会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 一種製造與測試半導體晶圓的方法 METHOD FOR FABRICATING AND TESTING SEMICONDUCTOR WAFER
    • 一种制造与测试半导体晶圆的方法 METHOD FOR FABRICATING AND TESTING SEMICONDUCTOR WAFER
    • TW200826170A
    • 2008-06-16
    • TW096146006
    • 2007-12-04
    • 米輯電子股份有限公司 MEGICA CORPORATION
    • 林茂雄 LIN, MOU SHIUNG林世雄 LIN, SHIH HSIUNG
    • H01LG01R
    • 本發明係提供一種製造與測試半導體晶圓的方法,其係包括:形成一鈦鎢合金層在保護層上與複數接墊上,形成材質為金的一種子層在鈦鎢合金層上,形成光阻層在種子層上,形成複數金屬層在光阻層內之複數開口所暴露出的種子層上,去除光阻層以及去除未在這些金屬層下的種子層,接著利用含有雙氧水的蝕刻液蝕刻未在這些金屬層下方之鈦鎢合金層,並在蝕刻期間施加超音波到蝕刻液中,或是利用溫度介於35至50℃之間且含有雙氧水的蝕刻液蝕刻未在這些金屬層下方之鈦鎢合金層,再來利用一探針卡的複數探針尖端接觸部份金屬層,並在重複探針尖端接觸部份金屬層的步驟次數達到100次以上之後,才清潔這些探針尖端,而在清潔這些探針尖端之後,繼續利用探針尖端接觸部份金屬層。
    • 本发明系提供一种制造与测试半导体晶圆的方法,其系包括:形成一钛钨合金层在保护层上与复数接垫上,形成材质为金的一种子层在钛钨合金层上,形成光阻层在种子层上,形成复数金属层在光阻层内之复数开口所暴露出的种子层上,去除光阻层以及去除未在这些金属层下的种子层,接着利用含有双氧水的蚀刻液蚀刻未在这些金属层下方之钛钨合金层,并在蚀刻期间施加超音波到蚀刻液中,或是利用温度介于35至50℃之间且含有双氧水的蚀刻液蚀刻未在这些金属层下方之钛钨合金层,再来利用一探针卡的复数探针尖端接触部份金属层,并在重复探针尖端接触部份金属层的步骤次数达到100次以上之后,才清洁这些探针尖端,而在清洁这些探针尖端之后,继续利用探针尖端接触部份金属层。
    • 6. 发明专利
    • 晶片構裝及其製程 CHIP PACKAGE AND PROCESS FOR THE SAME
    • 芯片构装及其制程 CHIP PACKAGE AND PROCESS FOR THE SAME
    • TWI301647B
    • 2008-10-01
    • TW093128389
    • 2004-09-20
    • 米輯電子股份有限公司 MEGICA CORPORATION
    • 林茂雄 LIN, MOU SHIUNG
    • H01L
    • H01L2224/73204H01L2924/014
    • 本發明之晶片構裝及其製程,係將半導體晶片之厚金屬線路
      直接接觸地大面積連接另一電路連接構件之線路,或是透過含有
      聚合物及金屬粒子的導電層大面積地連接另一電路連接構件之線
      路,藉以降低半導體晶片之厚金屬線路與電路連接構件之線路間
      的電阻。若是大面積電性連接之半導體晶片之厚金屬線路與電路
      連接構件之線路係作為訊號傳輸之用時,則半導體晶片之厚金屬
      線路與電路連接構件之線路可以提供較穩定的訊號傳輸;若是大
      面積電性連接之半導體晶片之厚金屬線路與電路連接構件之線路
      係作為電源滙流排或接地滙流排之用時,則半導體晶片之厚金屬
      線路及/或電路連接構件之線路可以提供較穩定的電源電壓或接地
      電壓。
    • 本发明之芯片构装及其制程,系将半导体芯片之厚金属线路 直接接触地大面积连接另一电路连接构件之线路,或是透过含有 聚合物及金属粒子的导电层大面积地连接另一电路连接构件之线 路,借以降低半导体芯片之厚金属线路与电路连接构件之线路间 的电阻。若是大面积电性连接之半导体芯片之厚金属线路与电路 连接构件之线路系作为信号传输之用时,则半导体芯片之厚金属 线路与电路连接构件之线路可以提供较稳定的信号传输;若是大 面积电性连接之半导体芯片之厚金属线路与电路连接构件之线路 系作为电源汇流排或接地汇流排之用时,则半导体芯片之厚金属 线路及/或电路连接构件之线路可以提供较稳定的电源电压或接地 电压。
    • 9. 发明专利
    • 半導體晶片結構及其製程 SEMICONDUCTOR CHIP AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
    • 半导体芯片结构及其制程 SEMICONDUCTOR CHIP AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
    • TW200814212A
    • 2008-03-16
    • TW096133089
    • 2007-09-05
    • 米輯電子股份有限公司 MEGICA CORPORATION
    • 林茂雄 LIN, MOU SHIUNG周秋明 CHOU, CHIU MING
    • H01L
    • H01L2224/11H01L2224/16225H01L2224/32225H01L2224/73204H01L2924/12044H01L2924/00H01L2924/00012
    • 半導體晶片元件結構包括一半導體基底,此半導體基底上包括至少一主動元件;一細連線結構,位在此半導體基底及此主動元件上,此細連線結構包括複數個介電層及複數個細線路層位於此半導體基底上,且此些介電層具有多數個通道孔,此些細線路層係位於此些介電層其中之一上,其中此些細線路層藉由此些通道孔彼此電性連接,此些細線路層包括至少一金屬接墊;一保護層,位在此半導體基底上,此保護層具有至少一開口曝露出此金屬接墊;一聚合物凸塊,位在此保護層及此金屬接墊上,並暴露出此金屬接墊表面之一導電區域;一黏著阻障層,位在此保護層、此聚合物凸塊及此導電區域上,此黏著阻障層包覆此聚合物凸塊之至少二表面;一種子層,位在此黏著阻障層上;一金屬層,位在此種子層上,此金屬層與此種子層相同材質,且經由位在此聚合物凸塊頂面上之此金屬層可連接至一外界電路。
    • 半导体芯片组件结构包括一半导体基底,此半导体基底上包括至少一主动组件;一细连接结构,位在此半导体基底及此主动组件上,此细连接结构包括复数个介电层及复数个细线路层位于此半导体基底上,且此些介电层具有多数个信道孔,此些细线路层系位于此些介电层其中之一上,其中此些细线路层借由此些信道孔彼此电性连接,此些细线路层包括至少一金属接垫;一保护层,位在此半导体基底上,此保护层具有至少一开口曝露出此金属接垫;一聚合物凸块,位在此保护层及此金属接垫上,并暴露出此金属接垫表面之一导电区域;一黏着阻障层,位在此保护层、此聚合物凸块及此导电区域上,此黏着阻障层包覆此聚合物凸块之至少二表面;一种子层,位在此黏着阻障层上;一金属层,位在此种子层上,此金属层与此种子层相同材质,且经由位在此聚合物凸块顶面上之此金属层可连接至一外界电路。