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1. 发明专利

TW201634734A 流路構造、吸排氣構件及處理裝置审中-公开
简体标题：流路构造、吸排气构件及处理设备
公开(公告)号：TW201634734A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104129991
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA
IPC分类号： C23C16/455 , F17D1/04
CPC分类号： H01L21/67017 , B33Y80/00 , C23C16/4412 , F17D1/00 , F17D1/04
摘要：本發明之一實施形態之流路構造具有構件。於上述構件，設置複數個第1開口部、複數個第2開口部、流路、及複數個合流分支部。上述流路連接上述複數個第1開口部與上述複數個第2開口部之間。上述合流分支部各自具有：複數個第1部分，其等設置於上述流路，且各自具有相互連接之第1端部；及複數個第2部分，其等各自具有相互連接之第2端部，且於上述第1開口部與上述第2開口部之間之路徑中，較上述第1部分更靠近上述第2開口部。上述合流分支部之各個上述第1端部與上述第2端部連接。
简体摘要：本发明之一实施形态之流路构造具有构件。于上述构件，设置复数个第1开口部、复数个第2开口部、流路、及复数个合流分支部。上述流路连接上述复数个第1开口部与上述复数个第2开口部之间。上述合流分支部各自具有：复数个第1部分，其等设置于上述流路，且各自具有相互连接之第1端部；及复数个第2部分，其等各自具有相互连接之第2端部，且于上述第1开口部与上述第2开口部之间之路径中，较上述第1部分更靠近上述第2开口部。上述合流分支部之各个上述第1端部与上述第2端部连接。

2. 发明专利

TW201622044A 處理裝置及準直器审中-公开
简体标题：处理设备及准直器
公开(公告)号：TW201622044A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104136545
申请日：2015-11-05
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C14/54
CPC分类号： H01J37/3447 , C23C14/225 , C23C14/34 , C23C14/564 , H01L21/2855
摘要：本發明包含產生源配置部、第1物體配置部、及第1準直器。於上述產生源配置部配置可釋放粒子之粒子產生源。於上述第1物體配置部配置第1物體。上述第1準直器係配置於上述產生源配置部與上述第1物體配置部之間，且具有複數個第1壁與複數個第2壁，藉由上述複數個第1壁及複數個第2壁，形成沿自上述產生源配置部朝向上述第1物體配置部之第1方向延伸之複數個第1貫通孔，且於上述複數個第2壁各自設置有至少一個第1通路。
简体摘要：本发明包含产生源配置部、第1物体配置部、及第1准直器。于上述产生源配置部配置可释放粒子之粒子产生源。于上述第1物体配置部配置第1物体。上述第1准直器系配置于上述产生源配置部与上述第1物体配置部之间，且具有复数个第1壁与复数个第2壁，借由上述复数个第1壁及复数个第2壁，形成沿自上述产生源配置部朝向上述第1物体配置部之第1方向延伸之复数个第1贯通孔，且于上述复数个第2壁各自设置有至少一个第1通路。

3. 发明专利

TW201620615A 噴嘴裝置及處理裝置审中-公开
简体标题：喷嘴设备及处理设备
公开(公告)号：TW201620615A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104129980
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 鈴木悠介 , SUZUKI, YUSUKE
IPC分类号： B05B1/14 , B05B7/24
CPC分类号： B05B1/14 , B05B1/30 , B23K26/127 , B23K26/147
摘要：本發明之一實施形態之噴嘴裝置具備第1開口部、複數個第2開口部、及第1管路部。上述第1管路部具有至少一個第1分支部，該第1分支部具有朝第1方向延伸之第1部分、及連接於上述第1部分之一端部且分別朝與上述第1方向交叉之方向延伸之複數個第2部分；且上述第1管路部係連接上述第1開口部與上述複數個第2開口部，藉由上述第1分支部，於自上述第1開口部朝向上述第2開口部之路徑中至少分支一次；上述第1開口部與各個上述第2開口部之間之路徑長度及上述第1分支部之數量相同。上述第1部分之上述一端部之截面積較上述第1部分之另一端部之截面積更窄。
简体摘要：本发明之一实施形态之喷嘴设备具备第1开口部、复数个第2开口部、及第1管路部。上述第1管路部具有至少一个第1分支部，该第1分支部具有朝第1方向延伸之第1部分、及连接于上述第1部分之一端部且分别朝与上述第1方向交叉之方向延伸之复数个第2部分；且上述第1管路部系连接上述第1开口部与上述复数个第2开口部，借由上述第1分支部，于自上述第1开口部朝向上述第2开口部之路径中至少分支一次；上述第1开口部与各个上述第2开口部之间之路径长度及上述第1分支部之数量相同。上述第1部分之上述一端部之截面积较上述第1部分之另一端部之截面积更窄。

4. 发明专利

TW201812860A 流路構造及處理裝置审中-公开
简体标题：流路构造及处理设备
公开(公告)号：TW201812860A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106130215
申请日：2017-09-05
申请人：日商東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 東真也 , HIGASHI, SHINYA , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 松田拓也 , MATSUDA, TAKUYA
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
摘要：本發明之一實施形態之流路構造具有構件。上述構件具有表面，且設置第1通路、複數個第1開口、第2通路、及複數個第2開口。上述第1通路包含相互連接之複數個第1閉路部。上述複數個第1開口連接於上述第1通路且於上述表面開口。上述第2通路包含相互連接之複數個第2閉路部。上述複數個第2開口連接於上述第2通路且於上述表面開口。上述第1閉路部與該第2閉路部隔開地通過上述第2閉路部之內側，上述第2閉路部與該第1閉路部隔開地通過上述第1閉路部之內側。
简体摘要：本发明之一实施形态之流路构造具有构件。上述构件具有表面，且设置第1通路、复数个第1开口、第2通路、及复数个第2开口。上述第1通路包含相互连接之复数个第1闭路部。上述复数个第1开口连接于上述第1通路且于上述表面开口。上述第2通路包含相互连接之复数个第2闭路部。上述复数个第2开口连接于上述第2通路且于上述表面开口。上述第1闭路部与该第2闭路部隔开地通过上述第2闭路部之内侧，上述第2闭路部与该第1闭路部隔开地通过上述第1闭路部之内侧。

5. 发明专利

TWI573216B 處理裝置及準直器有权
简体标题：处理设备及准直器
公开(公告)号：TWI573216B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104136545
申请日：2015-11-05
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C14/54
CPC分类号： H01J37/3447 , C23C14/225 , C23C14/34 , C23C14/564 , H01L21/2855

6. 发明专利

TW201634121A 噴嘴及液體供給裝置审中-公开
简体标题：喷嘴及液体供给设备
公开(公告)号：TW201634121A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104129990
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 出浦香織 , DEURA, KAORI , 町田守寛 , MACHIDA, MORIHIRO
IPC分类号： B05B9/01 , B05B1/30 , B05C5/00
CPC分类号： B05C5/00 , B05C11/08 , H01L21/027
摘要：本發明之一實施形態之噴嘴具備主體。於主體設置有被供給液體之供給口、朝下方噴出液體之噴出口、及跨及供給口與噴出口之流路。於流路設置有貯留部，該貯留部包含供朝向噴出口之液體朝下方流動之第一部分、及設置於第一部分之下游側且供朝向噴出口之液體朝上方流動之第二部分；及排氣部，其可於未自噴出口噴出液體之狀態即液體貯留於貯留部之狀態下，排出第二部分之上游側之氣體。
简体摘要：本发明之一实施形态之喷嘴具备主体。于主体设置有被供给液体之供给口、朝下方喷出液体之喷出口、及跨及供给口与喷出口之流路。于流路设置有贮留部，该贮留部包含供朝向喷出口之液体朝下方流动之第一部分、及设置于第一部分之下游侧且供朝向喷出口之液体朝上方流动之第二部分；及排气部，其可于未自喷出口喷出液体之状态即液体贮留于贮留部之状态下，排出第二部分之上游侧之气体。

7. 发明专利

TWI615201B 噴嘴裝置及處理裝置有权
简体标题：喷嘴设备及处理设备
公开(公告)号：TWI615201B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW104129980
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 鈴木悠介 , SUZUKI, YUSUKE
IPC分类号： B05B1/14 , B05B7/24
CPC分类号： B05B1/14 , B05B1/30 , B23K26/127 , B23K26/147

8. 发明专利

TW201805478A 流路構造及處理裝置审中-公开
简体标题：流路构造及处理设备
公开(公告)号：TW201805478A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106123024
申请日：2017-07-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 東真也 , HIGASHI, SHINYA , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 出浦香織 , DEURA, KAORI
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/455 , B05B1/02
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/31
摘要：本發明之一實施形態之流路構造具備構件。上述構件具有外表面，且設置有於上述外表面開口之複數個第1通路。於自上述複數個第1通路排出流體時，將上述流體自上述複數個第1通路之各者朝與自其他的上述複數個第1通路中之至少一者排出之上述流體觸碰之方向排出。
简体摘要：本发明之一实施形态之流路构造具备构件。上述构件具有外表面，且设置有于上述外表面开口之复数个第1通路。于自上述复数个第1通路排出流体时，将上述流体自上述复数个第1通路之各者朝与自其他的上述复数个第1通路中之至少一者排出之上述流体触碰之方向排出。

9. 发明专利

TW201733681A 混合器構造、流體通路裝置及處理裝置审中-公开
简体标题：混合器构造、流体通路设备及处理设备
公开(公告)号：TW201733681A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106104066
申请日：2017-02-08
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 中田慎二 , NAKATA, SHINJI , 町田守寬 , MACHIDA, MORIHIRO
IPC分类号： B05B7/10 , B05B7/04 , C23C16/455
CPC分类号： B01F3/02 , B01F5/00
摘要：本發明之實施方式之設置有流體之螺旋狀之通路的混合器構造具有第一分隔壁、及第二分隔壁。第一分隔壁與通路之剖面中心線交叉而延伸，並將螺旋狀之通路劃分為複數條並列之第一分路。第二分隔壁位於第一分隔壁之下游，與剖面中心線交叉而延伸，並將螺旋狀之通路劃分為複數條並列之第二分路。第一分隔壁之下游之端部即後端與第二分隔壁之上游之端部即前端位於交叉或扭轉之位置。
简体摘要：本发明之实施方式之设置有流体之螺旋状之通路的混合器构造具有第一分隔壁、及第二分隔壁。第一分隔壁与通路之剖面中心线交叉而延伸，并将螺旋状之通路划分为复数条并列之第一分路。第二分隔壁位于第一分隔壁之下游，与剖面中心线交叉而延伸，并将螺旋状之通路划分为复数条并列之第二分路。第一分隔壁之下游之端部即后端与第二分隔壁之上游之端部即前端位于交叉或扭转之位置。

10. 发明专利

TWI522654B 光學元件及其製造方法有权
简体标题：光学组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI522654B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW103130458
申请日：2014-09-03
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：大野博司 , OHNO, HIROSHI , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 中野秀士 , NAKANO, HIDESHI , 小林晃太朗 , KOBAYASHI, KOTARO , 潘善盈 , PAN, SHANYING
IPC分类号： G02B3/00 , G02B7/02
CPC分类号： G02B9/06 , B29C64/135 , B29D11/00269 , B33Y80/00 , G02B3/00 , G02B3/08 , G02B9/12

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