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1. 发明专利

TWI480692B 親水性光致產酸劑和包含它的抗蝕劑組成物有权
简体标题：亲水性光致产酸剂和包含它的抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TWI480692B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW101149859
申请日：2012-12-25
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：尹隊卿 , YOON, DAE KYUNG , 柳京辰 , RYU, KYOUNG JIN , 李承宰 , LEE, SUNG JAE , 朱炫相 , JOO, HYUN SANG
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F20/38 , C08F220/38
CPC分类号： G03F7/031 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/114 , Y10S430/115

2. 发明专利

TWI423952B 鋶鹽的製備方法及以該方法製備的鋶鹽有权
简体标题：锍盐的制备方法及以该方法制备的锍盐
公开(公告)号：TWI423952B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW099127770
申请日：2010-08-19
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 朴相昱 , PARK, SANG-WOOK , 李承宰 , LEE, SEUNG-JAE , 高成保 , KO, SUNG-BO , 尹盛俊 , YOON, SUNG-JUN
IPC分类号： C07C381/12

3. 发明专利

TWI481627B 新穎共聚物及包含該共聚物之光阻組成物有权
简体标题：新颖共聚物及包含该共聚物之光阻组成物
公开(公告)号：TWI481627B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW099118162
申请日：2010-06-04
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：朴蘭羅 , PARK, RAN-RA , 徐東轍 , SEO, DONG-CHEOL , 李承宰 , LEE, SUNG-JAE , 任鉉淳 , LIM, HYUN-SOON
IPC分类号： C08F232/08 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/039

4. 发明专利

TW201329624A 親水性光致產酸劑和包含它的抗蝕劑組成物审中-公开
简体标题：亲水性光致产酸剂和包含它的抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TW201329624A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101149859
申请日：2012-12-25
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：尹隊卿 , YOON, DAE KYUNG , 柳京辰 , RYU, KYOUNG JIN , 李承宰 , LEE, SUNG JAE , 朱炫相 , JOO, HYUN SANG
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/01 , C07C381/12 , C08F220/26 , C08F220/38 , C08F232/08
CPC分类号： G03F7/031 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要：本發明公開了一種親水性光致產酸劑和含有它的抗蝕劑組成物，所述親水性光致產酸劑由具有以下式1或2所示結構的第一(甲基)丙烯酸酯和選自第二(甲基)丙烯酸酯、烯烴類化合物及它們的混合物中的可聚合單體共聚而製得，該可聚合單體的每一種包含選自羥基、羧基、內酯基、腈基和鹵素基團所構成的族群中的官能團：其中，各個取代基在說明書中限定。所述親水性光致產酸劑均勻地分散在抗蝕劑膜中，從而改善了抗蝕劑圖案的線邊緣粗糙度。
简体摘要：本发明公开了一种亲水性光致产酸剂和含有它的抗蚀剂组成物，所述亲水性光致产酸剂由具有以下式1或2所示结构的第一(甲基)丙烯酸酯和选自第二(甲基)丙烯酸酯、烯烃类化合物及它们的混合物中的可聚合单体共聚而制得，该可聚合单体的每一种包含选自羟基、羧基、内酯基、腈基和卤素基团所构成的族群中的官能团：其中，各个取代基在说明书中限定。所述亲水性光致产酸剂均匀地分散在抗蚀剂膜中，从而改善了抗蚀剂图案的线边缘粗糙度。

5. 发明专利

TWI465418B 化合物、含有該化合物的聚合物及含有該聚合物的化學放大型光阻組成物有权
简体标题：化合物、含有该化合物的聚合物及含有该聚合物的化学放大型光阻组成物
公开(公告)号：TWI465418B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW100119974
申请日：2011-06-08
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO. LTD.
发明人：朱炫相 , JOO, HYUN-SANG , 韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 李承宰 , LEE, SEUNG-JAE , 金惠淵 , KIM, HYE-YEON
IPC分类号： C07C309/06 , C08F20/38 , G03F7/004

6. 发明专利

TWI434864B 化合物及含有該化合物的光阻組成物有权
简体标题：化合物及含有该化合物的光阻组成物
公开(公告)号：TWI434864B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW099144297
申请日：2010-12-16
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO. LTD.
发明人：韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 趙承德 , CHO, SEUNG-DUK , 吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 李承宰 , LEE, SEUNG-JAE
IPC分类号： C08F255/02 , G03F7/004

7. 发明专利

TW201144265A 化合物、含有該化合物的聚合物及含有該聚合物的化學放大型光阻組成物 COMPOUND, POLYMER COMPRISING THE COMPOUND, AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER 审中-公开
简体标题：化合物、含有该化合物的聚合物及含有该聚合物的化学放大型光阻组成物 COMPOUND, POLYMER COMPRISING THE COMPOUND, AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER
公开(公告)号：TW201144265A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW100119974
申请日：2011-06-08
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：朱炫相 , 韓俊熙 , 李承宰 , 金惠淵
IPC分类号： C07C , C08F , G03F
摘要：本發明提供一種化合物、含有此化合物之聚合物及包含該聚合物之化學放大型光阻組成物，且提供由下式(1)表示之化合物及含有所述化合物作為單體之聚合物。
其中在式(1)中，R11、Q1、Q2及A+之定義如說明書中所述。當在化學放大型光阻組成物中使用該化合物及含有此化合物作為單體之聚合物時，光阻組成物可具有優良之敏感性及較高之穩定性同時氣體排放量減少，且可具有較高之解析度及較低之線邊粗糙度。
简体摘要：本发明提供一种化合物、含有此化合物之聚合物及包含该聚合物之化学放大型光阻组成物，且提供由下式(1)表示之化合物及含有所述化合物作为单体之聚合物。其中在式(1)中，R11、Q1、Q2及A+之定义如说明书中所述。当在化学放大型光阻组成物中使用该化合物及含有此化合物作为单体之聚合物时，光阻组成物可具有优良之敏感性及较高之稳定性同时气体排放量减少，且可具有较高之分辨率及较低之线边粗糙度。

8. 发明专利

TW201113247A 鋶鹽的製備方法及以該方法製備的鋶鹽 METHOD FOR PREPARING SULFONIUM SALT AND SULFONIUM SALT PREPARED BY THE SAME 审中-公开
简体标题：锍盐的制备方法及以该方法制备的锍盐 METHOD FOR PREPARING SULFONIUM SALT AND SULFONIUM SALT PREPARED BY THE SAME
公开(公告)号：TW201113247A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW099127770
申请日：2010-08-19
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：吳貞薰 , 韓俊熙 , 朴相昱 , 李承宰 , 高成保 , 尹盛俊
IPC分类号： C07C
摘要：一種製備鹽之方法以及以此方法製備之鹽。所述製備鹽之方法包括使由以下式(1)表示之化合物與醇及胺反應以獲得銨鹽之第一步驟;以及使所述銨鹽與還原劑及無機鹼反應以獲得由以下式(2)表示之化合物之第二步驟:[式1]

[式2]

其中在式(1)及(2)中,R1及R2各自獨立地表示選自由以下組成之群的任一者:鹵素原子、羥基、羧基、基、醛基、環氧基、烷基、環烷基、雜環烷基、芳基以及雜芳基;Q1及Q2各自獨立地表示選自由以下組成之群的任一者:氫原子、鹵素原子以及全氟烷基;M表示選自由以下組成之群的任一者:Li、Na、K以及Ag;且n為1至10之整數。所述製備鹽之方法採用簡單反應步驟,不需要純化過程,且不會伴隨有以下問題:反應中間物質在純化過程期間黏附於反應容器,從而導致產率降低。
简体摘要：一种制备盐之方法以及以此方法制备之盐。所述制备盐之方法包括使由以下式(1)表示之化合物与醇及胺反应以获得铵盐之第一步骤;以及使所述铵盐与还原剂及无机碱反应以获得由以下式(2)表示之化合物之第二步骤:[式1] [式2] 其中在式(1)及(2)中,R1及R2各自独立地表示选自由以下组成之群的任一者:卤素原子、羟基、羧基、基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基以及杂芳基;Q1及Q2各自独立地表示选自由以下组成之群的任一者:氢原子、卤素原子以及全氟烷基;M表示选自由以下组成之群的任一者:Li、Na、K以及Ag;且n为1至10之整数。所述制备盐之方法采用简单反应步骤,不需要纯化过程,且不会伴随有以下问题:反应中间物质在纯化过程期间黏附于反应容器,从而导致产率降低。

9. 发明专利

TW201107353A 新穎共聚物及包含該共聚物之光阻組成物 NOVEL COPOLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME 审中-公开
简体标题：新颖共聚物及包含该共聚物之光阻组成物 NOVEL COPOLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
公开(公告)号：TW201107353A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099118162
申请日：2010-06-04
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：朴蘭羅 , 徐東轍 , 李承宰 , 任鉉淳
IPC分类号： C08F , G03F
摘要：提供包含由下列化學式1至4所代表的單體之一種新穎共聚物，及含有該共聚物之一種光阻組成物：
其中在化學式1至4中，R1至R10各獨立地代表選自由一個鹵素原子、一羥基、一羧基、一腈基、一醛基、一環氧基、一烷基、一環烷基、一雜環烷基、一芳基及一雜芳基所組成之群組之任一者；a係自0至10之一整數；b係自0至14之一整數；及l、m、n及o係符合諸如l+m+n+o=1、0.01＜l/(l+m+n+o)＜0.4、0＜m/(l+m+n+o)＜0.6、0≦n/(l+m+n+o)＜0.6及0＜o/(l+m+n+o)＜0.4的關係式之整數。該共聚物迅速地溶於常用溶劑中，及輕易地溶於大部分的溶劑中。依引入其中的烯烴量而定，可將共聚物製成具有所欲分子量之樹脂，及因而毋需使用分子量控制劑即可製造。
简体摘要：提供包含由下列化学式1至4所代表的单体之一种新颖共聚物，及含有该共聚物之一种光阻组成物：其中在化学式1至4中，R1至R10各独立地代表选自由一个卤素原子、一羟基、一羧基、一腈基、一醛基、一环氧基、一烷基、一环烷基、一杂环烷基、一芳基及一杂芳基所组成之群组之任一者；a系自0至10之一整数；b系自0至14之一整数；及l、m、n及o系符合诸如l+m+n+o=1、0.01＜l/(l+m+n+o)＜0.4、0＜m/(l+m+n+o)＜0.6、0≦n/(l+m+n+o)＜0.6及0＜o/(l+m+n+o)＜0.4的关系式之整数。该共聚物迅速地溶于常用溶剂中，及轻易地溶于大部分的溶剂中。依引入其中的烯烃量而定，可将共聚物制成具有所欲分子量之树脂，及因而毋需使用分子量控制剂即可制造。

10. 发明专利

TW201239527A 包括新丙烯酸系單體的光刻膠用共聚物和包括其的光刻膠用樹脂合成物 COPOLYMER FOR RESIS COMPRISING NOVEL ACRY BASED MONOMER AND RESIN COMPOSITION FOR RESIST COMPRISING THE SAME 审中-公开
简体标题：包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物 COPOLYMER FOR RESIS COMPRISING NOVEL ACRY BASED MONOMER AND RESIN COMPOSITION FOR RESIST COMPRISING THE SAME
公开(公告)号：TW201239527A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100122523
申请日：2011-06-28
申请人：韓國錦湖石油化學股份有限公司
发明人：申珍奉 , 金真湖 , 申大鉉 , 李承宰
IPC分类号： G03F , C08F , C08J
CPC分类号： C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/40 , C08F222/14 , C08F222/26 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：根據本發明的一個實施例的光刻膠用樹脂合成物,包括:100個重量單位的以下列化學式3表示的共聚物;0.5到15個重量單位的光酸發生劑;和700到1500個重量單位的溶劑。

在該化學式中,R1、R2和R3分別相互獨立地表示包括或不包括氫基、醚基(ether group)、酯基(ester group)、羰基(carbonyl group)、縮醛基(acetal group)、環氧基(epoxy group)、基(nitrile group)、醛基(aldehyde group)的C1-30的烷基(alkyl group)或C3-30的環烷基(cyclo alkyl group),R4、R5和R6分別相互獨立地表示氫基或甲基(methyl group),l、m、n和o作為分別表示主鎖內重複單位的數目,具有l+m+n+o=1、0≦l/(l+m+n+o)
简体摘要：根据本发明的一个实施例的光刻胶用树脂合成物,包括:100个重量单位的以下列化学式3表示的共聚物;0.5到15个重量单位的光酸发生剂;和700到1500个重量单位的溶剂。在该化学式中,R1、R2和R3分别相互独立地表示包括或不包括氢基、醚基(ether group)、酯基(ester group)、羰基(carbonyl group)、缩醛基(acetal group)、环氧基(epoxy group)、基(nitrile group)、醛基(aldehyde group)的C1-30的烷基(alkyl group)或C3-30的环烷基(cyclo alkyl group),R4、R5和R6分别相互独立地表示氢基或甲基(methyl group),l、m、n和o作为分别表示主锁内重复单位的数目,具有l+m+n+o=1、0≦l/(l+m+n+o)<0.4、0

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