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1. 发明专利

TW201343883A 研磨用組成物及使用其之研磨方法及基板之製造方法审中-公开
简体标题：研磨用组成物及使用其之研磨方法及基板之制造方法
公开(公告)号：TW201343883A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101144482
申请日：2012-11-28
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉井一誠 , TAMAI, KAZUSEI , 芦高圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053
摘要：本發明之研磨用組成物，係含有在表面上具有複數個突起之砥粒。研磨用組成物之砥粒中直徑較砥粒體積基準平均粒子直徑更大的砥粒，藉由以表面上具有的突起之高度除以各相同突起的基部寬度所得之值的平均值為0.170以上。而且，粒子直徑較砥粒之體積基準平均粒子直徑更大的砥粒在表面上具有的突起之平均高度為3.5nm以上。研磨用組成物中所含的有機鹼之量，以研磨用組成物中之砥粒1kg為基準時為100mmol以下。
简体摘要：本发明之研磨用组成物，系含有在表面上具有复数个突起之砥粒。研磨用组成物之砥粒中直径较砥粒体积基准平均粒子直径更大的砥粒，借由以表面上具有的突起之高度除以各相同突起的基部宽度所得之值的平均值为0.170以上。而且，粒子直径较砥粒之体积基准平均粒子直径更大的砥粒在表面上具有的突起之平均高度为3.5nm以上。研磨用组成物中所含的有机碱之量，以研磨用组成物中之砥粒1kg为基准时为100mmol以下。

2. 发明专利

TW201341514A 合金材料之研磨方法及合金材料之製造方法审中-公开
简体标题：合金材料之研磨方法及合金材料之制造方法
公开(公告)号：TW201341514A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101143478
申请日：2012-11-21
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 浅野宏 , ASANO, HIROSHI , 浅井舞子 , ASAI, MAIKO , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO , 玉井一誠 , TAMAI, KAZUSEI
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00
CPC分类号： C09G1/02 , B24B29/00 , B24B37/044
摘要：提供一種有效率地將含有主成分及0.1質量%以上的與主成分在維克氏硬度(HV)差異5以上的元素之合金材料研磨成為優異鏡面的研磨方法。在其研磨方法所使用之研磨用組成物含有砥粒及氧化劑。合金材料以鋁合金、鈦合金、不鏽鋼、鎳合金或銅合金為佳。又，使用上述研磨用組成物研磨之前，以預備研磨合金材料為佳。
简体摘要：提供一种有效率地将含有主成分及0.1质量%以上的与主成分在维克氏硬度(HV)差异5以上的元素之合金材料研磨成为优异镜面的研磨方法。在其研磨方法所使用之研磨用组成物含有砥粒及氧化剂。合金材料以铝合金、钛合金、不锈钢、镍合金或铜合金为佳。又，使用上述研磨用组成物研磨之前，以预备研磨合金材料为佳。

3. 发明专利

TW201736265A 多孔質金屬氧化物之製造方法审中-公开
简体标题：多孔质金属氧化物之制造方法
公开(公告)号：TW201736265A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106101886
申请日：2017-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO , 赫本羅伯特 , HEPBURN, ROBERT
IPC分类号： C01F7/30 , C01G25/02 , B01J20/06 , B01J20/08 , B01J20/28 , B01J20/30 , B01D15/08 , C22B61/00 , G21G1/04 , G21G4/04
CPC分类号： C01B13/32 , C01F7/02 , C01G23/053 , C01G25/02
摘要：本發明提供多孔質金屬氧化物之製造方法。該方法包含使金屬源、細孔形成劑與水性溶劑混合而調製漿料，使上述漿料乾燥獲得金屬氧化物前驅物，使上述金屬氧化物前驅物燒成而生成多孔質金屬氧化物。其中，上述金屬源係含有構成上述多孔質金屬氧化物之金屬的有機金屬化合物或其水解物，上述細孔形成劑係在燒成上述金屬氧化物前驅物之溫度以下之溫度會分解並產生氣體之無機化合物。上述漿料之調製係相對於上述金屬源100重量份而言，使用上述細孔形成劑50重量份以上而進行。
简体摘要：本发明提供多孔质金属氧化物之制造方法。该方法包含使金属源、细孔形成剂与水性溶剂混合而调制浆料，使上述浆料干燥获得金属氧化物前驱物，使上述金属氧化物前驱物烧成而生成多孔质金属氧化物。其中，上述金属源系含有构成上述多孔质金属氧化物之金属的有机金属化合物或其水解物，上述细孔形成剂系在烧成上述金属氧化物前驱物之温度以下之温度会分解并产生气体之无机化合物。上述浆料之调制系相对于上述金属源100重量份而言，使用上述细孔形成剂50重量份以上而进行。

4. 发明专利

TW201631073A 研磨用組成物审中-公开
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TW201631073A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105101553
申请日：2016-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/31053
摘要：本發明之課題在於提供一種於磺酸修飾之水性陰離子溶膠中，在用以研磨包含SiN之研磨對象物之研磨用組成物中用作為研磨粒時，可提升SiN研磨速率之隨時間經過的穩定性，並且亦可降低過氧化氫的含量之技術。本發明之解決手段，係於pH6以下之研磨用組成物中，含有：磺酸被固定化於二氧化矽粒子的表面而成之磺酸修飾之膠態矽、與水；此時，前述磺酸修飾之膠態矽，係使用來自藉由下述製造方法所製造之磺酸修飾之水性陰離子矽溶膠者，該製造方法包含：在具有可化學性地轉換成磺酸基之官能基之矽烷偶合劑的存在下，加熱原料膠態矽而得到反應物之第1反應步驟，該原料膠態矽，其具有依據使用掃描型電子顯微鏡之影像解析所得的Heywood徑(圓等效徑)之體積平均粒徑40%以下的粒徑之微小粒子的個數分布比率為10%以下；以及藉由處理前述反應物，將前述官能基轉換成磺酸基之第2反應步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种于磺酸修饰之水性阴离子溶胶中，在用以研磨包含SiN之研磨对象物之研磨用组成物中用作为研磨粒时，可提升SiN研磨速率之随时间经过的稳定性，并且亦可降低过氧化氢的含量之技术。本发明之解决手段，系于pH6以下之研磨用组成物中，含有：磺酸被固定化于二氧化硅粒子的表面而成之磺酸修饰之胶态硅、与水；此时，前述磺酸修饰之胶态硅，系使用来自借由下述制造方法所制造之磺酸修饰之水性阴离子硅溶胶者，该制造方法包含：在具有可化学性地转换成磺酸基之官能基之硅烷偶合剂的存在下，加热原料胶态硅而得到反应物之第1反应步骤，该原料胶态硅，其具有依据使用扫描型电子显微镜之影像解析所得的Heywood径(圆等效径)之体积平均粒径40%以下的粒径之微小粒子的个数分布比率为10%以下；以及借由处理前述反应物，将前述官能基转换成磺酸基之第2反应步骤。

5. 发明专利

TWI593792B 研磨用組成物及使用其之研磨方法及基板之製造方法有权
简体标题：研磨用组成物及使用其之研磨方法及基板之制造方法
公开(公告)号：TWI593792B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW101144482
申请日：2012-11-28
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉井一誠 , TAMAI, KAZUSEI , 芦高圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053

6. 发明专利

TW201630810A 改質膠態矽及製造方法以及使用其之研磨劑审中-公开
简体标题：改质胶态硅及制造方法以及使用其之研磨剂
公开(公告)号：TW201630810A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105101552
申请日：2016-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 坪田翔吾 , TSUBOTA, SHOGO
IPC分类号： C01B33/02 , B01J13/02 , C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C01B33/146 , C01B33/148 , C01B33/149 , C01P2004/03 , C01P2004/51 , C01P2004/61 , C07F7/025 , C09K3/14 , C09K3/1436 , H01L21/304 , H01L21/31053 , H01L21/76819
摘要：本發明之課題在於提供一種在用以研磨包含如SiN晶圓般之容易附著帶電的改質膠態矽之材料的研磨對象物之研磨用組成物中，用作為研磨粒時，可提升研磨速率之隨時間經過的穩定性之改質膠態矽及其製造方法。本發明之解決手段為一種改質膠態矽，其係將原料膠態矽改質而成，該原料膠態矽，係具有依據使用掃描型電子顯微鏡之影像解析所得的Heywood徑(圓等效徑)之體積平均粒徑為40%以下的粒徑之微小粒子的個數分布比率為10%以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种在用以研磨包含如SiN晶圆般之容易附着带电的改质胶态硅之材料的研磨对象物之研磨用组成物中，用作为研磨粒时，可提升研磨速率之随时间经过的稳定性之改质胶态硅及其制造方法。本发明之解决手段为一种改质胶态硅，其系将原料胶态硅改质而成，该原料胶态硅，系具有依据使用扫描型电子显微镜之影像解析所得的Heywood径(圆等效径)之体积平均粒径为40%以下的粒径之微小粒子的个数分布比率为10%以下。

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