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热词
    • 3. 发明专利
    • 蝕刻用罩幕抗蝕劑組成物、使用其的基板的製造方法及發光元件的製造方法
    • 蚀刻用罩幕抗蚀剂组成物、使用其的基板的制造方法及发光组件的制造方法
    • TW201734646A
    • 2017-10-01
    • TW106109620
    • 2017-03-23
    • 東麗股份有限公司TORAY INDUSTRIES, INC.
    • 小林秀行KOBAYASHI, HIDEYUKI弓場智之YUBA, TOMOYUKI
    • G03F7/039C09D179/08
    • C08G73/10G03F7/004G03F7/023G03F7/09G03F7/40H01L33/22H01L33/32
    • 一種蝕刻用罩幕抗蝕劑組成物,其為包含(A)以通式(1)所表示的結構單元為主成分的聚醯亞胺、以及(B)光酸產生劑的組成物,所述蝕刻用罩幕抗蝕劑組成物的特徵在於:聚醯亞胺(A)的醯亞胺基當量為0.0025莫耳/g以上。通式(1)中,R1表示碳數2~50的二價的有機基;R2表示碳數2~50的三價或四價的有機基;m1為0或1,c1為0或1,當m1=0時,c1=1,當m1=1時,c1=0 本發明可提供一種蝕刻用罩幕抗蝕劑組成物,所述蝕刻用罩幕抗蝕劑組成物即便於成為100℃~300℃的高溫下的高功率乾式蝕刻處理中亦不會產生抗蝕劑燃燒或碳化,且即便於低溫下進行抗蝕劑硬化,亦可獲得高的耐蝕刻性,因此可獲得面內均勻性高的藍寶石圖案。
    • 一种蚀刻用罩幕抗蚀剂组成物,其为包含(A)以通式(1)所表示的结构单元为主成分的聚酰亚胺、以及(B)光酸产生剂的组成物,所述蚀刻用罩幕抗蚀剂组成物的特征在于:聚酰亚胺(A)的酰亚胺基当量为0.0025莫耳/g以上。通式(1)中,R1表示碳数2~50的二价的有机基;R2表示碳数2~50的三价或四价的有机基;m1为0或1,c1为0或1,当m1=0时,c1=1,当m1=1时,c1=0 本发明可提供一种蚀刻用罩幕抗蚀剂组成物,所述蚀刻用罩幕抗蚀剂组成物即便于成为100℃~300℃的高温下的高功率干式蚀刻处理中亦不会产生抗蚀剂燃烧或碳化,且即便于低温下进行抗蚀剂硬化,亦可获得高的耐蚀刻性,因此可获得面内均匀性高的蓝宝石图案。
    • 8. 发明专利
    • 樹脂、漿體及使用其等之積層體與其製造方法
    • 树脂、浆体及使用其等之积层体与其制造方法
    • TW201734089A
    • 2017-10-01
    • TW105140551
    • 2016-12-08
    • 東麗股份有限公司TORAY INDUSTRIES, INC.
    • 杉崎祐真SUGISAKI, YUMA弓場智之YUBA, TOMOYUKI茶山奈津子CHAYAMA, NATSUKO
    • C08G73/10C08L79/08C08K3/00C08J7/04B32B27/34H05K1/03H01M4/62H01G11/28
    • B32B27/34C08G18/34C08G73/10C08K3/00C08K5/544C08L79/08H01G11/38H01M4/13H01M4/139H01M4/62
    • 本發明的目的在於提供一種樹脂,其可低溫硬化且為高強度、高彈性、高接著、低線膨脹,在鋰離子電池、電容器電極用黏結劑中,可得到良好的充放電時之容量維持率,再者,可製作裝置基板之翹曲低的半導體封裝物、顯示器、多層配線基板。 本發明提供一種樹脂,其係具有下述通式(1)所示的結構單元及/或下述通式(2)所示的結構單元之樹脂,在樹脂中包含的R1及R4各自獨立,且至少一部分包含下述通式(3)所示的結構及下述通式(4)所示的結構; (通式(1)中,R1表示碳數2~50的2價有機基。R2表示碳數2~50的3價或4價有機基。R3表示氫原子或碳數1~10的有機基。m1為1或2的整數); (通式(2)中,R4表示碳數2~50的2價有機基。R5表示碳數2~50的3價或4價有機基。m2為0或1的整數,c1為0或1的整數,m2=0時,c1=1,m2=1時,c1=0); (通式(3)中,R6及R7各自獨立地表示鹵原子或碳數1~3的1價有機基。b1及b2各自獨立地為0~3的整數); (通式(4)中,R8各自獨立地表示鹵原子或碳數1~3的1價有機基。b3為0~4的整數)。
    • 本发明的目的在于提供一种树脂,其可低温硬化且为高强度、高弹性、高接着、低线膨胀,在锂离子电池、电容器电极用黏结剂中,可得到良好的充放电时之容量维持率,再者,可制作设备基板之翘曲低的半导体封装物、显示器、多层配线基板。 本发明提供一种树脂,其系具有下述通式(1)所示的结构单元及/或下述通式(2)所示的结构单元之树脂,在树脂中包含的R1及R4各自独立,且至少一部分包含下述通式(3)所示的结构及下述通式(4)所示的结构; (通式(1)中,R1表示碳数2~50的2价有机基。R2表示碳数2~50的3价或4价有机基。R3表示氢原子或碳数1~10的有机基。m1为1或2的整数); (通式(2)中,R4表示碳数2~50的2价有机基。R5表示碳数2~50的3价或4价有机基。m2为0或1的整数,c1为0或1的整数,m2=0时,c1=1,m2=1时,c1=0); (通式(3)中,R6及R7各自独立地表示卤原子或碳数1~3的1价有机基。b1及b2各自独立地为0~3的整数); (通式(4)中,R8各自独立地表示卤原子或碳数1~3的1价有机基。b3为0~4的整数)。