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1. 发明专利

TWI458564B 塗佈裝置及其基板保持方法有权
简体标题：涂布设备及其基板保持方法
公开(公告)号：TWI458564B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW097138880
申请日：2008-10-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05C13/00

2. 发明专利

TWI498170B 塗佈液供給裝置及塗佈液供給方法有权
简体标题：涂布液供给设备及涂布液供给方法
公开(公告)号：TWI498170B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW100101242
申请日：2011-01-13
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：林敏 , LIN, MIN , 內潟外茂夫 , UCHIKATA, TOMOO , 上林宏和 , KANBAYASHI, HIROKAZU , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05C5/02 , B05D1/26

3. 发明专利

TWI480969B 基板處理系統及基板處理方法有权
简体标题：基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TWI480969B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098125464
申请日：2009-07-29
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：中澤源伸 , NAKAZAWA, GENSHIN , 福島雄悟 , FUKUSHIMA, YUGO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L21/30

4. 发明专利

TW201015660A 基板處理系統及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TW201015660A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW098125464
申请日：2009-07-29
申请人：東麗工程股份有限公司
发明人：中澤源伸 , 福島雄悟 , 釜谷學 , 伊藤禎彥
IPC分类号： H01L , B65G
摘要：本發明的課題為提供一種基板處理系統1，使塗佈裝置3與搬出裝置5的動作時序連繫的控制容易，時間縮短為可能。本發明的解決手段包含：具有為傳遞塗佈了塗佈液的基板W而在承載該基板W的狀態下進行上下動作的銷14之塗佈裝置3；具有為搬出前述基板W而對塗佈裝置3接近背離移動的機械手部31之搬出裝置5。塗佈裝置3與搬出裝置5之間是藉由通信線L5進行信號的傳送接收。根據透過通信線L5在塗佈裝置3與搬出裝置5之間被傳送的信號，藉由在傳遞基板W用的銷14的動作完了前使機械手部31的移動開始，使銷14的動作與機械手部31的移動並行。
简体摘要：本发明的课题为提供一种基板处理系统1，使涂布设备3与搬出设备5的动作时序连系的控制容易，时间缩短为可能。本发明的解决手段包含：具有为传递涂布了涂布液的基板W而在承载该基板W的状态下进行上下动作的销14之涂布设备3；具有为搬出前述基板W而对涂布设备3接近背离移动的机械手部31之搬出设备5。涂布设备3与搬出设备5之间是借由通信线L5进行信号的发送接收。根据透过通信线L5在涂布设备3与搬出设备5之间被发送的信号，借由在传递基板W用的销14的动作完了前使机械手部31的移动开始，使销14的动作与机械手部31的移动并行。

5. 发明专利

TWI594799B 塗布器、及塗布裝置有权
简体标题：涂布器、及涂布设备
公开(公告)号：TWI594799B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW103116615
申请日：2014-05-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 谷野聖 , TANINO, KIYOSHI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05B1/04 , B05B1/30

6. 发明专利

TW201501803A 塗布器、及塗布裝置审中-公开
简体标题：涂布器、及涂布设备
公开(公告)号：TW201501803A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103116615
申请日：2014-05-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 谷野聖 , TANINO, KIYOSHI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05B1/04 , B05B1/30
摘要：本發明之目的係迅速排出塗布器3之歧管11、12內之空氣。本發明之塗布器3包含：流入口18，其流入塗布液；及噴出狹縫21，其係形成為於一方向上較長且於其正交方向上較窄，並噴出塗布液。再者，塗布器3包含：與流入口18連接之上側歧管11及與噴出狹縫21連接之下側歧管12；縮限流道22，其連接該等歧管11、12之間，且形成為於一方向上較長且於其正交方向上較窄；及通氣孔32，其係於包含該縮限流道22與下側歧管12之邊界40之區域A開口。
简体摘要：本发明之目的系迅速排出涂布器3之歧管11、12内之空气。本发明之涂布器3包含：流入口18，其流入涂布液；及喷出狭缝21，其系形成为于一方向上较长且于其正交方向上较窄，并喷出涂布液。再者，涂布器3包含：与流入口18连接之上侧歧管11及与喷出狭缝21连接之下侧歧管12；缩限流道22，其连接该等歧管11、12之间，且形成为于一方向上较长且于其正交方向上较窄；及通气孔32，其系于包含该缩限流道22与下侧歧管12之边界40之区域A开口。

7. 发明专利

TWI565526B 噴嘴清洗方法及塗佈裝置有权
简体标题：喷嘴清洗方法及涂布设备
公开(公告)号：TWI565526B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW101124833
申请日：2012-07-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO, LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU
IPC分类号： B05B15/02 , B08B3/12

8. 发明专利

TW201325728A 噴嘴清洗方法及塗佈裝置审中-公开
简体标题：喷嘴清洗方法及涂布设备
公开(公告)号：TW201325728A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101124833
申请日：2012-07-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO, LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU
IPC分类号： B05B15/02 , B08B3/12
摘要：本發明提供一種噴嘴清洗方法及塗佈裝置。於內部形成有在寬方向較長並於前端開口的狹縫7之噴嘴3中，可使以往振動波(由振動波所造成的空穴作用)的傳播不充足而殘留的固著物浮出，可在短時間內得到所求的清洗結果。使噴嘴前端9浸漬於清洗槽11內之帶有振動波的清洗液L中，使該清洗液L通過該狹縫7流入噴嘴內部。自此狀態中，使氣體遍及狹縫7的寬方向全長，通過狹縫7流入噴嘴內部。之後，使噴嘴前端9浸漬於清洗槽內11之帶有振動波的清洗液L中，使該清洗液L通過狹縫7流入噴嘴內部。
简体摘要：本发明提供一种喷嘴清洗方法及涂布设备。于内部形成有在宽方向较长并于前端开口的狭缝7之喷嘴3中，可使以往振动波(由振动波所造成的空穴作用)的传播不充足而残留的固着物浮出，可在短时间内得到所求的清洗结果。使喷嘴前端9浸渍于清洗槽11内之带有振动波的清洗液L中，使该清洗液L通过该狭缝7流入喷嘴内部。自此状态中，使气体遍及狭缝7的宽方向全长，通过狭缝7流入喷嘴内部。之后，使喷嘴前端9浸渍于清洗槽内11之带有振动波的清洗液L中，使该清洗液L通过狭缝7流入喷嘴内部。

9. 发明专利

TW201130573A 塗佈液供給裝置、塗佈液供給方法及緩衝槽审中-公开
简体标题：涂布液供给设备、涂布液供给方法及缓冲槽
公开(公告)号：TW201130573A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW100101242
申请日：2011-01-13
申请人：東麗工程股份有限公司
发明人：林敏 , 內潟外茂夫 , 上林宏和 , 伊藤禎彥
IPC分类号： B05C , B05D
摘要：本發明的課題為提供一種塗佈液供給裝置、塗佈液供給方法及緩衝槽，可避免塗佈液被浪費廢棄，同時進而可抑制氣泡混入供給的塗佈液。本發明的解決手段是如下而構成：一種塗佈液供給裝置，包含：儲存塗佈液之塗佈液槽，與一時地儲存塗佈液之緩衝槽，藉由將塗佈液槽加壓，由緩衝槽將塗佈液送液，供給塗佈液槽的塗佈液，包含檢測塗佈液槽內的塗佈液的殘量之殘量檢測手段，在一藉由該殘量檢測手段檢測出塗佈液槽內的塗佈液的殘量只有一點點，就進行停止由緩衝槽將塗佈液送液的送液停止動作後，在使來自緩衝槽的送液停止的狀態下，進行使塗佈液槽內的殘留塗佈液送液至緩衝槽的殘液送液動作，然後進行塗佈液槽的更換之槽更換動作被進行。
简体摘要：本发明的课题为提供一种涂布液供给设备、涂布液供给方法及缓冲槽，可避免涂布液被浪费废弃，同时进而可抑制气泡混入供给的涂布液。本发明的解决手段是如下而构成：一种涂布液供给设备，包含：存储涂布液之涂布液槽，与一时地存储涂布液之缓冲槽，借由将涂布液槽加压，由缓冲槽将涂布液送液，供给涂布液槽的涂布液，包含检测涂布液槽内的涂布液的残量之残量检测手段，在一借由该残量检测手段检测出涂布液槽内的涂布液的残量只有一点点，就进行停止由缓冲槽将涂布液送液的送液停止动作后，在使来自缓冲槽的送液停止的状态下，进行使涂布液槽内的残留涂布液送液至缓冲槽的残液送液动作，然后进行涂布液槽的更换之槽更换动作被进行。

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