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    • 6. 发明专利
    • 流路構造及處理裝置
    • 流路构造及处理设备
    • TW201806673A
    • 2018-03-01
    • TW106125268
    • 2017-07-27
    • 東芝股份有限公司KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
    • 東真也HIGASHI, SHINYA寺田貴洋TERADA, TAKAHIRO松田拓也MATSUDA, TAKUYA加藤視紅磨KATO, SHIGUMA田中正幸TANAKA, MASAYUKI
    • B05B1/34C23C16/455
    • C23C16/455H01L21/31
    • 本發明之一個實施形態之流路構造具備:殼體、及複數個第1壁部。前述殼體具有位於第1方向之端的外表面,且在內部設置有彼此獨立之二個通路,該二個通路分別包含:至少一個流體室、在前述外表面開口之複數個開口、及與前述流體室連接之複數個分歧路,前述二個通路之各自之前述流體室係在前述第1方向上交替地配置,前述複數個分歧路包含連接前述複數個開口中至少一個與一個前述流體室的前述複數個分歧路及連接一個前述流體室與其他前述流體室的前述複數個分歧路之至少一者。前述複數個第1壁部設置於前述殼體,面向前述流體室且在前述第1方向上介隔前述流體室而並排。
    • 本发明之一个实施形态之流路构造具备:壳体、及复数个第1壁部。前述壳体具有位于第1方向之端的外表面,且在内部设置有彼此独立之二个通路,该二个通路分别包含:至少一个流体室、在前述外表面开口之复数个开口、及与前述流体室连接之复数个分歧路,前述二个通路之各自之前述流体室系在前述第1方向上交替地配置,前述复数个分歧路包含连接前述复数个开口中至少一个与一个前述流体室的前述复数个分歧路及连接一个前述流体室与其他前述流体室的前述复数个分歧路之至少一者。前述复数个第1壁部设置于前述壳体,面向前述流体室且在前述第1方向上介隔前述流体室而并排。