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1. 发明专利

TWI347893B 光照射器及噴墨式印表機有权
简体标题：光照射器及喷墨式打印机
公开(公告)号：TWI347893B
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW096121204
申请日：2007-06-12
申请人：牛尾電機股份有限公司
发明人：仲田重範 , 渡邊勝也
IPC分类号： B41J , F21S , F21V
CPC分类号： B41J11/002
摘要：課題
提供可將線狀地聚光的光線的長度方向的照度均勻度作成優異，而適用於噴墨式印表機較適合的光照射器。
解決手段
短弧型放電燈9的發光部(電弧的亮點)是位於具有旋轉橢圓面形狀的反射面的反射器11的第一焦點，來自放電燈9的光線是在反射器11被反射而在第二焦點被聚光般地從反射器11出射，而入射於排列被配置的圓柱形狀的複數棒透鏡14。入射於棒透鏡14的光線中，沿著軸方向的光線，是不受棒透鏡14所引起的影響，被聚光於橢圓反射器的第二焦點，而沿著正交於軸方向的方向的光線，是藉由棒透鏡14被聚光後擴展而被照射在光照射面。所以在光線照射面，可得到照度均勻度優異的線狀地聚光的光線。
简体摘要：课题提供可将线状地聚光的光线的长度方向的照度均匀度作成优异，而适用于喷墨式打印机较适合的光照射器。解决手段短弧型放电灯9的发光部(电弧的亮点)是位于具有旋转椭圆面形状的反射面的反射器11的第一焦点，来自放电灯9的光线是在反射器11被反射而在第二焦点被聚光般地从反射器11出射，而入射于排列被配置的圆柱形状的复数棒透镜14。入射于棒透镜14的光线中，沿着轴方向的光线，是不受棒透镜14所引起的影响，被聚光于椭圆反射器的第二焦点，而沿着正交于轴方向的方向的光线，是借由棒透镜14被聚光后扩展而被照射在光照射面。所以在光线照射面，可得到照度均匀度优异的线状地聚光的光线。

2. 发明专利

TW201207515A 偏光光線照射裝置审中-公开
简体标题：偏光光线照射设备
公开(公告)号：TW201207515A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW099138838
申请日：2010-11-11
申请人：牛尾電機股份有限公司
发明人：三宮曉史 , 田近望 , 渡邊勝也
IPC分类号： G02F , G02B
摘要：本發明之課題,是對於使用光柵偏光元件的偏光光線照射裝置,要儘可能地予以縮小在光照射區域中之偏光軸的變異。本發明的解決手段為:光線照射部(20)係具備有:棒狀燈(1)、以及用以使來自棒狀燈(1)的光線朝向工件反射之溝槽型的反射鏡(2)。於光線照射部(20)的光線射出側,設有光柵偏光元件(10),來自棒狀燈(1)的光線,由光柵偏光元件(10)所偏光,照射於工件(30)而進行光定向處理。反射鏡(2),是其斷面為拋物線狀之溝槽型的反射鏡,且棒狀燈的中心,是被配置在:上述斷面為拋物線之反射鏡的第1焦點與頂點所連結的直線上,且是比上述第1焦點更靠近上述光柵偏光元件(10)側。由於是將棒狀燈的中心配置在比反射鏡的第1焦點更靠近光柵偏光元件(10)側,所以可以使偏光軸的變異小於配置在第1焦點之情形時。
简体摘要：本发明之课题,是对于使用光栅偏光组件的偏光光线照射设备,要尽可能地予以缩小在光照射区域中之偏光轴的变异。本发明的解决手段为:光线照射部(20)系具备有:棒状灯(1)、以及用以使来自棒状灯(1)的光线朝向工件反射之沟槽型的反射镜(2)。于光线照射部(20)的光线射出侧,设有光栅偏光组件(10),来自棒状灯(1)的光线,由光栅偏光组件(10)所偏光,照射于工件(30)而进行光定向处理。反射镜(2),是其断面为抛物线状之沟槽型的反射镜,且棒状灯的中心,是被配置在:上述断面为抛物线之反射镜的第1焦点与顶点所链接的直在线,且是比上述第1焦点更靠近上述光栅偏光组件(10)侧。由于是将棒状灯的中心配置在比反射镜的第1焦点更靠近光栅偏光组件(10)侧,所以可以使偏光轴的变异小于配置在第1焦点之情形时。

3. 发明专利

TWI416229B 偏光光線照射裝置有权
简体标题：偏光光线照射设备
公开(公告)号：TWI416229B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW099138838
申请日：2010-11-11
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：三宮曉史 , SANGU, AKIFUMI , 田近望 , TAJIKA, NOZOMU , 渡邊勝也 , WATANABE, KATSUYA
IPC分类号： G02F1/1337 , G02B27/28

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