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1. 发明专利

TWI638228B 度量衡方法、度量衡裝置及器件製造方法有权
简体标题：度量衡方法、度量衡设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI638228B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW106118983
申请日：2017-06-08
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956

2. 发明专利

TWI666528B 超連續譜輻射源及包含其之光學量測系統、對準標記量測系統及微影裝置有权
简体标题：超连续谱辐射源及包含其之光学量测系统、对准标记量测系统及微影设备
公开(公告)号：TWI666528B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106118984
申请日：2017-06-08
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/365

3. 发明专利

TWI685725B 檢測工具、微影設備、微影系統、檢測方法及器件製造方法有权
简体标题：检测工具、微影设备、微影系统、检测方法及器件制造方法
公开(公告)号：TWI685725B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：TW107124091
申请日：2018-07-12
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 史莫克曼厄文保羅 , SMAKMAN, ERWIN PAUL , 阿克布魯特都古 , AKBULUT, DUYGU , 庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH , 高爾登賽巴斯汀亞努斯安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 塞帝札爾王達尼 , SETIJA, IRWAN DANI
IPC分类号： G03F9/00 , G01N23/225 , G01R31/305

5. 发明专利

TW201809921A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201809921A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118984
申请日：2017-06-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/365
CPC分类号： G03F9/7065 , G02F1/365 , G02F2001/3528
摘要：一種用於一對準標記量測系統之超連續譜輻射源包含：一輻射源；照明光學件；複數個波導；及收集光學件。該輻射源可操作以產生一脈衝式輻射光束。該照明光學件經配置以接收該脈衝式泵輻射光束且形成複數個脈衝式子光束，每一脈衝式子光束包含該脈衝式輻射光束之一部分。該複數個波導中之每一者經配置以接收該複數個脈衝式子光束光束中之至少一者且加寬彼脈衝式子光束之一光譜以便產生一超連續譜子光束。該收集光學件經配置以自該複數個波導中之每一者接收該超連續譜子光束且將其組合以便形成一超連續譜輻射光束。
简体摘要：一种用于一对准标记量测系统之超连续谱辐射源包含：一辐射源；照明光学件；复数个波导；及收集光学件。该辐射源可操作以产生一脉冲式辐射光束。该照明光学件经配置以接收该脉冲式泵辐射光束且形成复数个脉冲式子光束，每一脉冲式子光束包含该脉冲式辐射光束之一部分。该复数个波导中之每一者经配置以接收该复数个脉冲式子光束光束中之至少一者且加宽彼脉冲式子光束之一光谱以便产生一超连续谱子光束。该收集光学件经配置以自该复数个波导中之每一者接收该超连续谱子光束且将其组合以便形成一超连续谱辐射光束。

6. 发明专利

TW201809863A 度量衡方法、度量衡裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：度量衡方法、度量衡设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201809863A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118983
申请日：2017-06-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/0002 , G01N21/956 , G03F7/0005 , G03F7/2004 , G03F7/2008 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7019
摘要：一種度量衡裝置，其使用在一EUV波帶中之輻射(304)。一第一偵測系統(333)包括一光譜光柵(312)及一偵測器(313)以用於捕捉在與一目標(T)相互作用之後的該EUV輻射之一光譜。該目標之屬性係藉由分析該光譜來量測。該輻射(304)進一步包括在諸如VUV、DUV、UV、可見光及IR之其他波帶中的輻射。一第二偵測系統(352、372、382)經配置以接收由該第一光譜光柵反射之輻射(350)之至少一部分且捕捉該等其他波帶中之一或多者中的一光譜(SA)。該第二波帶光譜可用以增強基於該EUV光譜之該量測之準確度，及/或其可用於一不同量測。代替光譜光柵或除了該等光譜光柵以外，亦可使用諸如偏振之其他類型之偵測。
简体摘要：一种度量衡设备，其使用在一EUV波带中之辐射(304)。一第一侦测系统(333)包括一光谱光栅(312)及一侦测器(313)以用于捕捉在与一目标(T)相互作用之后的该EUV辐射之一光谱。该目标之属性系借由分析该光谱来量测。该辐射(304)进一步包括在诸如VUV、DUV、UV、可见光及IR之其他波带中的辐射。一第二侦测系统(352、372、382)经配置以接收由该第一光谱光栅反射之辐射(350)之至少一部分且捕捉该等其他波带中之一或多者中的一光谱(SA)。该第二波带光谱可用以增强基于该EUV光谱之该量测之准确度，及/或其可用于一不同量测。代替光谱光栅或除了该等光谱光栅以外，亦可使用诸如偏振之其他类型之侦测。

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