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1. 发明专利

TWI665167B 奈米水製造方法及其系統有权
简体标题：奈米水制造方法及其系统
公开(公告)号：TWI665167B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW106136604
申请日：2017-10-25
申请人：納諾股份有限公司 , NANOPLUS LTD
发明人：呂鴻圖 , LU, HUNG-TU , 黃泌超 , HUANG, CHING-CHAO , 駱正文 , LO, CHENG-WEN , 施德毅 , SI, TAK NGAI SAMUEL , 戴铭恩 , TAI, MING-YAN , 吳彥澤 , WU, YAN-TZE
IPC分类号： C02F1/44 , C02F1/50 , C02F1/461 , B82Y40/00 , C25B1/04 , C25B9/10 , C25B15/02

2. 发明专利

TWI632255B 高純度氯化鈷及其製造方法有权
简体标题：高纯度氯化钴及其制造方法
公开(公告)号：TWI632255B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103131543
申请日：2014-09-12
申请人： JX日鑛日石金屬股份有限公司 , JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
发明人：加納學 , KANOU, GAKU
IPC分类号： C25B1/26 , C25B9/10 , C25B11/04 , C25B13/00 , C25B15/02 , C25B15/08 , C01G51/08

3. 实用新型

TWM554472U 電解水裝置有权
简体标题：电解水设备
公开(公告)号：TWM554472U
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW106212635
申请日：2017-08-25
申请人：林信湧 , LIN, HSIN YUNG
发明人：林信湧 , LIN, HSIN YUNG
IPC分类号： C25B9/10 , C25B1/10 , C25B15/00 , C25B15/02

4. 发明专利

TW201710557A 氫氣生成裝置审中-公开
简体标题：氢气生成设备
公开(公告)号：TW201710557A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105112229
申请日：2016-04-20
申请人： MIZ股份有限公司 , MIZ COMPANY LIMITED
发明人：黑川亮介 , KUROKAWA, RYOUSUKE , 田中賢治 , TANAKA, KENJI , 佐藤文武 , SATOH, FUMITAKE , 佐藤文平 , SATOH, BUNPEI
IPC分类号： C25B1/04 , C25B9/06 , C25B15/02 , A61M16/12
CPC分类号： C25B1/06 , C25B15/02 , Y02E60/366
摘要：包括：電解槽2，包含框體20、第一室21、第二室22、隔膜及25一對電極板23、24；儲槽6，貯留被電解水W；電源3，將直流電壓施加於上述一對電極板；稀釋器4，將稀釋已生成的氫氣的稀釋氣體導入設有成為陰極的電極板之上述第一室或上述第二室；電量檢測器51，檢測被賦予至成為上述陰極的電極板的電量；流量檢測器52，檢測上述稀釋器造成的稀釋氣體的流量；演算器5，根據藉由上述電量檢測器而檢測的電量及藉由上述流量檢測器而檢測的流量，演算上述被稀釋的氫氣的濃度；以及提示器54，提示由上述演算器演算之氫氣的濃度。
简体摘要：包括：电解槽2，包含框体20、第一室21、第二室22、隔膜及25一对电极板23、24；储槽6，贮留被电解水W；电源3，将直流电压施加于上述一对电极板；稀释器4，将稀释已生成的氢气的稀释气体导入设有成为阴极的电极板之上述第一室或上述第二室；电量检测器51，检测被赋予至成为上述阴极的电极板的电量；流量检测器52，检测上述稀释器造成的稀释气体的流量；演算器5，根据借由上述电量检测器而检测的电量及借由上述流量检测器而检测的流量，演算上述被稀释的氢气的浓度；以及提示器54，提示由上述演算器演算之氢气的浓度。

5. 发明专利

TW201639987A 電解槽控制系統审中-公开
简体标题：电解槽控制系统
公开(公告)号：TW201639987A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW104114457
申请日：2015-05-06
申请人：國立交通大學 , NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY
发明人：邱俊誠 , CHIOU, JIN CHERN , 張寶元 , CHANG, PAO YUAN , 黃煜傑 , HUANG, YU CHIEH , 吳晉晟 , WU, CHIN CHENG , 張晃源 , CHANG, HUANG YUAN
IPC分类号： C25B9/00 , C25B15/02
CPC分类号： C25B15/02 , C25B1/04 , Y02E60/366
摘要：一種電解槽控制系統以電解作用會隨電解液溫度上升而導致電解阻抗下降，及電解生成物之產量與電解電流成正比等兩種物理現象為基礎，且電解槽控制系統包含電壓轉換器、電解槽、溫度偵測器、電力偵測器及控制單元，透過控制單元的監控分析，提供固定電壓、固定電流等兩種電解作用模式，達到控制電解槽溫度與電解生成物質量的雙重目標，控制單元包括儲存多個分別對應不同電流值的第一特徵曲線關係的特徵曲線資料庫，每一第一特徵曲線關係記錄多個溫度值及分別負相關對應的多個電壓值。
简体摘要：一种电解槽控制系统以电解作用会随电解液温度上升而导致电解阻抗下降，及电解生成物之产量与电解电流成正比等两种物理现象为基础，且电解槽控制系统包含电压转换器、电解槽、温度侦测器、电力侦测器及控制单元，透过控制单元的监控分析，提供固定电压、固定电流等两种电解作用模式，达到控制电解槽温度与电解生成物质量的双重目标，控制单元包括存储多个分别对应不同电流值的第一特征曲线关系的特征曲线数据库，每一第一特征曲线关系记录多个温度值及分别负相关对应的多个电压值。

6. 发明专利

TW201636456A 一種具有冷卻功能的電化學治具审中-公开
简体标题：一种具有冷却功能的电化学治具
公开(公告)号：TW201636456A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104111191
申请日：2015-04-08
申请人：國立聯合大學 , NATIONAL UNITED UNIVERSITY
发明人：洪千萬 , 周鍾煜 , CHOU, CHUNG YI , 王釧如 , WANG, CHUAN JU , 陳志遠 , CHEN, CHIH YUAN , 陳建仲 , CHEN, CHIEN CHON
IPC分类号： C25B9/00 , C25B15/02 , C25C7/00 , C25D17/00 , C25D21/02 , C25D21/12 , C25F7/00
摘要：本發明是關於一種具有冷卻功能的電化學治具，此治具可使待處理工作樣品之特定表面裸露於電解液中，使工作樣品在進行電化學加工時保持特定的溫度與電流密度，並可針對特定裸露之樣品表面進行電解、電解拋光、電鍍、陽極處理、蝕刻、浸鍍、酸洗、鹼洗等反應，此治具的結構包含：治具群組、水冷式電極群組、與導電棒群組之結合。
简体摘要：本发明是关于一种具有冷却功能的电化学治具，此治具可使待处理工作样品之特定表面裸露于电解液中，使工作样品在进行电化学加工时保持特定的温度与电流密度，并可针对特定裸露之样品表面进行电解、电解抛光、电镀、阳极处理、蚀刻、浸镀、酸洗、碱洗等反应，此治具的结构包含：治具群组、水冷式电极群组、与导电棒群组之结合。

7. 发明专利

TW201615895A 氣體產生器审中-公开
简体标题：气体产生器
公开(公告)号：TW201615895A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW103135892
申请日：2014-10-16
申请人：林信湧 , LIN, HSIN YUNG
发明人：林信湧 , LIN, HSIN YUNG
IPC分类号： C25B1/04 , C25B15/08 , C25B15/02 , B01D5/00
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：本發明揭露一種氣體產生器，其包含電解裝置以及冷凝過濾器。電解裝置用以電解電解水以產生一氫氧混合氣體。冷凝過濾器用以冷凝氫氧混合氣體同時並過濾氫氧混合氣體中之雜質。冷凝過濾器具有一入氣孔以及一出氣孔。當該電解裝置暫停電解電解水以產生氫氧混合氣體時，冷凝過濾器之出氣孔可以用來輸入一補充水，同時雜質可以藉由補充水經由入氣孔回沖至電解裝置。因此本發明之氣體產生器能提供一適合人體吸入之氫氧混合氣體，同時能減少電解質之消耗以及避免電解質阻塞於冷凝過濾器中。
简体摘要：本发明揭露一种气体产生器，其包含电解设备以及冷凝过滤器。电解设备用以电解电解水以产生一氢氧混合气体。冷凝过滤器用以冷凝氢氧混合气体同时并过滤氢氧混合气体中之杂质。冷凝过滤器具有一入气孔以及一出气孔。当该电解设备暂停电解电解水以产生氢氧混合气体时，冷凝过滤器之出气孔可以用来输入一补充水，同时杂质可以借由补充水经由入气孔回冲至电解设备。因此本发明之气体产生器能提供一适合人体吸入之氢氧混合气体，同时能减少电解质之消耗以及避免电解质阻塞于冷凝过滤器中。

8. 发明专利

TWI449811B 用以產生供消毒劑應用之ｐＨ經控制次鹵酸水溶液之電解裝置失效
简体标题：用以产生供消毒剂应用之ｐＨ经控制次卤酸水溶液之电解设备
公开(公告)号：TWI449811B
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW098132972
申请日：2009-09-29
申请人：高喬工業股份有限公司 , GOJO INDUSTRIES, INC.
发明人：雪爾森丹尼爾 , SCHERSON, DANIEL A. , 威格林傑克森 , WEGELIN, JACKSON W. , 漢克威爾佛瑞德 , HEMKER, WILFRED J.
IPC分类号： C25B9/06 , C25B1/26 , C25B15/02
CPC分类号： C25B1/26 , C02F1/4674 , C25B1/24 , C25B9/00 , C25B15/02 , C25B15/08

9. 发明专利

TW201402869A 以微間隙裝置中之耗氧電極電解鹼金屬鹵化物之方法审中-公开
简体标题：以微间隙设备中之耗氧电极电解碱金属卤化物之方法
公开(公告)号：TW201402869A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102108569
申请日：2013-03-12
申请人：拜耳智慧財產有限公司 , BAYER INTELLECTUAL PROPERTY GMBH
发明人：布蘭安德烈斯 , BULAN, ANDREAS , 金楚普于爾根 , KINTRUP, JUERGEN
IPC分类号： C25B1/16 , C25B9/08 , C25B15/02
CPC分类号： C25B1/14 , C25B1/46 , C25B9/08 , C25B15/02
摘要：描述用具有特殊啟動和關閉操作參數的耗氧電極電解鹼金屬氯化物的方法，符合所述操作參數能防止電解池組成部分損害。
简体摘要：描述用具有特殊启动和关闭操作参数的耗氧电极电解碱金属氯化物的方法，符合所述操作参数能防止电解池组成部分损害。

10. 发明专利

TWI390084B 氟系氣體產生裝置失效
简体标题：氟系气体产生设备
公开(公告)号：TWI390084B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW095124690
申请日：2006-07-06
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：田中則之 , TANAKA, NORIYUKI , 吉本修 , YOSHIMOTO, OSAMU , 平岩次郎 , HIRAIWA, JIRO , 早川宏 , HAYAKAWA, HIROSHI , 東城哲朗 , TOJO, TETSURO
IPC分类号： C25B9/00 , C25B1/24 , C25B15/02
CPC分类号： C25B1/245 , C25B15/02 , C25B15/08

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