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    • 1. 发明专利
    • 光阻劑硬化裝置
    • 光阻剂硬化设备
    • TW454241B
    • 2001-09-11
    • TW089109634
    • 2000-05-19
    • 牛尾電機股份有限公司
    • 田近望倉持智三村芳樹
    • H01L
    • H01L21/67109H01L21/6838
    • 本發明之課題,係提供將被塗佈光阻劑的矽晶片真空吸附在工作台,一面加熱,冷卻而照射紫外線進行光阻劑硬化處理,也不會在矽晶片的背面產生擦傷之光阻劑硬化裝置。
      在由具有照射紫外線的光源部,和將矽晶片真空吸附之工件保持裝置及工作溫度控制裝置的工作台10而成,一面把被保持在工作台上面之矽晶片加熱,在矽晶片被塗佈的光阻劑照射紫外線使之硬化的光阻劑硬化裝置,在工作台上面和矽晶片之間,使由Si,SiO2,SiC, Si3N4中的一種材質而成之板片60介在,以將該板片和矽晶片真空吸附附在工作台之狀態照射紫外線。
    • 本发明之课题,系提供将被涂布光阻剂的硅芯片真空吸附在工作台,一面加热,冷却而照射紫外线进行光阻剂硬化处理,也不会在硅芯片的背面产生擦伤之光阻剂硬化设备。 在由具有照射紫外线的光源部,和将硅芯片真空吸附之工件保持设备及工作温度控制设备的工作台10而成,一面把被保持在工作台上面之硅芯片加热,在硅芯片被涂布的光阻剂照射紫外线使之硬化的光阻剂硬化设备,在工作台上面和硅芯片之间,使由Si,SiO2,SiC, Si3N4中的一种材质而成之板片60介在,以将该板片和硅芯片真空吸附附在工作台之状态照射紫外线。
    • 4. 发明专利
    • 偏光光線照射裝置
    • 偏光光线照射设备
    • TW201207515A
    • 2012-02-16
    • TW099138838
    • 2010-11-11
    • 牛尾電機股份有限公司
    • 三宮曉史田近望渡邊勝也
    • G02FG02B
    • 本發明之課題,是對於使用光柵偏光元件的偏光光線照射裝置,要儘可能地予以縮小在光照射區域中之偏光軸的變異。本發明的解決手段為:光線照射部(20)係具備有:棒狀燈(1)、以及用以使來自棒狀燈(1)的光線朝向工件反射之溝槽型的反射鏡(2)。於光線照射部(20)的光線射出側,設有光柵偏光元件(10),來自棒狀燈(1)的光線,由光柵偏光元件(10)所偏光,照射於工件(30)而進行光定向處理。反射鏡(2),是其斷面為拋物線狀之溝槽型的反射鏡,且棒狀燈的中心,是被配置在:上述斷面為拋物線之反射鏡的第1焦點與頂點所連結的直線上,且是比上述第1焦點更靠近上述光柵偏光元件(10)側。由於是將棒狀燈的中心配置在比反射鏡的第1焦點更靠近光柵偏光元件(10)側,所以可以使偏光軸的變異小於配置在第1焦點之情形時。
    • 本发明之课题,是对于使用光栅偏光组件的偏光光线照射设备,要尽可能地予以缩小在光照射区域中之偏光轴的变异。本发明的解决手段为:光线照射部(20)系具备有:棒状灯(1)、以及用以使来自棒状灯(1)的光线朝向工件反射之沟槽型的反射镜(2)。于光线照射部(20)的光线射出侧,设有光栅偏光组件(10),来自棒状灯(1)的光线,由光栅偏光组件(10)所偏光,照射于工件(30)而进行光定向处理。反射镜(2),是其断面为抛物线状之沟槽型的反射镜,且棒状灯的中心,是被配置在:上述断面为抛物线之反射镜的第1焦点与顶点所链接的直在线,且是比上述第1焦点更靠近上述光栅偏光组件(10)侧。由于是将棒状灯的中心配置在比反射镜的第1焦点更靠近光栅偏光组件(10)侧,所以可以使偏光轴的变异小于配置在第1焦点之情形时。