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1. 发明专利

TWI539129B 基板之處理裝置有权
简体标题：基板之处理设备
公开(公告)号：TWI539129B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW099105294
申请日：2010-02-24
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 宮迫久顯 , MIYASAKO, HISAAKI
IPC分类号： F26B15/10

2. 发明专利

TW201414653A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201414653A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102129802
申请日：2013-08-20
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 宮迫久顕 , MIYASAKO, HISAAKI , 荻原潔 , OGIWARA, KIYOSHI , 濱田崇広 , HAMADA, TAKAHIRO
IPC分类号： B65G43/08 , H05K3/00
摘要：提供一種基板處理裝置，其縮短搖動構件的搖動運動之收斂，防止誤檢測基板通過，且縮減基板搬運間隔，提升基板的搬運效率，能夠實現基板處理效率的提升。基板處理裝置(1)的基板檢測裝置(2)，具備：搖動構件(5)的一端部的檢測輥(6)；及搖動構件(5)的另一端部的砝碼(5C)及磁鐵(7)；及檢測感測器(8)，當搖動構件(5)從基板(B)碰觸檢測輥(6)之前的搖動構件之初始位置(P1)朝旋轉方向(R)旋轉時，會檢測出磁鐵(7)產生之磁場變化並輸出檢測訊號(DS)；及搖動止動器(11)，在搖動構件(5)之初始位置(P1)，使搖動構件(5)相對於垂直線(Z1)傾斜而保持。
简体摘要：提供一种基板处理设备，其缩短摇动构件的摇动运动之收敛，防止误检测基板通过，且缩减基板搬运间隔，提升基板的搬运效率，能够实现基板处理效率的提升。基板处理设备(1)的基板检测设备(2)，具备：摇动构件(5)的一端部的检测辊(6)；及摇动构件(5)的另一端部的砝码(5C)及磁铁(7)；及检测传感器(8)，当摇动构件(5)从基板(B)碰触检测辊(6)之前的摇动构件之初始位置(P1)朝旋转方向(R)旋转时，会检测出磁铁(7)产生之磁场变化并输出检测信号(DS)；及摇动止动器(11)，在摇动构件(5)之初始位置(P1)，使摇动构件(5)相对于垂直线(Z1)倾斜而保持。

3. 发明专利

TWI459491B 基板之處理裝置及處理方法有权
简体标题：基板之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TWI459491B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW095125429
申请日：2006-07-12
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：廣瀨治道 , HIROSE, HARUMICHI , 末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/027

4. 发明专利

TWI439329B 刷子洗淨裝置有权
简体标题：刷子洗净设备
公开(公告)号：TWI439329B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW097120920
申请日：2008-06-05
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 宮迫久顯 , MIYASAKO, HISAAKI
IPC分类号： B08B1/00 , B08B11/00

5. 发明专利

TWI494260B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI494260B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW102129802
申请日：2013-08-20
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 宮迫久顕 , MIYASAKO, HISAAKI , 荻原潔 , OGIWARA, KIYOSHI , 濱田崇広 , HAMADA, TAKAHIRO
IPC分类号： B65G49/06 , B65G43/08 , H01L21/677

6. 发明专利

TWI421924B 基板之處理裝置有权
简体标题：基板之处理设备
公开(公告)号：TWI421924B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW094136304
申请日：2005-10-18
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： H01L21/30

7. 发明专利

TWI389185B 基板之處理裝置（二）有权
简体标题：基板之处理设备（二）
公开(公告)号：TWI389185B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW094130357
申请日：2005-09-05
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：末吉秀樹 , SUEYOSHI, HIDEKI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： H01L21/30

8. 发明专利

TW201037782A 基板之處理裝置审中-公开
简体标题：基板之处理设备
公开(公告)号：TW201037782A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW099103799
申请日：2010-02-08
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司
发明人：末吉秀樹 , 宮迫久顯
IPC分类号： H01L , B65G
摘要：本發明之基板之處理裝置之處理槽包含有：下部框架，包含上面形成有第1基準面之複數連結構件，並由該等連結構件按預定間隔架設成矩形；支柱構件，下端部與下部框架之四隅部連結而立設；上部框架，四隅部與支柱構件之上端部連結而設置；側壁構件，設於按對應前述支柱構件之高度尺寸之間隔而在上下方向上分離之下部框架與上部框架所構成之4個側面上，並於位在預定方向上之一對側面之其中一者形成有基板之搬入口，另一者則形成有基板之搬出口；運送單元，以第1基準面為基準而安裝，可朝搬出口運送已自搬入口搬入內部之基板；底構件，可封閉下部框架之開口部分；及，頂構件，可封閉上部框架之開口部分。
简体摘要：本发明之基板之处理设备之处理槽包含有：下部框架，包含上面形成有第1基准面之复数链接构件，并由该等链接构件按预定间隔架设成矩形；支柱构件，下端部与下部框架之四隅部链接而立设；上部框架，四隅部与支柱构件之上端部链接而设置；侧壁构件，设于按对应前述支柱构件之高度尺寸之间隔而在上下方向上分离之下部框架与上部框架所构成之4个侧面上，并于位在预定方向上之一对侧面之其中一者形成有基板之搬入口，另一者则形成有基板之搬出口；运送单元，以第1基准面为基准而安装，可朝搬出口运送已自搬入口搬入内部之基板；底构件，可封闭下部框架之开口部分；及，顶构件，可封闭上部框架之开口部分。

9. 发明专利

TWI347865B 基板之處理裝置及處理方法 APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES AND METHOD OF TREATING SUBSTRATES 有权
简体标题：基板之处理设备及处理方法 APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES AND METHOD OF TREATING SUBSTRATES
公开(公告)号：TWI347865B
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW094108939
申请日：2005-03-23
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司
发明人：末吉秀樹 , 磯明典 , 豊島範夫 , 廣瀨治道 , 高木慎一郎
IPC分类号： B08B , B65G
摘要：本發明係提供可在腔室內之寬方向與長向均勻地排出該腔室內之環境氣體之基板之處理裝置。該基板之處理裝置具有：裝置本體，係形成有利用處理液進行處理之腔室者；搬送滾輪，係沿著腔室內之預定方向搬送基板；主排氣管，係位於基板上方，且沿著基板之搬送方向配置於與基板之搬送方向交叉之前述腔室的寬方向中央部分；及多數支排氣管，係其中一端與主排氣管連通，而另一端形成於位於腔室之寬方向端部且用以吸引腔室內的環境氣體之吸引口，同時，以主排氣管為中心對稱地設於腔室之寬方向上者。
简体摘要：本发明系提供可在腔室内之宽方向与长向均匀地排出该腔室内之环境气体之基板之处理设备。该基板之处理设备具有：设备本体，系形成有利用处理液进行处理之腔室者；搬送滚轮，系沿着腔室内之预定方向搬送基板；主排气管，系位于基板上方，且沿着基板之搬送方向配置于与基板之搬送方向交叉之前述腔室的宽方向中央部分；及多数支排气管，系其中一端与主排气管连通，而另一端形成于位于腔室之宽方向端部且用以吸引腔室内的环境气体之吸引口，同时，以主排气管为中心对称地设于腔室之宽方向上者。

10. 发明专利

TW201040476A 基板之處理裝置审中-公开
简体标题：基板之处理设备
公开(公告)号：TW201040476A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW099105294
申请日：2010-02-24
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司
发明人：末吉秀樹 , 宮迫久顯
IPC分类号： F26B
摘要：本發明之基板之處理裝置包含：上部氣刀，係朝基板之上面以預定的傾斜角度噴射氣體，並且於長向方向中途部設置上部鉤；下部氣刀，係朝基板之下面以預定的傾斜角度噴射氣體，並且於長向方向中途部設置下部鉤；上部支持構件及下部支持構件，係平行設置於上部氣刀之上方與下部氣刀之下方；懸掛構件，係設置於上部支持構件之長向方向的中途部，且可在垂直方向上定位，並且於下端具有上部鉤可搖動地與之卡合之上部卡止部；及上推構件，係設置於下部支持構件之長向方向之中途部，且可在垂直方向上定位，並且於上端具有下部鉤可搖動地與之卡合之下部卡止部。
简体摘要：本发明之基板之处理设备包含：上部气刀，系朝基板之上面以预定的倾斜角度喷射气体，并且于长向方向中途部设置上部钩；下部气刀，系朝基板之下面以预定的倾斜角度喷射气体，并且于长向方向中途部设置下部钩；上部支持构件及下部支持构件，系平行设置于上部气刀之上方与下部气刀之下方；悬挂构件，系设置于上部支持构件之长向方向的中途部，且可在垂直方向上定位，并且于下端具有上部钩可摇动地与之卡合之上部卡止部；及上推构件，系设置于下部支持构件之长向方向之中途部，且可在垂直方向上定位，并且于上端具有下部钩可摇动地与之卡合之下部卡止部。

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