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    • 1. 发明专利
    • 電漿監視探針組件及倂入該組件之處理腔室
    • 等离子监视探针组件及并入该组件之处理腔室
    • TW201440112A
    • 2014-10-16
    • TW102140295
    • 2013-11-06
    • 蘭姆研究公司LAM RESEARCH CORPORATION
    • 喬瑟林 賽門GOSSELIN, SIMON
    • H01J37/32H01L21/67
    • H01J37/32917H01J37/32935
    • 本發明提供一電漿處理腔室,該電漿處理腔室包含一或更多處理氣體入口、一或更多排氣出口、一用以在電漿處理腔室之電漿處理部產生處理氣體電漿的電漿產生硬體、一設置在該電漿處理腔室內之晶圓處理台、以及一電漿監視探針組件。該電漿監視探針組件包含一導電探針和繞著該導電探針設置的一絕緣套筒組件。該絕緣套筒組件包含繞著該探針組件之該導電探針的縱向探針軸線的不同部分設置的一電漿側套筒部和一地下套筒部。該絕緣套筒組件之電漿側套筒部係由比該絕緣套筒組件的地下套筒部之材料更能耐受電漿所致之劣化的材料所構成,而該絕緣套筒組件的地下套筒部係由比絕緣套筒組件之電漿側套筒部的材料更耐電之材料所構成。
    • 本发明提供一等离子处理腔室,该等离子处理腔室包含一或更多处理气体入口、一或更多排气出口、一用以在等离子处理腔室之等离子处理部产生处理气体等离子的等离子产生硬件、一设置在该等离子处理腔室内之晶圆处理台、以及一等离子监视探针组件。该等离子监视探针组件包含一导电探针和绕着该导电探针设置的一绝缘套筒组件。该绝缘套筒组件包含绕着该探针组件之该导电探针的纵向探针轴线的不同部分设置的一等离子侧套筒部和一地下套筒部。该绝缘套筒组件之等离子侧套筒部系由比该绝缘套筒组件的地下套筒部之材料更能耐受等离子所致之劣化的材料所构成,而该绝缘套筒组件的地下套筒部系由比绝缘套筒组件之等离子侧套筒部的材料更耐电之材料所构成。