专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI462212B 處理系統及處理方法有权
简体标题：处理系统及处理方法
公开(公告)号：TWI462212B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW101129116
申请日：2012-08-10
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：古矢正明 , FURUYA, MASAAKI , 田內豐泰 , TAUCHI, TOYOYASU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC分类号： B65G57/00 , H01L21/67742 , H01L21/67781

2. 发明专利

TW201523725A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201523725A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103133987
申请日：2014-09-30
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：長嶋裕次 , NAGASHIMA, YUJI , 松下淳 , MATSUSHITA, JUN , 林航之介 , HAYASHI, KONOSUKE , 宮崎邦浩 , MIYAZAKI, KUNIHIRO , 古矢正明 , FURUYA, MASAAKI , 東野秀史 , AZUMANO, HIDEHITO , 田內豊泰 , TAUCHI, TOYOYASU
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： B08B3/10 , H01L21/67028
摘要：將基板表面之洗淨液確實地置換為揮發性溶媒，而有效地防止基板乾燥時之圖案倒壞。在基板處理裝置(100)中，係具備有溶媒置換手段(有機溶媒供給部(15)以及溶媒供給部(34))，其係將洗淨液置換為低濃度之揮發性溶媒，之後進而置換為高濃度之揮發性溶媒。
简体摘要：将基板表面之洗净液确实地置换为挥发性溶媒，而有效地防止基板干燥时之图案倒坏。在基板处理设备(100)中，系具备有溶媒置换手段(有机溶媒供给部(15)以及溶媒供给部(34))，其系将洗净液置换为低浓度之挥发性溶媒，之后进而置换为高浓度之挥发性溶媒。

3. 发明专利

TW201316434A 處理系統及處理方法审中-公开
简体标题：处理系统及处理方法
公开(公告)号：TW201316434A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101129116
申请日：2012-08-10
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：古矢正明 , FURUYA, MASAAKI , 田內豐泰 , TAUCHI, TOYOYASU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC分类号： B65G57/00 , H01L21/67742 , H01L21/67781
摘要：本發明之實施形態之處理系統包括：收納部，其收納被處理物；處理部，其對上述被處理物實施處理；載置部，其於積層方向上隔開第1間隔而具有複數個載置上述被處理物之保持部；第1搬送部，其進行上述收納部與上述載置部之間之上述被處理物之搬送，且於上述積層方向上之第1位置侵入上述載置部；第2搬送部，其進行上述處理部與上述載置部之間之上述被處理物之搬送，且於上述積層方向上在與上述第1位置不同之第2位置侵入上述載置部。而且，上述第1位置夾隔上述第2位置而於上述積層方向上設置於兩處，上述第1搬送部與上述第2搬送部可同時間侵入上述載置部。
简体摘要：本发明之实施形态之处理系统包括：收纳部，其收纳被处理物；处理部，其对上述被处理物实施处理；载置部，其于积层方向上隔开第1间隔而具有复数个载置上述被处理物之保持部；第1搬送部，其进行上述收纳部与上述载置部之间之上述被处理物之搬送，且于上述积层方向上之第1位置侵入上述载置部；第2搬送部，其进行上述处理部与上述载置部之间之上述被处理物之搬送，且于上述积层方向上在与上述第1位置不同之第2位置侵入上述载置部。而且，上述第1位置夹隔上述第2位置而于上述积层方向上设置于两处，上述第1搬送部与上述第2搬送部可同时间侵入上述载置部。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式