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1. 发明专利

TWI664025B 塗布器、塗布裝置及塗布方法有权
简体标题：涂布器、涂布设备及涂布方法
公开(公告)号：TWI664025B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW104124134
申请日：2015-07-24
申请人：日商東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彦 , ITO, SADAHIKO , 西野聡 , NISHINO, SO , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI
IPC分类号： B05C5/02 , B05B7/04

2. 发明专利

TWI565526B 噴嘴清洗方法及塗佈裝置有权
简体标题：喷嘴清洗方法及涂布设备
公开(公告)号：TWI565526B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW101124833
申请日：2012-07-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO, LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU
IPC分类号： B05B15/02 , B08B3/12

3. 发明专利

TW201325728A 噴嘴清洗方法及塗佈裝置审中-公开
简体标题：喷嘴清洗方法及涂布设备
公开(公告)号：TW201325728A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101124833
申请日：2012-07-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC. , 東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO, LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU
IPC分类号： B05B15/02 , B08B3/12
摘要：本發明提供一種噴嘴清洗方法及塗佈裝置。於內部形成有在寬方向較長並於前端開口的狹縫7之噴嘴3中，可使以往振動波(由振動波所造成的空穴作用)的傳播不充足而殘留的固著物浮出，可在短時間內得到所求的清洗結果。使噴嘴前端9浸漬於清洗槽11內之帶有振動波的清洗液L中，使該清洗液L通過該狹縫7流入噴嘴內部。自此狀態中，使氣體遍及狹縫7的寬方向全長，通過狹縫7流入噴嘴內部。之後，使噴嘴前端9浸漬於清洗槽內11之帶有振動波的清洗液L中，使該清洗液L通過狹縫7流入噴嘴內部。
简体摘要：本发明提供一种喷嘴清洗方法及涂布设备。于内部形成有在宽方向较长并于前端开口的狭缝7之喷嘴3中，可使以往振动波(由振动波所造成的空穴作用)的传播不充足而残留的固着物浮出，可在短时间内得到所求的清洗结果。使喷嘴前端9浸渍于清洗槽11内之带有振动波的清洗液L中，使该清洗液L通过该狭缝7流入喷嘴内部。自此状态中，使气体遍及狭缝7的宽方向全长，通过狭缝7流入喷嘴内部。之后，使喷嘴前端9浸渍于清洗槽内11之带有振动波的清洗液L中，使该清洗液L通过狭缝7流入喷嘴内部。

4. 发明专利

TWI594799B 塗布器、及塗布裝置有权
简体标题：涂布器、及涂布设备
公开(公告)号：TWI594799B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW103116615
申请日：2014-05-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 谷野聖 , TANINO, KIYOSHI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05B1/04 , B05B1/30

5. 发明专利

TW201631285A 減壓乾燥裝置及基板處理系統审中-公开
简体标题：减压干燥设备及基板处理系统
公开(公告)号：TW201631285A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW105101208
申请日：2016-01-15
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：伊藤禎彦 , ITO, SADAHIKO , 池森一博 , IKEMORI, KAZUHIRO
IPC分类号： F26B5/04 , F26B21/10 , B05D3/04
摘要：本發明的課題為在具有多段腔室式減壓乾燥裝置之片狀基板用乾燥裝置中，以單一個真空泵對應全部腔室的減壓動作。本發明的解決手段為提供一種減壓乾燥裝置，係具備有：複數個減壓用腔室；單一個真空泵，其吸氣口經由配管連接至各個腔室；閥，係用以控制各個腔室的排氣及減壓狀態，並對應前述各個腔室分別配置於前述配管；以及控制裝置，以因應預先設定的減壓程序控制各個閥。
简体摘要：本发明的课题为在具有多段腔室式减压干燥设备之片状基板用干燥设备中，以单一个真空泵对应全部腔室的减压动作。本发明的解决手段为提供一种减压干燥设备，系具备有：复数个减压用腔室；单一个真空泵，其吸气口经由配管连接至各个腔室；阀，系用以控制各个腔室的排气及减压状态，并对应前述各个腔室分别配置于前述配管；以及控制设备，以因应预先设置的减压进程控制各个阀。

6. 发明专利

TW201801801A 塗布器及塗布裝置审中-公开
简体标题：涂布器及涂布设备
公开(公告)号：TW201801801A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106119909
申请日：2017-06-15
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：谷野聖 , TANINO, KIYOSHI , 西野聡 , NISHINO, SO , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彦 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05C11/02 , B05B1/04
CPC分类号： B05C5/02
摘要：本發明提供一種即便優化塗布器之歧管之端部處之液體置換性，亦不會降低形成於被塗布構件之塗膜之膜厚精度的塗布器。本發明之塗布器10具有：供給口11，其被供給塗布液；狹縫15，其於一方向上較長地形成，且噴出塗布液；第一歧管12，其與供給口11相連；第二歧管14，其與狹縫15相連；及節流流路13，其連接該等歧管12、14之間，且於一方向上較長。供給口11與第一歧管12於中央相連。第一歧管之與一方向正交之剖面之截面面積係於一方向之端部E較於中央部C變小。於連接第一歧管12與第二歧管14之間之節流流路13中，端部E處之流路長度L1e為中央部C處之流路長度L1c以上。
简体摘要：本发明提供一种即便优化涂布器之歧管之端部处之液体置换性，亦不会降低形成于被涂布构件之涂膜之膜厚精度的涂布器。本发明之涂布器10具有：供给口11，其被供给涂布液；狭缝15，其于一方向上较长地形成，且喷出涂布液；第一歧管12，其与供给口11相连；第二歧管14，其与狭缝15相连；及节流流路13，其连接该等歧管12、14之间，且于一方向上较长。供给口11与第一歧管12于中央相连。第一歧管之与一方向正交之剖面之截面面积系于一方向之端部E较于中央部C变小。于连接第一歧管12与第二歧管14之间之节流流路13中，端部E处之流路长度L1e为中央部C处之流路长度L1c以上。

7. 发明专利

TW201611907A 塗布器、塗布裝置及塗布方法审中-公开
简体标题：涂布器、涂布设备及涂布方法
公开(公告)号：TW201611907A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104124134
申请日：2015-07-24
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彦 , ITO, SADAHIKO , 西野聡 , NISHINO, SO , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI
IPC分类号： B05C5/02 , B05B7/04
摘要：本發明提供一種能夠將積存於塗佈器內之氣泡迅速地排出至外部之塗佈器。本發明之塗佈器包括：第1供給口31，其供給塗佈液；第1歧管11，其與第1供給口31連接；吐出狹縫22，其吐出塗佈液；第2歧管12，其與吐出狹縫22連接；及連結節流流路21，其將第1歧管11與第2歧管12連結；且於第1歧管11連接有將積存於第1歧管11內之氣泡排出至外部之第1排出口41，於第2歧管12連接有供給塗佈液之第2供給口32、及將積存於第2歧管12內之氣泡排出至外部之第2排出口42。
简体摘要：本发明提供一种能够将积存于涂布器内之气泡迅速地排出至外部之涂布器。本发明之涂布器包括：第1供给口31，其供给涂布液；第1歧管11，其与第1供给口31连接；吐出狭缝22，其吐出涂布液；第2歧管12，其与吐出狭缝22连接；及链接节流流路21，其将第1歧管11与第2歧管12链接；且于第1歧管11连接有将积存于第1歧管11内之气泡排出至外部之第1排出口41，于第2歧管12连接有供给涂布液之第2供给口32、及将积存于第2歧管12内之气泡排出至外部之第2排出口42。

8. 发明专利

TW201501803A 塗布器、及塗布裝置审中-公开
简体标题：涂布器、及涂布设备
公开(公告)号：TW201501803A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103116615
申请日：2014-05-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：林田健兒 , HAYASHIDA, KENJI , 谷野聖 , TANINO, KIYOSHI , 川竹洋 , KAWATAKE, HIROSHI , 堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05B1/04 , B05B1/30
摘要：本發明之目的係迅速排出塗布器3之歧管11、12內之空氣。本發明之塗布器3包含：流入口18，其流入塗布液；及噴出狹縫21，其係形成為於一方向上較長且於其正交方向上較窄，並噴出塗布液。再者，塗布器3包含：與流入口18連接之上側歧管11及與噴出狹縫21連接之下側歧管12；縮限流道22，其連接該等歧管11、12之間，且形成為於一方向上較長且於其正交方向上較窄；及通氣孔32，其係於包含該縮限流道22與下側歧管12之邊界40之區域A開口。
简体摘要：本发明之目的系迅速排出涂布器3之歧管11、12内之空气。本发明之涂布器3包含：流入口18，其流入涂布液；及喷出狭缝21，其系形成为于一方向上较长且于其正交方向上较窄，并喷出涂布液。再者，涂布器3包含：与流入口18连接之上侧歧管11及与喷出狭缝21连接之下侧歧管12；缩限流道22，其连接该等歧管11、12之间，且形成为于一方向上较长且于其正交方向上较窄；及通气孔32，其系于包含该缩限流道22与下侧歧管12之边界40之区域A开口。

9. 发明专利

TWI498170B 塗佈液供給裝置及塗佈液供給方法有权
简体标题：涂布液供给设备及涂布液供给方法
公开(公告)号：TWI498170B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW100101242
申请日：2011-01-13
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：林敏 , LIN, MIN , 內潟外茂夫 , UCHIKATA, TOMOO , 上林宏和 , KANBAYASHI, HIROKAZU , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05C5/02 , B05D1/26

10. 发明专利

TWI480969B 基板處理系統及基板處理方法有权
简体标题：基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TWI480969B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098125464
申请日：2009-07-29
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：中澤源伸 , NAKAZAWA, GENSHIN , 福島雄悟 , FUKUSHIMA, YUGO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L21/30

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