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6. 发明专利

TWI324639B 蝕刻劑化合物、將導電層圖案化之方法以及使用此兩者以製造平面面板顯示裝置之方法 ETCHANT COMPOSITION, METHODS OF PATTERNING CONDUCTIVE LAYER AND MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY DEVICE USING THE SAME 有权
简体标题：蚀刻剂化合物、将导电层图案化之方法以及使用此两者以制造平面皮肤显示设备之方法 ETCHANT COMPOSITION, METHODS OF PATTERNING CONDUCTIVE LAYER AND MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
公开(公告)号：TWI324639B
公开(公告)日：2010-05-11
申请号：TW095123915
申请日：2006-06-30
申请人： LG菲利普液晶顯示股份有限公司 , 東進世美肯股份有限公司
发明人：李坰默 , 宋桂燦 , 曺三永 , 申賢哲 , 金南緒
IPC分类号： C23F , H01L , G02F
CPC分类号： C23F1/20 , C09K13/06 , C23F1/26 , H01L21/32134
摘要：本發明提供一種蝕刻劑化合物、將導電層圖案化之方法以及使用此兩者製造平面面顯示裝置之方法。該蝕刻劑化合物包括磷酸、硝酸、乙酸、水和添加劑，其中添加劑含有氯基化合物、硝酸鹽基化合物、硫酸鹽基化合物、和氧化穩定劑。此外，平面面板顯示裝置的製造方式是用相同的蝕刻劑化合物圖案化由不同材料形成的閘電極，源/汲電極和像素電極。因此，過程更簡單製造成本也隨之降低，生產力提高。 There are provided an etchant composition, and methods of patterning a conductive layer and manufacturing a flat panel display device using the same. The etchant composition includes phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, water and additive, wherein the additive has chlorine-based compound, nitrate-based compound, sulfate-based compound, and oxidation regulator. In addition, the flat panel display device may be manufactured by patterning a gate electrode, source/drain electrodes and a pixel electrode which are formed of different materials using the same etchant composition. Accordingly, the process is more simplified so that the manufacturing cost may be reduced and the productivity may be improved. 【創作特點】本發明是針對蝕刻劑化合物，將導電層圖案化的方法以及使用此兩者製造平面面板顯示裝置的方法，以充分地消除由於相關技術的局限和缺點造成的一個或多個難題。
本發明的一個目的是提供一個能夠簡化蝕刻過程，減少製造成本和將導電層圖案化以及用此兩者製造平面面板顯示設備的蝕刻劑化合物。
本發明其他的優勢，目標和特點將在隨後的描述中得以闡明，通過以下描述，將使其對本領域技術人員來說顯而易見，或者可通過實踐本發明來認識它們。本發明的這些目標和其他的優勢將可通過書面描述及其權利要求以及附圖中具體指出的結構來實現和得到。
根據本發明的目的，為了實現這些目標和其他優勢，如具體和概括描述的，提供一種蝕刻劑化合物包含：磷酸、硝酸、乙酸、水和添加劑，其中，該添加劑包含氯基化合物、硝酸鹽基化合物、硫酸鹽基化合物和氧化穩定劑。
這裏，所述蝕刻劑化合物包含濃度大約為40%至70wt%的磷酸、濃度大約3%至15 wt%的硝酸、濃度大約5%至35 wt%的乙酸、濃度大約0.02%至5 wt%的氯基化合物、濃度大約0.05%至5wt%的硝酸鹽基化合物和硫酸鹽基化合物、濃度大約1%至10 wt%的氧化穩定劑以及一定量剩餘的水。
此外，所述蝕刻劑化合物可以用於蝕刻由包含鋁(Al)、鋁釹合金(AlNd)、鉬(Mo)和銦錫氧化物(ITO)組中的至少一種構成的單層，或者多層。
本發明的另一個方面是提供了一種將導電層圖案化的方法，該方法包括：提供基板；在該基板上形成導電層，其中所述導電層是由一組包含鋁、鋁釹合金、鉬和銦錫氧化物其中的至少一種構成的單層，或者多層；在所述導電層上形成光阻層；藉由曝光圖案化該光阻層；用圖案化過的光阻層作為蝕刻掩模蝕刻導電層，其中蝕刻劑化合物包括磷酸、乙酸、氯基化合物、硝酸鹽基化合物、硫酸鹽基化合物、氧化穩定劑、和水。
本發明的更深層的方面是提供了一種製造平面面板顯示裝置的方法，該方法包括：提供基板；在該基板上形成第一導電層並將其圖案化為閘電極；在所述閘電極上形成閘絕緣層；在閘電極對應的閘絕緣層上形成半導體層；在該半導體層上形成第二導電層並將其圖案化成源電極、汲電極；在所述包含源電極、汲電極的整個基板表面上排列形成鈍化層，其中，該鈍化層上有一個接觸孔以進出汲電極的一部分；以及在所述鈍化層上形成第三導電層以便藉由接觸孔與汲電極電連接，將該第三層導電層圖案化以形成像素電極，其中閘電極、源電極、汲電極和像素電極的形成和圖案化使用相同的蝕刻劑化合物。
所述蝕刻劑化合物包含濃度大約40%至70 wt%的磷酸、濃度大約3%至15 wt%的硝酸、濃度大約5%至35 wt%的乙酸、濃度大約0.02%至5 wt%的氯基化合物、濃度大約0.05%至5 wt%的硝酸鹽基化合物和硫酸鹽基化合物、濃度大約1%至10 wt%的氧化穩定劑和一定量剩餘的水。
另外，所述第一導電層可以是由包一組含鋁、鋁釹合金、鉬和銦錫氧化物的其中一種形成的單層。
所述第一導電層也可以是由一組包含鋁、鋁釹合金、鉬和銦錫氧化物中的至少兩種形成的多層。
此外，第二導電層可以是由一組鋁、鋁釹合金、鉬和銦錫氧化物中至少一種形成的單層或者多層。
而且，第三個導電層可以由銦錫氧化物形成。
平面面板顯示裝置可能是液晶顯示裝置或者有機場致發光顯示裝置。
應該理解的是，之前本發明的概括描述和後面的具體描述都是示例性和說明性的，並將對本發明如權利要求書所要求的做進一步說明。
简体摘要：本发明提供一种蚀刻剂化合物、将导电层图案化之方法以及使用此两者制造平面面显示设备之方法。该蚀刻剂化合物包括磷酸、硝酸、乙酸、水和添加剂，其中添加剂含有氯基化合物、硝酸盐基化合物、硫酸盐基化合物、和氧化稳定剂。此外，平面皮肤显示设备的制造方式是用相同的蚀刻剂化合物图案化由不同材料形成的闸电极，源/汲电极和像素电极。因此，过程更简单制造成本也随之降低，生产力提高。 There are provided an etchant composition, and methods of patterning a conductive layer and manufacturing a flat panel display device using the same. The etchant composition includes phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, water and additive, wherein the additive has chlorine-based compound, nitrate-based compound, sulfate-based compound, and oxidation regulator. In addition, the flat panel display device may be manufactured by patterning a gate electrode, source/drain electrodes and a pixel electrode which are formed of different materials using the same etchant composition. Accordingly, the process is more simplified so that the manufacturing cost may be reduced and the productivity may be improved. 【创作特点】本发明是针对蚀刻剂化合物，将导电层图案化的方法以及使用此两者制造平面皮肤显示设备的方法，以充分地消除由于相关技术的局限和缺点造成的一个或多个难题。本发明的一个目的是提供一个能够简化蚀刻过程，减少制造成本和将导电层图案化以及用此两者制造平面皮肤显示设备的蚀刻剂化合物。本发明其他的优势，目标和特点将在随后的描述中得以阐明，通过以下描述，将使其对本领域技术人员来说显而易见，或者可通过实践本发明来认识它们。本发明的这些目标和其他的优势将可通过书面描述及其权利要求以及附图中具体指出的结构来实现和得到。根据本发明的目的，为了实现这些目标和其他优势，如具体和概括描述的，提供一种蚀刻剂化合物包含：磷酸、硝酸、乙酸、水和添加剂，其中，该添加剂包含氯基化合物、硝酸盐基化合物、硫酸盐基化合物和氧化稳定剂。这里，所述蚀刻剂化合物包含浓度大约为40%至70wt%的磷酸、浓度大约3%至15 wt%的硝酸、浓度大约5%至35 wt%的乙酸、浓度大约0.02%至5 wt%的氯基化合物、浓度大约0.05%至5wt%的硝酸盐基化合物和硫酸盐基化合物、浓度大约1%至10 wt%的氧化稳定剂以及一定量剩余的水。此外，所述蚀刻剂化合物可以用于蚀刻由包含铝(Al)、铝钕合金(AlNd)、钼(Mo)和铟锡氧化物(ITO)组中的至少一种构成的单层，或者多层。本发明的另一个方面是提供了一种将导电层图案化的方法，该方法包括：提供基板；在该基板上形成导电层，其中所述导电层是由一组包含铝、铝钕合金、钼和铟锡氧化物其中的至少一种构成的单层，或者多层；在所述导电层上形成光阻层；借由曝光图案化该光阻层；用图案化过的光阻层作为蚀刻掩模蚀刻导电层，其中蚀刻剂化合物包括磷酸、乙酸、氯基化合物、硝酸盐基化合物、硫酸盐基化合物、氧化稳定剂、和水。本发明的更深层的方面是提供了一种制造平面皮肤显示设备的方法，该方法包括：提供基板；在该基板上形成第一导电层并将其图案化为闸电极；在所述闸电极上形成闸绝缘层；在闸电极对应的闸绝缘层上形成半导体层；在该半导体层上形成第二导电层并将其图案化成源电极、汲电极；在所述包含源电极、汲电极的整个基板表面上排列形成钝化层，其中，该钝化层上有一个接触孔以进出汲电极的一部分；以及在所述钝化层上形成第三导电层以便借由接触孔与汲电极电连接，将该第三层导电层图案化以形成像素电极，其中闸电极、源电极、汲电极和像素电极的形成和图案化使用相同的蚀刻剂化合物。所述蚀刻剂化合物包含浓度大约40%至70 wt%的磷酸、浓度大约3%至15 wt%的硝酸、浓度大约5%至35 wt%的乙酸、浓度大约0.02%至5 wt%的氯基化合物、浓度大约0.05%至5 wt%的硝酸盐基化合物和硫酸盐基化合物、浓度大约1%至10 wt%的氧化稳定剂和一定量剩余的水。另外，所述第一导电层可以是由包一组含铝、铝钕合金、钼和铟锡氧化物的其中一种形成的单层。所述第一导电层也可以是由一组包含铝、铝钕合金、钼和铟锡氧化物中的至少两种形成的多层。此外，第二导电层可以是由一组铝、铝钕合金、钼和铟锡氧化物中至少一种形成的单层或者多层。而且，第三个导电层可以由铟锡氧化物形成。平面皮肤显示设备可能是液晶显示设备或者有机场致发光显示设备。应该理解的是，之前本发明的概括描述和后面的具体描述都是示例性和说明性的，并将对本发明如权利要求书所要求的做进一步说明。

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