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1. 发明专利

TWI667552B 用於預測測量方法之效能的方法及裝置、測量方法及裝置有权
简体标题：用于预测测量方法之性能的方法及设备、测量方法及设备
公开(公告)号：TWI667552B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW106142911
申请日：2017-12-07
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/47 , G01N21/95 , G01N21/956 , G03F1/44

2. 发明专利

TW201921181A 用於判定圖案化製程參數的方法审中-公开
简体标题：用于判定图案化制程参数的方法
公开(公告)号：TW201921181A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107132890
申请日：2018-09-19
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 張源宰 , JANG, WON-JAE , 邊珍武 , BYUN, JINMOO
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
摘要：一種用以判定一圖案化製程參數之方法，該方法包含：針對一目標，自藉由運用包含一中心波長之輻射照明該目標所獲得的資料計算用於一中間參數之一第一值；針對該目標，自藉由運用包含兩個不同中心波長之輻射照明該目標所獲得的資料計算用於該中間參數之一第二值；及基於用於該中間參數之該第一值及該第二值計算對於該圖案化製程參數之一組合之量測。
简体摘要：一种用以判定一图案化制程参数之方法，该方法包含：针对一目标，自借由运用包含一中心波长之辐射照明该目标所获得的数据计算用于一中间参数之一第一值；针对该目标，自借由运用包含两个不同中心波长之辐射照明该目标所获得的数据计算用于该中间参数之一第二值；及基于用于该中间参数之该第一值及该第二值计算对于该图案化制程参数之一组合之量测。

3. 发明专利

TWI693483B 用於量測形成於基板上之結構的方法有权
简体标题：用于量测形成于基板上之结构的方法
公开(公告)号：TWI693483B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW108116838
申请日：2018-04-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 廉晉 , LIAN, JIN , 拉赫曼薩米烏爾 , REHMAN, SAMEE UR , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/24

4. 发明专利

TWI663486B 量測方法、器件製造方法、度量衡設備及微影系統有权
简体标题：量测方法、器件制造方法、度量衡设备及微影系统
公开(公告)号：TWI663486B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW107112022
申请日：2018-04-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 廉晉 , LIAN, JIN , 拉赫曼薩米烏爾 , REHMAN,SAMEE UR , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/24

5. 发明专利

TW201837612A 量測結構之方法、檢測設備、微影系統及器件製造方法审中-公开
简体标题：量测结构之方法、检测设备、微影系统及器件制造方法
公开(公告)号：TW201837612A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106143862
申请日：2017-12-14
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
摘要：藉由一微影程序形成一疊對度量衡目標(T)。使用具有一第一角分佈之照明輻射獲得該目標結構之一第一影像(740(0))，該第一影像係使用在一第一方向(X)上繞射之輻射及在一第二方向(Y)上繞射之輻射而形成。使用具有一第二角照明分佈之照明輻射的該目標結構之一第二影像(740(R))，該第二角照明分佈與該第一角分佈相同，但被旋轉90度。可一起使用該第一影像及該第二影像以便鑑別由該目標結構之同一部分在該第一方向上繞射之輻射與在該第二方向上繞射之輻射。此鑑別允許在X及Y上獨立地量測疊對及其他不對稱性相關屬性，即使在該目標結構之該同一部分內存在二維結構的情況下亦如此。
简体摘要：借由一微影进程形成一叠对度量衡目标(T)。使用具有一第一角分布之照明辐射获得该目标结构之一第一影像(740(0))，该第一影像系使用在一第一方向(X)上绕射之辐射及在一第二方向(Y)上绕射之辐射而形成。使用具有一第二角照明分布之照明辐射的该目标结构之一第二影像(740(R))，该第二角照明分布与该第一角分布相同，但被旋转90度。可一起使用该第一影像及该第二影像以便鉴别由该目标结构之同一部分在该第一方向上绕射之辐射与在该第二方向上绕射之辐射。此鉴别允许在X及Y上独立地量测叠对及其他不对称性相关属性，即使在该目标结构之该同一部分内存在二维结构的情况下亦如此。

6. 发明专利

TW201821907A 度量衡配方選擇审中-公开
简体标题：度量衡配方选择
公开(公告)号：TW201821907A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106132953
申请日：2017-09-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/47
摘要：一種方法，其包括：對照堆疊敏感度及疊對敏感度，評估複數個基板量測配方以用於量測使用一圖案化程序進行處理之一度量衡目標；及自該複數個基板量測配方選擇該堆疊敏感度之一值滿足或超越一臨限值且該疊對敏感度之一值在該疊對敏感度之一最大值或最小值的某一有限範圍內的一或多個基板量測配方。
简体摘要：一种方法，其包括：对照堆栈敏感度及叠对敏感度，评估复数个基板量测配方以用于量测使用一图案化进程进行处理之一度量衡目标；及自该复数个基板量测配方选择该堆栈敏感度之一值满足或超越一临限值且该叠对敏感度之一值在该叠对敏感度之一最大值或最小值的某一有限范围内的一或多个基板量测配方。

7. 发明专利

TW201830161A 使用堆疊差異之設計及校正审中-公开
简体标题：使用堆栈差异之设计及校正
公开(公告)号：TW201830161A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138876
申请日：2017-11-10
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蔣愛琴 , JIANG, AIQIN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 文德蘭恩漢斯 , VAN DER LAAN, HANS , 維瑟巴特 , VISSER, BART , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/66 , G01N21/956 , G06F17/50
摘要：一種方法，其包括：獲得依據用於一圖案化程序之一度量衡目標之一堆疊差異參數而變化的用於該度量衡目標之疊對之資料之一擬合；及由一硬體電腦使用該擬合之一斜率以：(i) 區分一度量衡目標量測變因與另一度量衡目標量測變因；或(ii)計算疊對之一經校正值；或(iii)指示應使用或不使用使用該度量衡目標而獲得的一疊對量測值，以組態或修改該圖案化程序之一態樣；或(iv)選自(i)至(iii)中之任何組合。
简体摘要：一种方法，其包括：获得依据用于一图案化进程之一度量衡目标之一堆栈差异参数而变化的用于该度量衡目标之叠对之数据之一拟合；及由一硬件电脑使用该拟合之一斜率以：(i) 区分一度量衡目标量测变因与另一度量衡目标量测变因；或(ii)计算叠对之一经校正值；或(iii)指示应使用或不使用使用该度量衡目标而获得的一叠对量测值，以组态或修改该图案化进程之一态样；或(iv)选自(i)至(iii)中之任何组合。

8. 发明专利

TW201732224A 度量衡方法、目標及基板审中-公开
简体标题：度量衡方法、目标及基板
公开(公告)号：TW201732224A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142816
申请日：2016-12-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 艾伯特馬汀 , EBERT, MARTIN
IPC分类号： G01B11/26 , G01N21/95 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G01B11/26 , G01N21/21 , G01N21/4788 , G01N21/9501 , G02B5/1819 , G02B5/1823 , G02B27/4255 , G02B27/4272 , G03F7/70616 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F7/7085 , G03F9/7049 , G03F9/7076
摘要：本發明揭示一種方法，其涉及：運用具有一第一偏振之一第一輻射光束照明一度量衡目標之至少一第一週期性結構；運用具有一第二不同偏振之一第二輻射光束照明該度量衡目標之至少一第二週期性結構；組合自該第一週期性結構繞射之輻射與自該第二週期性結構繞射之輻射以造成干涉；使用一偵測器偵測該經組合輻射；及自該經偵測之經組合輻射判定一所關注參數。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其涉及：运用具有一第一偏振之一第一辐射光束照明一度量衡目标之至少一第一周期性结构；运用具有一第二不同偏振之一第二辐射光束照明该度量衡目标之至少一第二周期性结构；组合自该第一周期性结构绕射之辐射与自该第二周期性结构绕射之辐射以造成干涉；使用一侦测器侦测该经组合辐射；及自该经侦测之经组合辐射判定一所关注参数。

9. 发明专利

TWI696043B 度量衡配方選擇有权
简体标题：度量衡配方选择
公开(公告)号：TWI696043B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW106132953
申请日：2017-09-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/47

10. 发明专利

TWI679398B 度量衡方法、目標及基板有权
简体标题：度量衡方法、目标及基板
公开(公告)号：TWI679398B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW105142816
申请日：2016-12-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 艾伯特馬汀 , EBERT, MARTIN
IPC分类号： G01B11/26 , G01N21/95 , G03F7/20

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