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1. 发明专利

TW201718926A 成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TW201718926A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105124930
申请日：2016-08-05
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 拝形英里 , HAIKATA, ERI
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/46 , C08J7/04 , C23C16/0272 , C23C16/452 , C23C16/455 , C23C16/45523 , C23C16/545 , H01L51/5253 , H01L51/56
摘要：本發明係關於在室溫下生長的一種化合物膜，該化合物膜即使於基底變形時，亦能夠不引起破裂或剝離。將原料氣體瞬間加熱，並將瞬間加熱後所產生之兩種以上的產物氣體分子物種，各自導引至與溫度比原料氣體瞬間加熱機構的加熱溫度還低之基底接觸，且於形成第一化合物膜的同時，形成了包含至少一種含於該第一化合物膜中的元素之第二化合物膜，並生成至少包含該第一化合物膜與該第二化合物膜的層積膜。
简体摘要：本发明系关于在室温下生长的一种化合物膜，该化合物膜即使于基底变形时，亦能够不引起破裂或剥离。将原料气体瞬间加热，并将瞬间加热后所产生之两种以上的产物气体分子物种，各自导引至与温度比原料气体瞬间加热机构的加热温度还低之基底接触，且于形成第一化合物膜的同时，形成了包含至少一种含于该第一化合物膜中的元素之第二化合物膜，并生成至少包含该第一化合物膜与该第二化合物膜的层积膜。

2. 发明专利

TWI575203B 流體加熱冷卻圓筒裝置有权
简体标题：流体加热冷却圆筒设备
公开(公告)号：TWI575203B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW101134119
申请日：2012-09-18
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 村直美 , MURA, NAOMI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI
IPC分类号： F24H3/08 , F28D3/02
CPC分类号： F24H3/062 , F22B1/28 , F22B1/288 , F24H1/121 , F24H9/0015 , F24H9/0057 , F24H9/1818 , F24H9/1863 , F24H2250/02 , H05B3/42 , H05B2203/022

3. 发明专利

TW201346194A 流體加熱冷卻圓筒裝置审中-公开
简体标题：流体加热冷却圆筒设备
公开(公告)号：TW201346194A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW101134119
申请日：2012-09-18
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 村直美 , MURA, NAOMI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI
IPC分类号： F24H3/08 , F28D3/02
CPC分类号： F24H3/062 , F22B1/28 , F22B1/288 , F24H1/121 , F24H9/0015 , F24H9/0057 , F24H9/1818 , F24H9/1863 , F24H2250/02 , H05B3/42 , H05B2203/022
摘要：本發明所欲解決之問題在於目前並無廉價地加熱大流量之氣體或液體之小型流體加熱裝置。本發明之解決方法係在金屬圓柱之側面形成流體之溝流路，流通狹窄流路的流體垂直地衝撞下一流路之壁，而不會形成停滯層之流路。在小空間瞬間進行熱交換，且其結構製造較為容易。
简体摘要：本发明所欲解决之问题在于目前并无廉价地加热大流量之气体或液体之小型流体加热设备。本发明之解决方法系在金属圆柱之侧面形成流体之沟流路，流通狭窄流路的流体垂直地冲撞下一流路之壁，而不会形成停滞层之流路。在小空间瞬间进行热交换，且其结构制造较为容易。

4. 发明专利

TWI570381B 貼合流體熱交換裝置有权
简体标题：贴合流体热交换设备
公开(公告)号：TWI570381B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW103132449
申请日：2014-09-19
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 村直美 , MURA, NAOMI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI
IPC分类号： F28F3/04 , F28D3/02
CPC分类号： F28F3/12 , F28D7/106 , F28D9/0031 , F28F13/18 , F28F19/02 , F28F21/083 , F28F21/089 , F28F2255/08 , F28F2275/06

5. 发明专利

TW201643962A 熱射束成膜裝置审中-公开
简体标题：热射束成膜设备
公开(公告)号：TW201643962A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW104130989
申请日：2015-09-18
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI
IPC分类号： H01L21/316 , H01L21/318 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/452 , C23C16/401 , C23C16/45527 , C23C16/545
摘要：生成一種分子物種來進行成膜，分子物種即使於不會發生基體變形或變質之低溫(尤其是100℃以下)亦可產生反應。在使原料氣體瞬間加熱至高溫而衝撞於具有觸媒功能的金屬壁之熱射束加熱裝置中，藉由非平衡的反應，使活性化分子物種有效率地生成，噴吹並接觸於基體來進行成膜。
简体摘要：生成一种分子物种来进行成膜，分子物种即使于不会发生基体变形或变质之低温(尤其是100℃以下)亦可产生反应。在使原料气体瞬间加热至高温而冲撞于具有触媒功能的金属壁之热射束加热设备中，借由非平衡的反应，使活性化分子物种有效率地生成，喷吹并接触于基体来进行成膜。

6. 发明专利

TWI625417B 膜形成方法有权
公开(公告)号：TWI625417B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106115213
申请日：2017-05-09
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 拝形英里 , HAIKATA, ERI , 石川真人 , ISHIKAWA, MASATO
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/458 , C23C16/52

7. 发明专利

TW201741489A 膜形成方法审中-公开
公开(公告)号：TW201741489A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106115213
申请日：2017-05-09
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 拝形英里 , HAIKATA, ERI , 石川真人 , ISHIKAWA, MASATO
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/458 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/45527 , C23C16/30 , C23C16/403 , C23C16/45523 , C23C16/45557 , G02F1/133345 , G02F2201/501 , H01L31/02167 , H01L51/5253 , Y02E10/50
摘要：本發明的目的係提供一種在室溫下高速地且被覆性優異地將化合物膜加以成膜之方法。本發明係關於一種膜形成方法，其係具備有積蓄機構、瞬間加熱部及反應室之膜形成裝置的膜形成方法，前述積蓄機構係各自積蓄第一原料氣體與第二原料氣體；前述瞬間加熱部係將前述第一原料氣體與前述第二原料氣體加熱；前述反應室係放置有溫度比前述瞬間加熱部之加熱溫度還低溫之基體，且前述膜形成方法係包含：使積蓄於積蓄機構的第一原料氣體與第二原料氣體通過瞬間加熱部，並生成第一氣體分子物種與第二氣體分子物種，且使該第一氣體分子物種與該第二氣體分子物種突出並供給至放置有基體且減壓後之具有一定容量的反應室，使得第一氣體分子物種的分壓與第二氣體分子物種的分壓急速上昇，而將第一氣體分子物種或第二氣體分子物種交互地重複引導至基體的表面，且使第一氣體分子物種或第二氣體分子物種反應，並於基體的表面形成化合物膜。
简体摘要：本发明的目的系提供一种在室温下高速地且被覆性优异地将化合物膜加以成膜之方法。本发明系关于一种膜形成方法，其系具备有积蓄机构、瞬间加热部及反应室之膜形成设备的膜形成方法，前述积蓄机构系各自积蓄第一原料气体与第二原料气体；前述瞬间加热部系将前述第一原料气体与前述第二原料气体加热；前述反应室系放置有温度比前述瞬间加热部之加热温度还低温之基体，且前述膜形成方法系包含：使积蓄于积蓄机构的第一原料气体与第二原料气体通过瞬间加热部，并生成第一气体分子物种与第二气体分子物种，且使该第一气体分子物种与该第二气体分子物种突出并供给至放置有基体且减压后之具有一定容量的反应室，使得第一气体分子物种的分压与第二气体分子物种的分压急速上升，而将第一气体分子物种或第二气体分子物种交互地重复引导至基体的表面，且使第一气体分子物种或第二气体分子物种反应，并于基体的表面形成化合物膜。

8. 发明专利

TWI601844B 成膜裝置有权
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TWI601844B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW105124930
申请日：2016-08-05
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 拝形英里 , HAIKATA, ERI
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/46 , C08J7/04 , C23C16/0272 , C23C16/452 , C23C16/455 , C23C16/45523 , C23C16/545 , H01L51/5253 , H01L51/56

9. 发明专利

TW201525403A 貼合流體熱交換裝置审中-公开
简体标题：贴合流体热交换设备
公开(公告)号：TW201525403A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103132449
申请日：2014-09-19
申请人：菲爾科技股份有限公司 , PHILTECH INC.
发明人：古村雄二 , FURUMURA, YUJI , 村直美 , MURA, NAOMI , 西原晋治 , NISHIHARA, SHINJI , 清水紀嘉 , SHIMIZU, NORIYOSHI
IPC分类号： F28F3/04 , F28D3/02
CPC分类号： F28F3/12 , F28D7/106 , F28D9/0031 , F28F13/18 , F28F19/02 , F28F21/083 , F28F21/089 , F28F2255/08 , F28F2275/06
摘要：本發明不是提供一種低價地製作將大流量的氣體及液體加熱的小型流體加熱冷卻裝置。本發明中，使以沖壓加工彎折而形成流路溝槽的第一板體與第二板體接合，而形成氣密的流路，並藉由使導入流路之流體垂直衝撞該流路的壁面，以進行熱交換。構成流路的材料可為金屬板，亦可為導電性的塑膠，而能夠以低價生產小型輕量的熱交換裝置。
简体摘要：本发明不是提供一种低价地制作将大流量的气体及液体加热的小型流体加热冷却设备。本发明中，使以冲压加工弯折而形成流路沟槽的第一板体与第二板体接合，而形成气密的流路，并借由使导入流路之流体垂直冲撞该流路的壁面，以进行热交换。构成流路的材料可为金属板，亦可为导电性的塑胶，而能够以低价生产小型轻量的热交换设备。

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