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1. 发明专利

TWI688008B 退火系統及方法有权
简体标题：退火系统及方法
公开(公告)号：TWI688008B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107138905
申请日：2018-11-02
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN , 卡爾森查爾斯T , CARLSON, CHARLES T. , 渥帕特羅伯特伯內特 , VOPAT, ROBERT BRENT
IPC分类号： H01L21/324

2. 发明专利

TWI670793B 基板支撐及擋板設備有权
简体标题：基板支撑及挡板设备
公开(公告)号：TWI670793B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW105131202
申请日：2016-09-29
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： H01L21/683

3. 发明专利

TWI697083B 用於在半導體應用中使用超臨界流體的方法和設備有权
简体标题：用于在半导体应用中使用超临界流体的方法和设备
公开(公告)号：TWI697083B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW107111552
申请日：2018-04-02
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN
IPC分类号： H01L23/42 , H01L23/46 , H01L21/67

4. 发明专利

TW202011502A 減低容積的處理腔室审中-公开
简体标题：减低容积的处理腔室
公开(公告)号：TW202011502A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108135965
申请日：2016-09-29
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要：於此描述的實施例一般相關於具有減低容積的處理腔室，以執行超臨界烘乾處理或其他相位轉換處理。該腔室包含可移動地設置於第一軌道上的基板支撐件及可移動地設置於第二軌道上的門。基板支撐件及門可經配置以相互獨立地移動，且該腔室可經配置以最小化腔室內基板的垂直移動。
简体摘要：于此描述的实施例一般相关于具有减低容积的处理腔室，以运行超临界烘干处理或其他相位转换处理。该腔室包含可移动地设置于第一轨道上的基板支撑件及可移动地设置于第二轨道上的门。基板支撑件及门可经配置以相互独立地移动，且该腔室可经配置以最小化腔室内基板的垂直移动。

5. 发明专利

TW201843785A 用於在半導體應用中使用超臨界流體的方法和設備审中-公开
简体标题：用于在半导体应用中使用超临界流体的方法和设备
公开(公告)号：TW201843785A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107111552
申请日：2018-04-02
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN
IPC分类号： H01L23/42 , H01L23/46 , H01L21/67
摘要：提供了一種用於處理基板的方法和設備。二氧化碳液體的進料流在壓力下自進料供應器被供應至純化容器。在該純化容器中的該二氧化碳液體在單級蒸餾製程中被蒸餾以形成純化的二氧化碳氣體。該處理方法包含以下步驟：藉由與來自製冷系統的製冷劑進行熱交換來冷凝在該冷凝器中的該純化的二氧化碳氣體以形成純化的二氧化碳液體。該純化的二氧化碳液體被加熱至高於臨界點的目標溫度以使得該純化的二氧化碳液體變為超臨界二氧化碳流體。該處理方法包含以下步驟：使用該超臨界二氧化碳流體以清潔被設置在處理腔室中的基板。
简体摘要：提供了一种用于处理基板的方法和设备。二氧化碳液体的进料流在压力下自进料供应器被供应至纯化容器。在该纯化容器中的该二氧化碳液体在单级蒸馏制程中被蒸馏以形成纯化的二氧化碳气体。该处理方法包含以下步骤：借由与来自制冷系统的制冷剂进行热交换来冷凝在该冷凝器中的该纯化的二氧化碳气体以形成纯化的二氧化碳液体。该纯化的二氧化碳液体被加热至高于临界点的目标温度以使得该纯化的二氧化碳液体变为超临界二氧化碳流体。该处理方法包含以下步骤：使用该超临界二氧化碳流体以清洁被设置在处理腔室中的基板。

6. 发明专利

TWI699854B 基板支撐及擋板設備有权
简体标题：基板支撑及挡板设备
公开(公告)号：TWI699854B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108125950
申请日：2016-09-29
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： H01L21/683

7. 发明专利

TWI695744B 用於高縱橫比特徵之烘乾處理有权
简体标题：用于高纵横比特征之烘干处理
公开(公告)号：TWI695744B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW105131243
申请日：2016-09-29
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： B08B7/00 , F26B21/14 , F26B5/04 , H01L21/67

8. 发明专利

TWI688437B 使用小熱質量的加壓腔室的基板處理設備及方法有权
简体标题：使用小热质量的加压腔室的基板处理设备及方法
公开(公告)号：TWI688437B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW105130171
申请日：2016-09-19
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： B08B3/10

9. 发明专利

TWI677041B 減低容積的處理腔室有权
简体标题：减低容积的处理腔室
公开(公告)号：TWI677041B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW105131159
申请日：2016-09-29
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683

10. 发明专利

TW201731598A 用於高的寬高比特徵之烘乾處理审中-公开
简体标题：用于高的宽高比特征之烘干处理
公开(公告)号：TW201731598A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105131243
申请日：2016-09-29
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：寇克羅門 , GOUK, ROMAN , 陳翰文 , CHEN, HAN-WEN , 維哈佛貝可史帝文 , VERHAVERBEKE, STEVEN , 德爾馬斯琴 , DELMAS, JEAN
IPC分类号： B08B7/00 , F26B21/14 , F26B5/04 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02101 , B08B7/0021 , B08B7/0035 , F26B5/04 , F26B21/14 , H01L21/02057 , H01L21/02063 , H01L21/67034
摘要：揭示一種基板處理方法。該方法包含以下步驟：輸送一溶劑至一處理腔室，且輸送一基板至該處理腔室。出現在該處理腔室中的溶劑份量可經配置以浸沒該基板。可輸送液體CO2至該處理腔室且可將該液體CO2與該溶劑混合。可輸送一份量的額外液體CO2至該處理腔室，該份量大於該處理腔室的一容量以置換該溶劑。可在該處理腔室中將該液體CO2相位轉換至超臨界CO2，且可藉由等溫減壓該處理腔室及自該處理腔室排出氣體CO2來烘乾該基板。
简体摘要：揭示一种基板处理方法。该方法包含以下步骤：输送一溶剂至一处理腔室，且输送一基板至该处理腔室。出现在该处理腔室中的溶剂份量可经配置以浸没该基板。可输送液体CO2至该处理腔室且可将该液体CO2与该溶剂混合。可输送一份量的额外液体CO2至该处理腔室，该份量大于该处理腔室的一容量以置换该溶剂。可在该处理腔室中将该液体CO2相位转换至超临界CO2，且可借由等温减压该处理腔室及自该处理腔室排出气体CO2来烘干该基板。

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