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1. 发明专利

TWI543834B 脆性物件切斷裝置及其切斷方法有权
简体标题：脆性对象切断设备及其切断方法
公开(公告)号：TWI543834B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104113321
申请日：2015-04-24
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD.
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 范德米爾韓卓申科 , VLADIMIR, KONDRATENKO , 納烏莫夫亞歷山大 , ALEXANDER, NAUMOV , 徐智鵬 , HSU, CHIH-PENG , 徐维濃 , HSU, WEI-NUNG
IPC分类号： B23K26/55
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0087 , B23K26/0853 , B23K26/146 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2201/40 , B23K2203/52 , B23K2203/54 , B28D1/221 , B28D7/005 , B28D7/02 , C03B33/093

2. 发明专利

TWI696587B 奈米微氣泡製造和清洗系統有权
简体标题：奈米微气泡制造和清洗系统
公开(公告)号：TWI696587B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108100002
申请日：2019-01-02
申请人：英屬開曼群島商納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 施德毅 , SI, TAK NGAI SAMUEL , 戴銘恩 , TAI, MING-YAN , 吳彥澤 , WU, YAN-TZE
IPC分类号： C02F1/461 , B08B3/04 , C25B1/04 , C25B15/02

3. 发明专利

TW202026251A 奈米微氣泡製造和清洗系統审中-公开
简体标题：奈米微气泡制造和清洗系统
公开(公告)号：TW202026251A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108100002
申请日：2019-01-02
申请人：英屬開曼群島商納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 施德毅 , SI, TAK NGAI SAMUEL , 戴銘恩 , TAI, MING-YAN , 吳彥澤 , WU, YAN-TZE
IPC分类号： C02F1/461 , B08B3/04 , C25B1/04 , C25B15/02
摘要：本發明係揭露一種奈米微氣泡製造和清洗系統能夠清洗於一物件，其包含一水泵、一電解單元、一奈米微氣泡單元與一清洗槽。水泵輸出奈米離子水至電解單元，藉由電解單元電解奈米離子水以生成複數氣泡(例如氣泡尺寸為小尺寸氣泡與微尺寸氣泡)；前述奈米離子水藉由奈米微氣泡單元進一步產生複數奈米微氣泡；清洗槽提供一容置空間設置物件和注入具有奈米微氣泡的奈米離子水以清洗物件。其中，奈米離子水藉由在電解單元、奈米微氣泡單元與清洗槽之間循環流動，而能夠持續地以具有奈米微氣泡的奈米離子水清洗物件。
简体摘要：本发明系揭露一种奈米微气泡制造和清洗系统能够清洗于一对象，其包含一水泵、一电解单元、一奈米微气泡单元与一清洗槽。水泵输出奈米离子水至电解单元，借由电解单元电解奈米离子水以生成复数气泡(例如气泡尺寸为小尺寸气泡与微尺寸气泡)；前述奈米离子水借由奈米微气泡单元进一步产生复数奈米微气泡；清洗槽提供一容置空间设置对象和注入具有奈米微气泡的奈米离子水以清洗对象。其中，奈米离子水借由在电解单元、奈米微气泡单元与清洗槽之间循环流动，而能够持续地以具有奈米微气泡的奈米离子水清洗对象。

4. 发明专利

TWI665167B 奈米水製造方法及其系統有权
简体标题：奈米水制造方法及其系统
公开(公告)号：TWI665167B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW106136604
申请日：2017-10-25
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 黃泌超 , HUANG, CHING-CHAO , 駱正文 , LO, CHENG-WEN , 施德毅 , SI, TAK NGAI SAMUEL , 戴铭恩 , TAI, MING-YAN , 吳彥澤 , WU, YAN-TZE
IPC分类号： C02F1/44 , C02F1/50 , C02F1/461 , B82Y40/00 , C25B1/04 , C25B9/10 , C25B15/02

5. 发明专利

TWI665297B 不鏽鋼切削液有权
简体标题：不锈钢切削液
公开(公告)号：TWI665297B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107102075
申请日：2018-01-19
申请人：英屬開曼群島商納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 施武助 , SHIH, WU-CHU , 徐維濃 , HSU, WEI-NUNG
IPC分类号： C10M173/00 , C10M169/04 , C10N40/22

6. 实用新型

TWM551257U 負離子產生控制模組及其負離子產生器有权
简体标题：负离子产生控制模块及其负离子产生器
公开(公告)号：TWM551257U
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106210503
申请日：2017-07-17
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD.
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 黃沁超 , HUANG, CHING-CHAO
IPC分类号： F24F3/16

7. 实用新型

TWM534190U 電解奈米離子水生成裝置有权
简体标题：电解奈米离子水生成设备
公开(公告)号：TWM534190U
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW105213352
申请日：2016-08-31
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD.
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 駱正文 , LO, CHENG-WEN , 施德毅 , SI, TAK NGAI SAMUEL , 戴銘恩 , TAI, MING YAN
IPC分类号： C25B1/04
CPC分类号： C02F1/4618 , C02F1/46109 , C02F1/46114 , C02F2001/46123 , C02F2001/4619 , C02F2201/46115 , C02F2201/4612 , C02F2201/4614 , C02F2201/4617 , C02F2201/4618 , C02F2209/06 , C02F2209/40 , C25B9/08 , C25B9/12 , C25B15/02 , C25B15/04

8. 发明专利

TW201625375A 脆性物件切斷裝置及其切斷方法审中-公开
简体标题：脆性对象切断设备及其切断方法
公开(公告)号：TW201625375A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104113321
申请日：2015-04-24
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD.
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 范德米爾韓卓申科 , VLADIMIR, KONDRATENKO , 納烏莫夫亞歷山大 , ALEXANDER, NAUMOV , 徐智鵬 , HSU, CHIH-PENG , 徐维濃 , HSU, WEI-NUNG
IPC分类号： B23K26/55
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0087 , B23K26/0853 , B23K26/146 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2201/40 , B23K2203/52 , B23K2203/54 , B28D1/221 , B28D7/005 , B28D7/02 , C03B33/093
摘要：本發明提供一種脆性物件切斷裝置及其切斷方法，其中脆性物件切斷裝置包含第一加熱雷射單元、第二加熱雷射單元、切口雷射單元、冷却單元及處理模組。在脆性物件的表面上，二加熱雷射單元的加熱光束分別位於切口雷射單元的切口光束的兩側，而冷却單元的冷却液跟隨在加熱光束之後。在脆性物件的一次移動行程，處理模組控制切口光束進行切口作業，且控制其中一加熱光束及冷却單元的冷却液對脆性物件進行加熱與冷却。本發明藉此可節省切斷脆性物件的作業時間。
简体摘要：本发明提供一种脆性对象切断设备及其切断方法，其中脆性对象切断设备包含第一加热激光单元、第二加热激光单元、切口激光单元、冷却单元及处理模块。在脆性对象的表面上，二加热激光单元的加热光束分别位于切口激光单元的切口光束的两侧，而冷却单元的冷却液跟随在加热光束之后。在脆性对象的一次移动行程，处理模块控制切口光束进行切口作业，且控制其中一加热光束及冷却单元的冷却液对脆性对象进行加热与冷却。本发明借此可节省切断脆性对象的作业时间。

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