会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明专利
    • 新穎共聚物及包含該共聚物之光阻組成物 NOVEL COPOLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    • 新颖共聚物及包含该共聚物之光阻组成物 NOVEL COPOLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    • TW201107353A
    • 2011-03-01
    • TW099118162
    • 2010-06-04
    • 錦湖石油化學股份有限公司
    • 朴蘭羅徐東轍李承宰任鉉淳
    • C08FG03F
    • 提供包含由下列化學式1至4所代表的單體之一種新穎共聚物,及含有該共聚物之一種光阻組成物:
      其中在化學式1至4中,R1至R10各獨立地代表選自由一個鹵素原子、一羥基、一羧基、一腈基、一醛基、一環氧基、一烷基、一環烷基、一雜環烷基、一芳基及一雜芳基所組成之群組之任一者;a係自0至10之一整數;b係自0至14之一整數;及l、m、n及o係符合諸如l+m+n+o=1、0.01<l/(l+m+n+o)<0.4、0<m/(l+m+n+o)<0.6、0≦n/(l+m+n+o)<0.6及0<o/(l+m+n+o)<0.4的關係式之整數。該共聚物迅速地溶於常用溶劑中,及輕易地溶於大部分的溶劑中。依引入其中的烯烴量而定,可將共聚物製成具有所欲分子量之樹脂,及因而毋需使用分子量控制劑即可製造。
    • 提供包含由下列化学式1至4所代表的单体之一种新颖共聚物,及含有该共聚物之一种光阻组成物: 其中在化学式1至4中,R1至R10各独立地代表选自由一个卤素原子、一羟基、一羧基、一腈基、一醛基、一环氧基、一烷基、一环烷基、一杂环烷基、一芳基及一杂芳基所组成之群组之任一者;a系自0至10之一整数;b系自0至14之一整数;及l、m、n及o系符合诸如l+m+n+o=1、0.01<l/(l+m+n+o)<0.4、0<m/(l+m+n+o)<0.6、0≦n/(l+m+n+o)<0.6及0<o/(l+m+n+o)<0.4的关系式之整数。该共聚物迅速地溶于常用溶剂中,及轻易地溶于大部分的溶剂中。依引入其中的烯烃量而定,可将共聚物制成具有所欲分子量之树脂,及因而毋需使用分子量控制剂即可制造。