、及右侧分别包括有一具一凸框之凹槽。本创作承载偏光板如使用状态参考图所示。本创作呈现一种融合古典及未来元素的风格。本创作系关于一种新颖、又富创意的设计，其不仅可达到预定的功能，而且又提供一个先前技艺所未有之具美感外观，并且带给观赏者赏心悦目的感受。

4. 发明专利

TW201418779A 用於光可定向層中定向處理之感壓黏膜审中-公开
简体标题：用于光可定向层中定向处理之感压黏膜
公开(公告)号：TW201418779A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW103100484
申请日：2011-01-24
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：金信英 , KIM, SIN YOUNG , 尹赫 , YOON, HYUK , 朴鐘聲 , PARK, JONG SUNG , 洪敬寄 , HONG, KYUNG KI , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN , 朴文洙 , PARK, MOON SOO , 許斗寧 , HUH, DOO YOUNG
IPC分类号： G02B27/22
CPC分类号： G02B5/3016 , B29D11/00634 , G02B27/2214 , G02B27/26 , G02F1/133788 , H04N13/31
摘要：本發明係有關於一種用於光可定向層中定向處理之感壓黏膜、層合膜、光學濾光片或立體影像顯示裝置之製備方法。本發明提供光可定向層中定向處理之感壓黏膜及使用感壓黏膜製備光學濾光片之方法，其可使非定向區域之形成降至最低，並可形成具有高準確度之定向圖案。此外，本發明可提供具有優異效能之光學濾光片及立體影像顯示裝置。
简体摘要：本发明系有关于一种用于光可定向层中定向处理之感压黏膜、层合膜、光学滤光片或三維影像显示设备之制备方法。本发明提供光可定向层中定向处理之感压黏膜及使用感压黏膜制备光学滤光片之方法，其可使非定向区域之形成降至最低，并可形成具有高准确度之定向图案。此外，本发明可提供具有优异性能之光学滤光片及三維影像显示设备。

5. 发明专利

TWI413562B 膜卷切割系統之副產物移除裝置有权
简体标题：膜卷切割系统之副产物移除设备
公开(公告)号：TWI413562B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW100120501
申请日：2011-06-13
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD. , NS有限公司 , NS CO., LTD.
发明人：黃晉燮 , HWANG, JIN-SUB , 張應鎮 , JANG, EUNG-JIN , 李裕潣 , LEE, YOO-MIN , 金熙均 , KIM, HEE-GOON , 李世鎔 , LEE, SEE-YONG
IPC分类号： B23K26/16 , B23K26/38

6. 发明专利

TW201231237A 膜捲切割系統之膜捲吸入裝置 FILM ROLL SUCTION DEVICE OF FILM ROLL CUTTING SYSTEM 审中-公开
简体标题：膜卷切割系统之膜卷吸入设备 FILM ROLL SUCTION DEVICE OF FILM ROLL CUTTING SYSTEM
公开(公告)号：TW201231237A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100120502
申请日：2011-06-13
申请人： LG化學公司 , NS有限公司
发明人：黃晉燮 , 張應鎮 , 李裕潣 , 金熙均 , 李世鎔
IPC分类号： B26D , B23K , B65H
摘要：本發明係有關於一種膜捲切割系統之膜捲吸入裝置，其係於一寬度方向切割一移動膜捲。該膜捲吸入裝置包括：一吸引件，係具有複數吸孔，以藉由一真空固定該膜捲；複數真空管線，係將該吸孔連接至一真空幫浦；以及一真空分隔件，係當該膜捲置於該吸孔上時提供真空至該吸孔，當該膜捲非置於該吸孔上時不提供真空至該吸孔。
简体摘要：本发明系有关于一种膜卷切割系统之膜卷吸入设备，其系于一宽度方向切割一移动膜卷。该膜卷吸入设备包括：一吸引件，系具有复数吸孔，以借由一真空固定该膜卷；复数真空管线，系将该吸孔连接至一真空帮浦；以及一真空分隔件，系当该膜卷置于该吸孔上时提供真空至该吸孔，当该膜卷非置于该吸孔上时不提供真空至该吸孔。

7. 发明专利

TW201141648A 偏光片之製造方法 METHOD FOR FABRICATING POLARIZER 审中-公开
简体标题：偏光片之制造方法 METHOD FOR FABRICATING POLARIZER
公开(公告)号：TW201141648A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099120431
申请日：2010-06-23
申请人： LG化學公司
发明人：張應鎮 , 李世鎔 , 朴鐘奭 , 高蓮鎬 , 黃晉燮
IPC分类号： B23K , G02B
CPC分类号： B29C55/023 , B29C37/0075 , B29K2031/04 , B29K2995/0034 , B32B37/12 , B32B38/162 , B32B2038/0028 , B32B2307/42 , G02B5/3041
摘要：本發明係有關於一種偏光片之製造方法，其包括：製備、清洗及乾燥一PVA膜、一第一TAC膜、一第二TAC膜、一保護膜及一離型膜；拉伸該PAV膜，並堆疊第一TAC膜、PVA膜及第二TAC膜；塗覆一黏著劑於第二TAC膜之表面，再堆疊該離型膜於其上，並將保護膜層壓至第一TAC膜之表面，以形成偏光片；檢測該偏光片；使用雷射將檢測過之偏光片切割並裁剪成各個產品；以及封裝雷射裁剪後之產品。該偏光片之製備方法可藉由簡化偏光片之裁剪及檢測步驟來降低製作成本，並改善偏光片之切割表面品質及偏光片之均勻度。
简体摘要：本发明系有关于一种偏光片之制造方法，其包括：制备、清洗及干燥一PVA膜、一第一TAC膜、一第二TAC膜、一保护膜及一离型膜；拉伸该PAV膜，并堆栈第一TAC膜、PVA膜及第二TAC膜；涂覆一黏着剂于第二TAC膜之表面，再堆栈该离型膜于其上，并将保护膜层压至第一TAC膜之表面，以形成偏光片；检测该偏光片；使用激光将检测过之偏光片切割并裁剪成各个产品；以及封装激光裁剪后之产品。该偏光片之制备方法可借由简化偏光片之裁剪及检测步骤来降低制作成本，并改善偏光片之切割表面品质及偏光片之均匀度。

8. 发明专利

TWI447446B 製造偏光膜之裝置及其製造方法有权
简体标题：制造偏光膜之设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI447446B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW100119567
申请日：2011-06-03
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：李鎬敬 , LEE, HO KYUNG , 李昶松 , LEE, CHANG SONG , 李圭滉 , LEE, KYU HWANG , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN , 羅重錫 , NAH, JOONG SUK
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/08
CPC分类号： G02B5/30 , B29C55/026 , B29C55/04 , B29D7/01 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3033

9. 发明专利

TW201323943A 用於控制偏光膜顏色之裝置及其控制方法审中-公开
简体标题：用于控制偏光膜颜色之设备及其控制方法
公开(公告)号：TW201323943A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101134412
申请日：2012-09-20
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：李昶松 , LEE, CHANG SONG , 李鎬敬 , LEE, HO KYUNG , 李應淇 , LEE, EUNGKI , 金大鉉 , KIM, DAEHYEON , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN
IPC分类号： G02B5/30 , B29C55/02 , B29D7/01 , B29D11/00 , B29K29/00
CPC分类号： G02B5/3033 , B05C3/09 , B05D1/18 , G02B1/08 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/3041
摘要：本發明係提供一種用於控制一薄膜之顏色的裝置，其中該薄膜透過一連續製程藉由利用碘和鉀將一基材薄膜染色，然後將該經染色的薄膜進行定向，而呈現偏光性質(‘偏光膜’)其中該裝置包括一染色槽以將一清洗後的聚乙烯醇薄膜浸入一水性碘溶液以及一水性鉀溶液中然後隨即將該聚乙烯醇薄膜染色，該染色槽包括一碘密度計以及一鉀密度計測量碘和鉀的濃度；一互補槽以將該聚乙烯醇薄膜浸入一水性鉀溶液中，然後隨即將該聚乙烯醇薄膜染色，該互補槽包括一鉀密度計測量鉀的濃度；一裝置爐以乾燥該具有經定向之碘和鉀的聚乙烯醇薄膜，該裝置爐包括一裝置爐溫度計測量該裝置爐的溫度；一4階段爐以乾燥於該裝置爐中乾燥之該聚乙烯醇薄膜，該4階段爐包括一4階段爐溫度計測量該4階段爐的溫度；以及一中央控制器，依據關於透過該染色槽之該碘和鉀密度計、該互補槽之該制器，依據關於透過該染色槽之該碘和鉀密度計、該互補槽之該鉀密度計、以及該裝置爐及該4階段爐之該溫度計所測量之輸入資料特徵的訊息、以及依據導入該連續製程中之該聚乙烯醇薄膜之特徵的相關訊息，以預測該偏光膜的色值，並且用以控制該裝置爐及該4階段爐的溫度以及饋料至該染色槽及互補槽的組成物之用量。
简体摘要：本发明系提供一种用于控制一薄膜之颜色的设备，其中该薄膜透过一连续制程借由利用碘和钾将一基材薄膜染色，然后将该经染色的薄膜进行定向，而呈现偏光性质(‘偏光膜’)其中该设备包括一染色槽以将一清洗后的聚乙烯醇薄膜浸入一水性碘溶液以及一水性钾溶液中然后随即将该聚乙烯醇薄膜染色，该染色槽包括一碘密度计以及一钾密度计测量碘和钾的浓度；一互补槽以将该聚乙烯醇薄膜浸入一水性钾溶液中，然后随即将该聚乙烯醇薄膜染色，该互补槽包括一钾密度计测量钾的浓度；一设备炉以干燥该具有经定向之碘和钾的聚乙烯醇薄膜，该设备炉包括一设备炉温度计测量该设备炉的温度；一4阶段炉以干燥于该设备炉中干燥之该聚乙烯醇薄膜，该4阶段炉包括一4阶段炉温度计测量该4阶段炉的温度；以及一中央控制器，依据关于透过该染色槽之该碘和钾密度计、该互补槽之该制器，依据关于透过该染色槽之该碘和钾密度计、该互补槽之该钾密度计、以及该设备炉及该4阶段炉之该温度计所测量之输入数据特征的消息、以及依据导入该连续制程中之该聚乙烯醇薄膜之特征的相关消息，以预测该偏光膜的色值，并且用以控制该设备炉及该4阶段炉的温度以及馈料至该染色槽及互补槽的组成物之用量。

10. 发明专利

TW201305617A 製造偏光膜之裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：制造偏光膜之设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201305617A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW100119567
申请日：2011-06-03
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：李鎬敬 , LEE, HO KYUNG , 李昶松 , LEE, CHANG SONG , 李圭滉 , LEE, KYU HWANG , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN , 羅重錫 , NAH, JOONG SUK
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/08
CPC分类号： G02B5/30 , B29C55/026 , B29C55/04 , B29D7/01 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3033
摘要：本發明為一種製備顯示偏光性質（偏光膜）薄膜之裝置，係藉由使用碘染色基板薄膜，並經由連續程序接著定向該基板薄膜，上述裝置包括：一第一浴槽裝置，配有一溫度計測量第一浴槽之溫度（“第一浴槽溫度計”），其洗淨作為基板薄膜之聚乙烯醇（PVA）薄膜；一第二浴槽裝置，配有一溫度計測量第二浴槽之溫度（“第二浴槽溫度計”）和一密度計測量第二浴槽之濃度（“第二浴槽密度計”），其使已洗淨之PVA薄膜浸泡於碘溶液，並在其內染色；一第三浴槽，其中碘染色PVA薄膜藉由拉伸滾輪延展，因而定向染色碘；一烘箱裝置，配有一溫度計測量烘箱溫度（“烘箱溫度計”），其乾燥碘定向之PVA薄膜；以及一中央控制器，在基於關於輸入數據特性之訊息，其藉由上述第一和第二浴槽和烘箱之溫度計和第二浴槽密度計測定，預測偏光膜之透光率，且關於PVA薄膜特性之訊息導入連續程序，然後，控制第一和第二浴槽和烘箱之溫度，和第二浴槽之進料組成物之數量。
简体摘要：本发明为一种制备显示偏光性质（偏光膜）薄膜之设备，系借由使用碘染色基板薄膜，并经由连续进程接着定向该基板薄膜，上述设备包括：一第一浴槽设备，配有一温度计测量第一浴槽之温度（“第一浴槽温度计”），其洗净作为基板薄膜之聚乙烯醇（PVA）薄膜；一第二浴槽设备，配有一温度计测量第二浴槽之温度（“第二浴槽温度计”）和一密度计测量第二浴槽之浓度（“第二浴槽密度计”），其使已洗净之PVA薄膜浸泡于碘溶液，并在其内染色；一第三浴槽，其中碘染色PVA薄膜借由拉伸滚轮延展，因而定向染色碘；一烘箱设备，配有一温度计测量烘箱温度（“烘箱温度计”），其干燥碘定向之PVA薄膜；以及一中央控制器，在基于关于输入数据特性之消息，其借由上述第一和第二浴槽和烘箱之温度计和第二浴槽密度计测定，预测偏光膜之透光率，且关于PVA薄膜特性之消息导入连续进程，然后，控制第一和第二浴槽和烘箱之温度，和第二浴槽之进料组成物之数量。

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