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1. 实用新型

TWM582136U 檢測模組及檢測機台有权
简体标题：检测模块及检测机台
公开(公告)号：TWM582136U
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW108206210
申请日：2019-05-17
申请人：鴻華國際科技股份有限公司 , MASTERWORK AOITEK TECH CORP. LTD.
发明人：劉名哲 , LIU, MING-ZHE
IPC分类号： G01N21/17 , G01N21/93 , G01N21/01

2. 发明专利

TW201734437A 鋼板的表面缺陷檢查裝置及表面缺陷檢查方法审中-公开
简体标题：钢板的表面缺陷检查设备及表面缺陷检查方法
公开(公告)号：TW201734437A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105128630
申请日：2016-09-05
申请人：日新製鋼股份有限公司 , NISSHIN STEEL CO., LTD.
发明人：福井圭太 , FUKUI, KEITA , 志賀駿介 , SHIGA, SYUNSUKE
IPC分类号： G01N21/892 , G01N21/93 , G01N21/47 , G01N33/20
CPC分类号： G01N21/892
摘要：本發明提供一種鋼板的表面缺陷檢查裝置及表面缺陷檢查方法，用以將表面並未施予電鍍等表面處理的鋼板作為檢查對象，並將有害的外觀異常與屬於無害的外觀異常的油汙、退火條紋等做區別而檢測出。該表面缺陷檢查裝置係具備：照明部(3)，用以照明拍攝對象部位(8)；第一漫反射光拍攝部(4)，用以拍攝朝向與正反射方向所成的角度成為第一角度(γ)的方向的漫反射光；第二漫反射光拍攝部(5)，用以拍攝朝向與正反射方向所成的角度成為第二角度δ(但是δ>γ)的方向的漫反射光；以及影像信號處理部(6)，用以處理第一漫反射光拍攝部(4)拍攝所得的第一漫反射影像信號(T1)、和第二漫反射光拍攝部(5)拍攝所得的第二漫反射影像信號(T2)。影像信號處理部(6)係檢測以下的部位作為表面缺陷部位，該檢測的部位係指第一漫反射影像信號(T1)當中之亮度成為比預定的第一臨限值還低的部位，且就同部位而言，第二漫反射影像信號(T2)之亮度成為比預定的第二臨限值還高的部位。
简体摘要：本发明提供一种钢板的表面缺陷检查设备及表面缺陷检查方法，用以将表面并未施予电镀等表面处理的钢板作为检查对象，并将有害的外观异常与属于无害的外观异常的油污、退火条纹等做区别而检测出。该表面缺陷检查设备系具备：照明部(3)，用以照明拍摄对象部位(8)；第一漫反射光拍摄部(4)，用以拍摄朝向与正反射方向所成的角度成为第一角度(γ)的方向的漫反射光；第二漫反射光拍摄部(5)，用以拍摄朝向与正反射方向所成的角度成为第二角度δ(但是δ>γ)的方向的漫反射光；以及影像信号处理部(6)，用以处理第一漫反射光拍摄部(4)拍摄所得的第一漫反射影像信号(T1)、和第二漫反射光拍摄部(5)拍摄所得的第二漫反射影像信号(T2)。影像信号处理部(6)系检测以下的部位作为表面缺陷部位，该检测的部位系指第一漫反射影像信号(T1)当中之亮度成为比预定的第一临限值还低的部位，且就同部位而言，第二漫反射影像信号(T2)之亮度成为比预定的第二临限值还高的部位。

3. 发明专利

TWI571700B 偵測形成於光罩之污染物質的方法及實施該方法的光罩有权
简体标题：侦测形成于光罩之污染物质的方法及实施该方法的光罩
公开(公告)号：TWI571700B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW103145366
申请日：2014-12-25
申请人：王青柏 , WANG, CHING-BORE
发明人：王青柏 , WANG, CHING-BORE
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/93

4. 发明专利

TW201614222A 量測方法、量測裝置、微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：量测方法、量测设备、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201614222A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104119622
申请日：2015-06-17
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：艾伯特鄂爾威廉 , EBERT, EARL WILLIAM , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G01N21/93 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G01B11/14 , G03F9/7088
摘要：一種量測裝置，其包括：一光學系統，其用以將照明輻射提供至一週期性結構上之一點中且用以接收由該週期性結構重新導向之輻射，該光學系統包括：一第一光闌，其用以阻擋來自該週期性結構之零階輻射且允許非零階輻射穿過；及一第二光闌，其用以阻擋穿過該第一光闌的零階輻射且允許該非零階輻射穿過；及該光學系統下游之一輻射偵測器，其用以接收該非零階輻射。
简体摘要：一种量测设备，其包括：一光学系统，其用以将照明辐射提供至一周期性结构上之一点中且用以接收由该周期性结构重新导向之辐射，该光学系统包括：一第一光阑，其用以阻挡来自该周期性结构之零阶辐射且允许非零阶辐射穿过；及一第二光阑，其用以阻挡穿过该第一光阑的零阶辐射且允许该非零阶辐射穿过；及该光学系统下游之一辐射侦测器，其用以接收该非零阶辐射。

5. 发明专利

TWI696824B 隱形眼鏡鏡片檢測前的定位設備及方法有权
简体标题：隐形眼镜镜片检测前的定位设备及方法
公开(公告)号：TWI696824B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108117526
申请日：2019-05-21
申请人：昕琦科技股份有限公司 , I-SEE VISION TECHNOLOGY INC.
发明人：林明哲 , LIN, MING-CHE , 鍾士仁 , CHUNG, SHIH-JEN
IPC分类号： G01N21/896 , G01N21/93 , B65D85/38

6. 发明专利

TWI683097B 基準器、分光干涉式計測裝置、塗布裝置、分光干涉式計測裝置之計測精度保證方法、及塗布膜之製造方法有权
简体标题：基准器、分光干涉式计测设备、涂布设备、分光干涉式计测设备之计测精度保证方法、及涂布膜之制造方法
公开(公告)号：TWI683097B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW106126187
申请日：2017-08-03
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：道平創 , MICHIHIRA, HAJIME , 近藤信 , KONDO, SHIN
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/93 , G01N21/45 , G01B9/02

7. 发明专利

TW201920945A 檢查系統审中-公开
简体标题：检查系统
公开(公告)号：TW201920945A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107128781
申请日：2018-08-17
申请人：日商大福股份有限公司 , DAIFUKU CO., LTD.
发明人：山崎貴文 , YAMAZAKI, TAKAFUMI , 太田弘一 , OTA, KOICHI , 田中芳孝 , TANAKA, YOSHITAKA , 西川智晶 , NISHIKAWA, TOMOAKI , 川波絢佳 , KAWANAMI, AYAKA
IPC分类号： G01N21/93
摘要： [課題]提供一種檢查系統，其可簡化在預先設定之搬送路徑上行走的搬送車所具備之檢測器的檢查的勞務。 [解決手段]一種檢查系統，具備有檢查裝置，前述檢查裝置是將在預先設定之搬送路徑上行走之搬送車所具備之檢測器作為檢查對象，而檢查檢測器之檢測狀態。檢查裝置是配置在與搬送車之行走軌跡不重疊的位置，且是在搬送車位在已設定於搬送路徑上之檢查場所的狀態下成為檢測器之檢測範圍內的位置。
简体摘要： [课题]提供一种检查系统，其可简化在预先设置之搬送路径上行走的搬送车所具备之检测器的检查的劳务。 [解决手段]一种检查系统，具备有检查设备，前述检查设备是将在预先设置之搬送路径上行走之搬送车所具备之检测器作为检查对象，而检查检测器之检测状态。检查设备是配置在与搬送车之行走轨迹不重叠的位置，且是在搬送车位在已设置于搬送路径上之检查场所的状态下成为检测器之检测范围内的位置。

8. 发明专利

TWI651602B 評價方法、物品製造方法及評價程式有权
简体标题：评价方法、物品制造方法及评价进程
公开(公告)号：TWI651602B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106143725
申请日：2017-12-13
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：藤村平 , FUJIMURA, RYUHEI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G01N21/93

9. 发明专利

TW201821782A 附有震動校正功能之光學單元审中-公开
简体标题：附有震动校正功能之光学单元
公开(公告)号：TW201821782A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106137318
申请日：2017-10-30
申请人：日商日本電產三協股份有限公司 , NIDEC SANKYO CORPORATION
发明人：南澤伸司 , MINAMISAWA, SHINJI , 須江猛 , SUE, TAKESHI
IPC分类号： G01M11/02 , G01N21/93
摘要：本發明提供一種附有震動校正功能之光學單元，其即便於受到外力之情形時，亦能夠防止或者抑制旋轉支持機構之破損。附有震動校正功能之光學單元1具備：光學模組4，其保持光學元件3；萬向架機構5(擺動支持機構)，其將光學模組4以可於預先所設定之軸線(Z軸)與光軸一致之基準姿勢及光軸相對於軸線傾斜之傾斜姿勢之間擺動的方式支持；保持器6，其經由萬向架機構5支持光學模組4；滾珠軸承9，其將保持器6以可繞Z軸旋轉之方式支持；及固定體8，其經由滾珠軸承9支持保持器6。又，附有震動校正功能之光學單元1具有：擺動用磁驅動機構15，其使光學模組4擺動；及滾轉用磁驅動機構16，其使保持器6旋轉。滾珠軸承9於較萬向架機構5更靠被攝體側支持保持器6。
简体摘要：本发明提供一种附有震动校正功能之光学单元，其即便于受到外力之情形时，亦能够防止或者抑制旋转支持机构之破损。附有震动校正功能之光学单元1具备：光学模块4，其保持光学组件3；万向架机构5(摆动支持机构)，其将光学模块4以可于预先所设置之轴线(Z轴)与光轴一致之基准姿势及光轴相对于轴线倾斜之倾斜姿势之间摆动的方式支持；保持器6，其经由万向架机构5支持光学模块4；滚珠轴承9，其将保持器6以可绕Z轴旋转之方式支持；及固定体8，其经由滚珠轴承9支持保持器6。又，附有震动校正功能之光学单元1具有：摆动用磁驱动机构15，其使光学模块4摆动；及滚转用磁驱动机构16，其使保持器6旋转。滚珠轴承9于较万向架机构5更靠被摄体侧支持保持器6。

10. 发明专利

TWI547685B 量測方法、量測裝置、微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：量测方法、量测设备、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI547685B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104119622
申请日：2015-06-17
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：艾伯特鄂爾威廉 , EBERT, EARL WILLIAM , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G01N21/93 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G01B11/14 , G03F9/7088

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