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1. 发明专利

TW505992B 光照射式加熱裝置之冷卻構造有权
简体标题：光照射式加热设备之冷却构造
公开(公告)号：TW505992B
公开(公告)日：2002-10-11
申请号：TW088111954
申请日：1999-07-14
申请人：牛尾電機股份有限公司
发明人：鈴木信二 , 美濃部猛
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67115
摘要：本發明係關於提供一種光照射式加熱裝置之冷卻構造，其為雖然把晶圓加熱至800~1200℃左右，但能夠把燈之發光管部，導入管部，及密封部等之各部容易地控制在適當的溫度者。
本發明為在由發光管部，設在發光管部之端部之導入管部及密封部所成之複數個燈配置在光照射室內之光照射式加熱裝置中，在燈之發光管部之背後，具有反射來自發光部之光且使導入管部與密封部通過之貫穿孔之鏡子，具有使燈之密封部通過之貫穿孔之板及具有冷卻風取進口或冷卻風排出口之蓋體所成之蓋體室，設在蓋體室與鏡子之間，藉導管而連接於排氣裝置或送風裝置之風箱；用排氣裝置，從蓋體之冷卻風取進口，經板之貫穿孔，風箱，導管，以及從光照射室之冷卻風取進口，經光照射室，鏡子之貫穿孔，風箱，導管，而排風；或者，用送風裝置而經導管，風箱，板之貫穿孔而向蓋體之冷風排出口送風，以及經導管，風箱，鏡子之貫穿孔，光照射室而向光照射室之冷卻風排出口送風來冷卻燈等之構成者。
简体摘要：本发明系关于提供一种光照射式加热设备之冷却构造，其为虽然把晶圆加热至800~1200℃左右，但能够把灯之发光管部，导入管部，及密封部等之各部容易地控制在适当的温度者。本发明为在由发光管部，设在发光管部之端部之导入管部及密封部所成之复数个灯配置在光照射室内之光照射式加热设备中，在灯之发光管部之背后，具有反射来自发光部之光且使导入管部与密封部通过之贯穿孔之镜子，具有使灯之密封部通过之贯穿孔之板及具有冷却风取进口或冷却风排出口之盖体所成之盖体室，设在盖体室与镜子之间，藉导管而连接于排气设备或送风设备之风箱；用排气设备，从盖体之冷却风取进口，经板之贯穿孔，风箱，导管，以及从光照射室之冷却风取进口，经光照射室，镜子之贯穿孔，风箱，导管，而排风；或者，用送风设备而经导管，风箱，板之贯穿孔而向盖体之冷风排出口送风，以及经导管，风箱，镜子之贯穿孔，光照射室而向光照射室之冷却风排出口送风来冷却灯等之构成者。

2. 发明专利

TW201012728A 基板搬運臂审中-公开
简体标题：基板搬运臂
公开(公告)号：TW201012728A
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098125068
申请日：2009-07-24
申请人：牛尾電機股份有限公司
发明人：岡本英樹 , 瀧浦博文 , 美濃部猛
IPC分类号： B65G , H01L
CPC分类号： B25J15/0616
摘要：課題將彎曲的印刷基板載置在工件平台之際，防止吸附用的真空洩漏在基板與工件平台及基板之間，作成工件平台可吸附保持基板。解決手段搬運臂（10）是藉由吸附襯墊（1）將基板藉由真空吸附加以保持並進行搬運，載置於工件平台上而藉由真空吸附進行保持。在設有搬運臂（10）的吸附襯墊（1）的一側，設有比吸附襯墊（1）還要短的板簧（4）等的彈性構件。板簧（4）是比吸附襯墊（1）的前端還要縮回地設置，保持基板的搬運臂（10）在工件平台上下降時，板簧（4）是朝工件平台的方向推壓基板彎曲部分。因此，基板是平面地被矯正，沒有來自基板周邊部的吸附用真空的洩漏，基板是被吸附保持在工件平台。
简体摘要：课题将弯曲的印刷基板载置在工件平台之际，防止吸附用的真空泄漏在基板与工件平台及基板之间，作成工件平台可吸附保持基板。解决手段搬运臂（10）是借由吸附衬垫（1）将基板借由真空吸附加以保持并进行搬运，载置于工件平台上而借由真空吸附进行保持。在设有搬运臂（10）的吸附衬垫（1）的一侧，设有比吸附衬垫（1）还要短的板簧（4）等的弹性构件。板簧（4）是比吸附衬垫（1）的前端还要缩回地设置，保持基板的搬运臂（10）在工件平台上下降时，板簧（4）是朝工件平台的方向推压基板弯曲部分。因此，基板是平面地被矫正，没有来自基板周边部的吸附用真空的泄漏，基板是被吸附保持在工件平台。

3. 发明专利

TWI535968B 光照射器有权
公开(公告)号：TWI535968B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW102145355
申请日：2013-12-10
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：美濃部猛 , MINOBE, TAKESHI
IPC分类号： F21S2/00 , F21Y103/00

4. 发明专利

TW201437539A 光照射器审中-公开
公开(公告)号：TW201437539A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102145355
申请日：2013-12-10
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：美濃部猛 , MINOBE, TAKESHI
IPC分类号： F21S2/00 , F21Y103/00
摘要： [課題]提供特別是即使具備長條狀的光源之狀況中也可容易進行維護，且不需使用較大空間的光照射器。[解決手段]以光源保持框架(11)保持長條狀之光源(1)的光源單元(10)、以鏡片保持框架(21)保持從背後覆蓋光源(1)的長條狀之鏡片的鏡片單元(20)、鏡片單元(20)之上側的上部單元(4)、及光源單元(10)之下側(照射側)的元件單元(30)，係可藉由移動機構(8)往上移動。藉由選擇機構(9)來選擇僅移動上部單元(4)，或移動上部單元(4)及鏡片單元(20)，或者移動上部單元(4)、鏡片單元(20)及光源單元(10)。
简体摘要： [课题]提供特别是即使具备长条状的光源之状况中也可容易进行维护，且不需使用较大空间的光照射器。[解决手段]以光源保持框架(11)保持长条状之光源(1)的光源单元(10)、以镜片保持框架(21)保持从背后覆盖光源(1)的长条状之镜片的镜片单元(20)、镜片单元(20)之上侧的上部单元(4)、及光源单元(10)之下侧(照射侧)的组件单元(30)，系可借由移动机构(8)往上移动。借由选择机构(9)来选择仅移动上部单元(4)，或移动上部单元(4)及镜片单元(20)，或者移动上部单元(4)、镜片单元(20)及光源单元(10)。

5. 发明专利

TW316322B 除去半導體晶圓上之不要阻劑的晶圓周邊曝光方法及裝置失效
简体标题：除去半导体晶圆上之不要阻剂的晶圆周边曝光方法及设备
公开(公告)号：TW316322B
公开(公告)日：1997-09-21
申请号：TW085110859
申请日：1996-09-05
申请人：牛尾電機股份有限公司
发明人：三村芳樹 , 三浦真悦 , 美濃部猛
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/2028
摘要：本發明，係關於用以將晶圓上的不要阻劑在顯影工程除去而適用之晶圓週邊曝光方法及曝光裝置，特別有關用以將階段狀形狀的不要阻劑在顯影工程除去而適用之晶圓周邊曝光方法及曝光裝置。
本發明的課題，係即使在前工程形成在半導體晶圓上形成之電路圖型的形成位置有誤差，也能高精確度且簡便地，實現用以將階段狀形狀之不要阻劑在顯影工程除去的晶圓周邊曝光。
其解決方法，係在把晶圓（Ｗ）上的圖型形成領域以外之不要阻劑曝光前，以晶圓周緣檢出裝置（１３）檢出方位邊緣（oxientation flat）等形狀上的特異點之位置，驅動旋轉台級（１）使上述形狀上的特異點位於所定位置為止使晶圓旋轉，根據以對準標誌檢出單位（１４）把所定的對準標誌之位置記憶，運算而校正電路型的形成位置之誤差，再者驅動旋轉台級（１）進行晶圓上的曝光領域位置之微調整。
简体摘要：本发明，系关于用以将晶圆上的不要阻剂在显影工程除去而适用之晶圆周边曝光方法及曝光设备，特别有关用以将阶段状形状的不要阻剂在显影工程除去而适用之晶圆周边曝光方法及曝光设备。本发明的课题，系即使在前工程形成在半导体晶圆上形成之电路图型的形成位置有误差，也能高精确度且简便地，实现用以将阶段状形状之不要阻剂在显影工程除去的晶圆周边曝光。其解决方法，系在把晶圆（Ｗ）上的图型形成领域以外之不要阻剂曝光前，以晶圆周缘检出设备（１３）检出方位边缘（oxientation flat）等形状上的特异点之位置，驱动旋转台级（１）使上述形状上的特异点位于所定位置为止使晶圆旋转，根据以对准标志检出单位（１４）把所定的对准标志之位置记忆，运算而校正电路型的形成位置之误差，再者驱动旋转台级（１）进行晶圆上的曝光领域位置之微调整。

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