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1. 发明专利

TW201741656A 用於確定物體的３Ｄ結構的裝置审中-公开
简体标题：用于确定物体的３Ｄ结构的设备
公开(公告)号：TW201741656A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106114113
申请日：2017-04-27
申请人：沃柯公司 , VOCO GMBH
发明人：紐特爾亞歷山大 , KNUETTEL, ALEXANDER
IPC分类号： G01N23/20 , G01J1/24
CPC分类号： G01B9/02047 , G01B9/02007 , G01B9/02059 , G01B11/2441 , G01N21/4795 , G03H1/0443 , G03H1/0465 , G03H2001/0033 , G03H2210/30 , G03H2222/13
摘要：本發明涉及用於確定物體的3D結構的裝置，包括產生第一波長的雷射輻射的第一雷射發射器和產生與第一波長不同的第二波長的雷射輻射的第二雷射發射器，還包括將雷射發射器的雷射輻射分成參考輻射和照射輻射的第一分束器，照射輻射撞擊在待測量物體上，被物體反射為物體輻射並與參考輻射干涉。檢測器記錄所得的干涉圖案。裝置還包括選擇全息圖，其被設計成專屬地使以預定入射角範圍撞擊在其上的物體輻射偏轉，使物體輻射在其進一步路徑上撞擊在檢測器的確定區域上。選擇全息圖還被設計成允許在入射角範圍之外撞擊在選擇全息圖上的物體輻射通過而不被繞射，使其在進一步的路徑上或經過檢測器的確定區域或以確定角度範圍之外的角度撞擊在確定區域上。
简体摘要：本发明涉及用于确定物体的3D结构的设备，包括产生第一波长的激光辐射的第一激光发射器和产生与第一波长不同的第二波长的激光辐射的第二激光发射器，还包括将激光发射器的激光辐射分成参考辐射和照射辐射的第一分束器，照射辐射撞击在待测量物体上，被物体反射为物体辐射并与参考辐射干涉。检测器记录所得的干涉图案。设备还包括选择全息图，其被设计成专属地使以预定入射角范围撞击在其上的物体辐射偏转，使物体辐射在其进一步路径上撞击在检测器的确定区域上。选择全息图还被设计成允许在入射角范围之外撞击在选择全息图上的物体辐射通过而不被绕射，使其在进一步的路径上或经过检测器的确定区域或以确定角度范围之外的角度撞击在确定区域上。

2. 发明专利

TW201842414A 量測方法、器件製造方法、度量衡設備及微影系統审中-公开
简体标题：量测方法、器件制造方法、度量衡设备及微影系统
公开(公告)号：TW201842414A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107112022
申请日：2018-04-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 廉晉 , LIAN, JIN , 薩米-烏爾-拉赫曼 NA , SAMEE-UR-REHMAN, NA , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/24
摘要：本發明揭示用於量測形成於一基板上之複數個結構之方法及設備。在一項配置中，一種方法包含自一第一量測程序獲得資料。該第一量測程序包含個別地量測該複數個結構中之每一者以量測該結構之一第一屬性。一第二量測程序用以量測該複數個結構中之每一者之一第二屬性。該第二量測程序包含運用輻射來照明每一結構，該輻射具有針對彼結構使用用於該結構之該經量測第一屬性而個別選擇的一輻射屬性。
简体摘要：本发明揭示用于量测形成于一基板上之复数个结构之方法及设备。在一项配置中，一种方法包含自一第一量测进程获得数据。该第一量测进程包含个别地量测该复数个结构中之每一者以量测该结构之一第一属性。一第二量测进程用以量测该复数个结构中之每一者之一第二属性。该第二量测进程包含运用辐射来照明每一结构，该辐射具有针对彼结构使用用于该结构之该经量测第一属性而个别选择的一辐射属性。

3. 发明专利

TW201606272A 紅外線光點辨識系統审中-公开
简体标题：红外线光点辨识系统
公开(公告)号：TW201606272A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103127417
申请日：2014-08-11
申请人：吳啓偉 , WU, CHI WEI
发明人：吳啓偉 , WU, CHI WEI , 林亞澤 , LIN, YA ZE
IPC分类号： G01J1/24 , G06K19/08 , G06K9/78
摘要：本發明提出了一種紅外線光點辨識系統，運用具有發射不同光點大小或光點形狀之紅外線發射裝置、紅外線影像擷取單元及影像處理技術，進行多個紅外線光點之辨識，藉以識別紅外線發射光源身份，提供所需發射光源辨識資料。本發明裝置主要包含有：一紅外線發射單元、顯示幕、一紅外線影像擷取單元、一系統處理單元(含影像處理程式)。
简体摘要：本发明提出了一种红外线光点辨识系统，运用具有发射不同光点大小或光点形状之红外线发射设备、红外线影像截取单元及影像处理技术，进行多个红外线光点之辨识，借以识别红外线发射光源身份，提供所需发射光源辨识数据。本发明设备主要包含有：一红外线发射单元、显示幕、一红外线影像截取单元、一系统处理单元(含影像处理进程)。

4. 发明专利

TW201341764A 非接觸式光源感測系統审中-公开
简体标题：非接触式光源传感系统
公开(公告)号：TW201341764A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101112829
申请日：2012-04-11
申请人：義明科技股份有限公司 , EMINENT ELECTRONIC TECHNOLOGY CORPORATION
发明人：吳高彬 , WU, KAO PIN , 莊政達 , CHUANG, CHENG TA
IPC分类号： G01J1/34 , G01J1/24 , G01J1/44
摘要：本發明提供一種非接觸式光源感測系統包含一亂碼產生器、控制器、以及至少一LED暨光感測器；其中，該LED暨光感測器更包含一LED光源與一光感測器。該亂碼產生器可以產生隨機亂數以作為本系統所用的識別碼，以確保系統每次重新開機，會產生的識別碼皆不相同，可以達到保密安全的要求。亂碼產生器所產生的識別碼經由控制器分別傳至各個LED暨光感測器內的LED光源來發送該識別碼。每個LED暨光感測器內的光感測器會根據所接收反射光裡的識別碼，利用內部的一鑑別器來判別是由哪個LED光源所發送的。該鑑別器更包含一二元決定器、一比較器、一開關器、以及一動態臨界位準計算器來完成動態決定臨界值與判斷識別碼的功能。
简体摘要：本发明提供一种非接触式光源传感系统包含一乱码产生器、控制器、以及至少一LED暨光传感器；其中，该LED暨光传感器更包含一LED光源与一光传感器。该乱码产生器可以产生随机乱数以作为本系统所用的识别码，以确保系统每次重新开机，会产生的识别码皆不相同，可以达到保密安全的要求。乱码产生器所产生的识别码经由控制器分别传至各个LED暨光传感器内的LED光源来发送该识别码。每个LED暨光传感器内的光传感器会根据所接收反射光里的识别码，利用内部的一鉴别器来判别是由哪个LED光源所发送的。该鉴别器更包含一二元决定器、一比较器、一开关器、以及一动态临界位准计算器来完成动态决定临界值与判断识别码的功能。

5. 发明专利

TWI693483B 用於量測形成於基板上之結構的方法有权
简体标题：用于量测形成于基板上之结构的方法
公开(公告)号：TWI693483B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW108116838
申请日：2018-04-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 廉晉 , LIAN, JIN , 拉赫曼薩米烏爾 , REHMAN, SAMEE UR , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/24

6. 发明专利

TWI663486B 量測方法、器件製造方法、度量衡設備及微影系統有权
简体标题：量测方法、器件制造方法、度量衡设备及微影系统
公开(公告)号：TWI663486B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW107112022
申请日：2018-04-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 廉晉 , LIAN, JIN , 拉赫曼薩米烏爾 , REHMAN,SAMEE UR , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/24

7. 发明专利

TWI481831B 非接觸式光源感測系統有权
简体标题：非接触式光源传感系统
公开(公告)号：TWI481831B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW101112829
申请日：2012-04-11
申请人：義明科技股份有限公司 , EMINENT ELECTRONIC TECHNOLOGY CORPORATION
发明人：吳高彬 , WU, KAO PIN , 莊政達 , CHUANG, CHENG TA
IPC分类号： G01J1/34 , G01J1/24 , G01J1/44

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