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    • 1. 发明专利
    • 一種微奈米結構轉印裝置及方法
    • 一种微奈米结构转印设备及方法
    • TW200540103A
    • 2005-12-16
    • TW093116364
    • 2004-06-08
    • 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
    • 王維漢 WANG, WEI HAN林家弘 LIN, CHIA HUNG何侑倫巫震華 WU, JEN HUA
    • B81C
    • B81C1/0046B82Y10/00B82Y40/00G03F7/0002
    • 一種微奈米結構轉印裝置及方法,該奈米結構轉印裝置係包括有:一載台、一基板、一可成形材料層、一微奈米結構模具及一電磁波源,其中,該基板係設於該載台上,且該基板上具有一可成形材料層,該微奈米結構模具係相對應該載台與該基板設置,且該微奈米結構模具可對該可成形材料層進行結構轉印;該電磁波源可分別或同時提供該基板、該可成形材料層及該微奈米結構模具能量,達到加熱該可成形材料層並增加其流動性之目的。使用本微奈米結構轉印裝置及方法,以電磁波傳遞的方式,可迅速改變可成形材料層之熱能狀態,故不需藉由多層堆疊熱傳導的方式,即可迅速加熱可成形材料層並增加其流動性。
    • 一种微奈米结构转印设备及方法,该奈米结构转印设备系包括有:一载台、一基板、一可成形材料层、一微奈米结构模具及一电磁波源,其中,该基板系设于该载台上,且该基板上具有一可成形材料层,该微奈米结构模具系相对应该载台与该基板设置,且该微奈米结构模具可对该可成形材料层进行结构转印;该电磁波源可分别或同时提供该基板、该可成形材料层及该微奈米结构模具能量,达到加热该可成形材料层并增加其流动性之目的。使用本微奈米结构转印设备及方法,以电磁波传递的方式,可迅速改变可成形材料层之热能状态,故不需借由多层堆栈热传导的方式,即可迅速加热可成形材料层并增加其流动性。
    • 3. 发明专利
    • 一種微奈米結構轉印裝置及方法
    • 一种微奈米结构转印设备及方法
    • TWI243796B
    • 2005-11-21
    • TW093116364
    • 2004-06-08
    • 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
    • 王維漢 WANG, WEI HAN林家弘 LIN, CHIA HUNG何侑倫巫震華 WU, JEN HUA
    • B81C
    • B81C1/0046B82Y10/00B82Y40/00G03F7/0002
    • 一種微奈米結構轉印裝置及方法,該奈米結構轉印裝置係包括有:一載台、一基板、一可成形材料層、一微奈米結構模具及一電磁波源,其中,該基板係設於該載台上,且該基板上具有一可成形材料層,該微奈米結構模具係相對應該載台與該基板設置,且該微奈米結構模具可對該可成形材料層進行結構轉印;該電磁波源可分別或同時提供該基板、該可成形材料層及該微奈米結構模具能量,達到加熱該可成形材料層並增加其流動性之目的。使用本微奈米結構轉印裝置及方法,以電磁波傳遞的方式,可迅速改變可成形材料層之熱能狀態,故不需藉由多層堆疊熱傳導的方式,即可迅速加熱可成形材料層並增加其流動性。
    • 一种微奈米结构转印设备及方法,该奈米结构转印设备系包括有:一载台、一基板、一可成形材料层、一微奈米结构模具及一电磁波源,其中,该基板系设于该载台上,且该基板上具有一可成形材料层,该微奈米结构模具系相对应该载台与该基板设置,且该微奈米结构模具可对该可成形材料层进行结构转印;该电磁波源可分别或同时提供该基板、该可成形材料层及该微奈米结构模具能量,达到加热该可成形材料层并增加其流动性之目的。使用本微奈米结构转印设备及方法,以电磁波传递的方式,可迅速改变可成形材料层之热能状态,故不需借由多层堆栈热传导的方式,即可迅速加热可成形材料层并增加其流动性。
    • 8. 发明专利
    • 監視系統及其操作方法 MONITORING SYSTEM AND OPERATING METHOD THEREOF
    • 监视系统及其操作方法 MONITORING SYSTEM AND OPERATING METHOD THEREOF
    • TW200829021A
    • 2008-07-01
    • TW095147918
    • 2006-12-20
    • 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
    • 蔡雅惠 TSAI, YA HUI巫震華 WU, JEN HUA何侑倫 HO, YU LUN吳一正 WU, YI CHENG
    • H04N
    • 一種監視系統,包括至少一固定式攝影機、一影像處理單元以及一移動式攝影機。固定式攝影機對一待監視區進行拍攝以產生一影像。影像處理單元與固定式攝影機通聯以接收影像。移動式攝影機與影像處理單元通聯。當影像處理單元確認影像中存在至少一移動目標並預測移動目標的移動方向後,通知移動式攝影機前往監視。另一種監視系統包括多個固定式攝影機、一影像處理單元以及一儲存單元。此影像處理單元預測移動目標的移動方向並依預測結果而控制儲存單元連續儲存固定式攝影機所攝得之影像中存在移動目標者。這兩種監視系統的操作方法亦被提出。
    • 一种监视系统,包括至少一固定式摄影机、一影像处理单元以及一移动式摄影机。固定式摄影机对一待监视区进行拍摄以产生一影像。影像处理单元与固定式摄影机通联以接收影像。移动式摄影机与影像处理单元通联。当影像处理单元确认影像中存在至少一移动目标并预测移动目标的移动方向后,通知移动式摄影机前往监视。另一种监视系统包括多个固定式摄影机、一影像处理单元以及一存储单元。此影像处理单元预测移动目标的移动方向并依预测结果而控制存储单元连续存储固定式摄影机所摄得之影像中存在移动目标者。这两种监视系统的操作方法亦被提出。
    • 9. 发明专利
    • 可調負重之表面聲波致動裝置
    • 可调负重之表面声波致动设备
    • TW595097B
    • 2004-06-21
    • TW092122794
    • 2003-08-19
    • 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
    • 周大鑫 CHOU, TA HSIN朱怡銘 CHU, YI MING王維漢 WANG, WEI HAN巫震華 WU, JEN HUA
    • H03HH01L
    • 一種可調負重之表面聲波致動裝置,其主要包含有:一定位平台,其兩相對側分別具有一滑動軸承;一表面聲波致動器,係設置於該定位平台上,位在該二滑動軸承之間,而可於其頂端面產生一預定之表面聲波;一滑塊,係置於該定位平台上,具有一與該表面聲波致動器之頂端面接觸之受力部及二分別置位於該各滑動軸承中之定位部,使可由該表面聲波致動器之表面聲波帶動該滑塊位移;一支撐結構,係可因應該滑塊之負重程度,而對該滑塊之定位部施予一預力,使該滑塊與該表面聲波致動器間之接觸壓力保持於一恆定值內。
    • 一种可调负重之表面声波致动设备,其主要包含有:一定位平台,其两相对侧分别具有一滑动轴承;一表面声波致动器,系设置于该定位平台上,位在该二滑动轴承之间,而可于其顶端面产生一预定之表面声波;一滑块,系置于该定位平台上,具有一与该表面声波致动器之顶端面接触之受力部及二分别置位于该各滑动轴承中之定位部,使可由该表面声波致动器之表面声波带动该滑块位移;一支撑结构,系可因应该滑块之负重程度,而对该滑块之定位部施予一预力,使该滑块与该表面声波致动器间之接触压力保持于一恒定值内。