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1. 发明专利

TW201238942A 光酸產生劑、其製造方法以及含有其的抗蝕劑組成物 PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME 审中-公开
简体标题：光酸产生剂、其制造方法以及含有其的抗蚀剂组成物 PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
公开(公告)号：TW201238942A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101103769
申请日：2012-02-06
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：吳貞薰 , 申珍奉 , 金兌坤 , 徐東轍
IPC分类号： C07C , G03F
CPC分类号： C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：提供一種由下列式(1)表示的光酸產生劑、光酸產生劑的製造方法以及含有此光酸產生劑的抗蝕劑組成物。

其中,在式(1)中,Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2及A+擁有與本發明的實施方式中所定義者相同的意義。此光酸產生劑可以在ArF液體浸漬微影時維持適當的接觸角度、可以在液體浸漬微影期間減少缺陷發生、在抗蝕劑溶劑裡具有極好的溶解性以及和樹脂具有極好的相容性。此外,此光酸產生劑可用有效率又簡單的方法,即可用業界輕易可得的環氧化合物來製造。
简体摘要：提供一种由下列式(1)表示的光酸产生剂、光酸产生剂的制造方法以及含有此光酸产生剂的抗蚀剂组成物。其中,在式(1)中,Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2及A+拥有与本发明的实施方式中所定义者相同的意义。此光酸产生剂可以在ArF液体浸渍微影时维持适当的接触角度、可以在液体浸渍微影期间减少缺陷发生、在抗蚀剂溶剂里具有极好的溶解性以及和树脂具有极好的兼容性。此外,此光酸产生剂可用有效率又简单的方法,即可用业界轻易可得的环氧化合物来制造。

2. 发明专利

TW201003316A 化學增幅型光阻組成物之酸發生劑 ACID GENERATING AGENT FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：化学增幅型光阻组成物之酸发生剂 ACID GENERATING AGENT FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW201003316A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW098112533
申请日：2009-04-15
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：金真湖 , 吳貞薰 , 任鉉淳
IPC分类号： G03F , C07C
CPC分类号： C07C309/68 , C07C329/06 , C07C381/12 , C07C2602/42 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：一種酸產生劑，其以下式(1)或(2)表示且包含於化學增幅型光阻組成物中：
在式(1)與(2)中，X代表具有1至20個碳原子且選自烷基、鹵烷基以及烷磺醯基的未取代或取代烷基，其可能至少有一個氫原子經醚基、酯基、羰基、縮醛基、腈基、氰基、氫氧基、羧基或醛基取代，或X代表具有1至4個碳原子的全氟烷基；R6代表具有1至10個碳原子的烷基、具有1至10個碳原子的烷氧基或選自氮、硫、氟以及氧的異原子；m為0至2的整數；以及A+為有機反離子。相較於以具大體積脂環族環之陰離子為主的光酸產生劑，以及具相對短鏈與具有厭水特性的光酸產生劑(如三氟甲基磺酸型或全氟丁基磺酸型發生劑)，本發明之實施例的酸產生劑在擴散速度或分佈性中具有中等物理特性，因此有利於控制擴散速度或分佈性，以實現具有高解析度的光阻。
简体摘要：一种酸产生剂，其以下式(1)或(2)表示且包含于化学增幅型光阻组成物中：在式(1)与(2)中，X代表具有1至20个碳原子且选自烷基、卤烷基以及烷磺酰基的未取代或取代烷基，其可能至少有一个氢原子经醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、氢氧基、羧基或醛基取代，或X代表具有1至4个碳原子的全氟烷基；R6代表具有1至10个碳原子的烷基、具有1至10个碳原子的烷氧基或选自氮、硫、氟以及氧的异原子；m为0至2的整数；以及A+为有机反离子。相较于以具大体积脂环族环之阴离子为主的光酸产生剂，以及具相对短链与具有厌水特性的光酸产生剂(如三氟甲基磺酸型或全氟丁基磺酸型发生剂)，本发明之实施例的酸产生剂在扩散速度或分布性中具有中等物理特性，因此有利于控制扩散速度或分布性，以实现具有高分辨率的光阻。

3. 发明专利

TWI434864B 化合物及含有該化合物的光阻組成物有权
简体标题：化合物及含有该化合物的光阻组成物
公开(公告)号：TWI434864B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW099144297
申请日：2010-12-16
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO. LTD.
发明人：韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 趙承德 , CHO, SEUNG-DUK , 吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 李承宰 , LEE, SEUNG-JAE
IPC分类号： C08F255/02 , G03F7/004

4. 发明专利

TW201113247A 鋶鹽的製備方法及以該方法製備的鋶鹽 METHOD FOR PREPARING SULFONIUM SALT AND SULFONIUM SALT PREPARED BY THE SAME 审中-公开
简体标题：锍盐的制备方法及以该方法制备的锍盐 METHOD FOR PREPARING SULFONIUM SALT AND SULFONIUM SALT PREPARED BY THE SAME
公开(公告)号：TW201113247A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW099127770
申请日：2010-08-19
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：吳貞薰 , 韓俊熙 , 朴相昱 , 李承宰 , 高成保 , 尹盛俊
IPC分类号： C07C
摘要：一種製備鹽之方法以及以此方法製備之鹽。所述製備鹽之方法包括使由以下式(1)表示之化合物與醇及胺反應以獲得銨鹽之第一步驟;以及使所述銨鹽與還原劑及無機鹼反應以獲得由以下式(2)表示之化合物之第二步驟:[式1]

[式2]

其中在式(1)及(2)中,R1及R2各自獨立地表示選自由以下組成之群的任一者:鹵素原子、羥基、羧基、基、醛基、環氧基、烷基、環烷基、雜環烷基、芳基以及雜芳基;Q1及Q2各自獨立地表示選自由以下組成之群的任一者:氫原子、鹵素原子以及全氟烷基;M表示選自由以下組成之群的任一者:Li、Na、K以及Ag;且n為1至10之整數。所述製備鹽之方法採用簡單反應步驟,不需要純化過程,且不會伴隨有以下問題:反應中間物質在純化過程期間黏附於反應容器,從而導致產率降低。
简体摘要：一种制备盐之方法以及以此方法制备之盐。所述制备盐之方法包括使由以下式(1)表示之化合物与醇及胺反应以获得铵盐之第一步骤;以及使所述铵盐与还原剂及无机碱反应以获得由以下式(2)表示之化合物之第二步骤:[式1] [式2] 其中在式(1)及(2)中,R1及R2各自独立地表示选自由以下组成之群的任一者:卤素原子、羟基、羧基、基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基以及杂芳基;Q1及Q2各自独立地表示选自由以下组成之群的任一者:氢原子、卤素原子以及全氟烷基;M表示选自由以下组成之群的任一者:Li、Na、K以及Ag;且n为1至10之整数。所述制备盐之方法采用简单反应步骤,不需要纯化过程,且不会伴随有以下问题:反应中间物质在纯化过程期间黏附于反应容器,从而导致产率降低。

5. 发明专利

TWI465419B 光酸產生劑、其製造方法以及含有其的抗蝕劑組成物有权
简体标题：光酸产生剂、其制造方法以及含有其的抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TWI465419B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101103603
申请日：2012-02-03
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 尹隊卿 , YOON, DAE KYUNG , 洪容和 , HONG, YONG HWA , 趙承德 , CHO, SEUNG DUK
IPC分类号： C07C309/06 , C07C303/32 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , G03F7/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397

6. 发明专利

TWI434863B 共聚物、該共聚物的製造方法以及含有該共聚物的光阻組成物有权
简体标题：共聚物、该共聚物的制造方法以及含有该共聚物的光阻组成物
公开(公告)号：TWI434863B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW100145873
申请日：2011-12-13
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO. LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 金兌坤 , KIM, TAE GON , 朱炫相 , JOO, HYUN-SANG
IPC分类号： C08F222/08 , G03F7/004
CPC分类号： C08G63/668 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/2039

7. 发明专利

TW201307274A 鋶化合物、光酸產生劑以及抗蝕劑組成物审中-公开
简体标题：锍化合物、光酸产生剂以及抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TW201307274A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101120214
申请日：2012-06-06
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG HOON , 尹隊卿 , YOON, DAE KYUNG , 趙承德 , CHO, SEUNG DUK , 朴素晶 , PARK, SO JEONG
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/06 , C07C309/02 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/64 , C07D333/46 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要：一種由以下式(1)代表的鋶化合物、一種含所述鋶化合物的光酸產生劑以及一種含所述光酸產生劑的抗蝕劑組成物：其中X代表供電子基；R1和R2各自獨立代表烷基或其類似物；R4至R6各自獨立代表烷基或其類似物；R3代表環烯二基或其類似物；以及-A代表陰離子。鋶化合物具有藉由將不同吸收體引入一個分子的陽離子區域而控制的光子產率；當鋶化合物作為光酸產生劑時，鋶化合物可以避免使用含不同光酸產生劑的混合物的不便之處；鋶化合物在抗蝕劑中具有極佳的混溶性；以及鋶化合物具有增強的解析度與線邊緣粗糙度。
简体摘要：一种由以下式(1)代表的锍化合物、一种含所述锍化合物的光酸产生剂以及一种含所述光酸产生剂的抗蚀剂组成物：其中X代表供电子基；R1和R2各自独立代表烷基或其类似物；R4至R6各自独立代表烷基或其类似物；R3代表环烯二基或其类似物；以及-A代表阴离子。锍化合物具有借由将不同吸收体引入一个分子的阳离子区域而控制的光子产率；当锍化合物作为光酸产生剂时，锍化合物可以避免使用含不同光酸产生剂的混合物的不便之处；锍化合物在抗蚀剂中具有极佳的混溶性；以及锍化合物具有增强的分辨率与线边缘粗糙度。

8. 发明专利

TW201129593A 具有酚取代基的化合物、該化合物的製造方法及含有該化合物的光阻組成物 COMPOUNDS HAVING PHENOL SUBSTITUENTS, PROCESS FOR PRODUCING THE COMPOUND, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE COMPOUND 审中-公开
简体标题：具有酚取代基的化合物、该化合物的制造方法及含有该化合物的光阻组成物 COMPOUNDS HAVING PHENOL SUBSTITUENTS, PROCESS FOR PRODUCING THE COMPOUND, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE COMPOUND
公开(公告)号：TW201129593A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW099144297
申请日：2010-12-16
申请人：錦湖石油化學股份有限公司
发明人：韓俊熙 , 趙承德 , 吳貞薰 , 李承宰
IPC分类号： C08F , G03F
摘要：本發明提供一種新穎的具有由下式(1)表示之酚取代基的化合物、所述化合物的製造方法及含有所述化合物的光阻組成物。
其中R1至R7及n1如本發明實施方式中所定義。由式(1)表示之取代基含有酸可解離官能基。具有由式(1)表示之酚取代基的化合物與光酸產生劑一起形成光阻組成物，且從而提供感光度、解析度及線邊緣粗糙度極佳且能夠繪製超細圖案的光阻組成物。
简体摘要：本发明提供一种新颖的具有由下式(1)表示之酚取代基的化合物、所述化合物的制造方法及含有所述化合物的光阻组成物。其中R1至R7及n1如本发明实施方式中所定义。由式(1)表示之取代基含有酸可解离官能基。具有由式(1)表示之酚取代基的化合物与光酸产生剂一起形成光阻组成物，且从而提供感光度、分辨率及线边缘粗糙度极佳且能够绘制超细图案的光阻组成物。

9. 发明专利

TWI455915B 光酸產生劑、其製造方法以及含有其的抗蝕劑組成物有权
简体标题：光酸产生剂、其制造方法以及含有其的抗蚀剂组成物
公开(公告)号：TWI455915B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW101103769
申请日：2012-02-06
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 申珍奉 , SHIN, JIN BONG , 金兌坤 , KIM, TAE GON , 徐東轍 , SEO, DONG CHUL
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/09 , C07C303/32 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041

10. 发明专利

TWI423952B 鋶鹽的製備方法及以該方法製備的鋶鹽有权
简体标题：锍盐的制备方法及以该方法制备的锍盐
公开(公告)号：TWI423952B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW099127770
申请日：2010-08-19
申请人：錦湖石油化學股份有限公司 , KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：吳貞薰 , OH, JUNG-HOON , 韓俊熙 , HAN, JOON-HEE , 朴相昱 , PARK, SANG-WOOK , 李承宰 , LEE, SEUNG-JAE , 高成保 , KO, SUNG-BO , 尹盛俊 , YOON, SUNG-JUN
IPC分类号： C07C381/12

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