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1. 发明专利

TW201812860A 流路構造及處理裝置审中-公开
简体标题：流路构造及处理设备
公开(公告)号：TW201812860A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106130215
申请日：2017-09-05
申请人：日商東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 東真也 , HIGASHI, SHINYA , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 松田拓也 , MATSUDA, TAKUYA
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
摘要：本發明之一實施形態之流路構造具有構件。上述構件具有表面，且設置第1通路、複數個第1開口、第2通路、及複數個第2開口。上述第1通路包含相互連接之複數個第1閉路部。上述複數個第1開口連接於上述第1通路且於上述表面開口。上述第2通路包含相互連接之複數個第2閉路部。上述複數個第2開口連接於上述第2通路且於上述表面開口。上述第1閉路部與該第2閉路部隔開地通過上述第2閉路部之內側，上述第2閉路部與該第1閉路部隔開地通過上述第1閉路部之內側。
简体摘要：本发明之一实施形态之流路构造具有构件。上述构件具有表面，且设置第1通路、复数个第1开口、第2通路、及复数个第2开口。上述第1通路包含相互连接之复数个第1闭路部。上述复数个第1开口连接于上述第1通路且于上述表面开口。上述第2通路包含相互连接之复数个第2闭路部。上述复数个第2开口连接于上述第2通路且于上述表面开口。上述第1闭路部与该第2闭路部隔开地通过上述第2闭路部之内侧，上述第2闭路部与该第1闭路部隔开地通过上述第1闭路部之内侧。

2. 发明专利

TWI651766B 處理裝置及準直器有权
简体标题：处理设备及准直器
公开(公告)号：TWI651766B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106100206
申请日：2017-01-04
申请人：日商東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 德田祥典 , TOKUDA, YOSHINORI , 竹內将勝 , TAKEUCHI, MASAKATSU , 青山德博 , AOYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： H01L21/203 , C23C14/54

3. 发明专利

TW201832830A 噴淋板、處理裝置及噴出方法审中-公开
简体标题：喷淋板、处理设备及喷出方法
公开(公告)号：TW201832830A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107106280
申请日：2018-02-26
申请人：日商東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 益永孝幸 , MASUNAGA, TAKAYUKI , 大瀧誠 , OOTAKI, MAKOTO , 長谷川仁 , HASEGAWA, HITOSHI , 安達浩祐 , ADACHI, KOSUKE , 津野聡 , TSUNO, SATOSHI
IPC分类号： B05B1/16 , H01L21/3065 , C23C16/513
摘要：根據一實施例，一種噴淋板包含一第一構件及一第二構件。該第一構件包含一第一壁，其上提供有複數個第一開口且在內部包含與該等第一開口連通之一室。該第二構件包含一第二壁，其上提供有一第二開口且被佈置在該室中。該第二構件被佈置在與該第一構件間隔開之一位置處，且藉由改變該第二構件相對於該第一構件之一位置而允許該等第一開口中面向該第二開口之一第一開口被替換為該等第一開口之另一者。
简体摘要：根据一实施例，一种喷淋板包含一第一构件及一第二构件。该第一构件包含一第一壁，其上提供有复数个第一开口且在内部包含与该等第一开口连通之一室。该第二构件包含一第二壁，其上提供有一第二开口且被布置在该室中。该第二构件被布置在与该第一构件间隔开之一位置处，且借由改变该第二构件相对于该第一构件之一位置而允许该等第一开口中面向该第二开口之一第一开口被替换为该等第一开口之另一者。

4. 发明专利

TWI653091B 噴淋板、處理裝置及噴出方法有权
简体标题：喷淋板、处理设备及喷出方法
公开(公告)号：TWI653091B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW107106280
申请日：2018-02-26
申请人：日商東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 益永孝幸 , MASUNAGA, TAKAYUKI , 大瀧誠 , OOTAKI, MAKOTO , 長谷川仁 , HASEGAWA, HITOSHI , 安達浩祐 , ADACHI, KOSUKE , 津野聡 , TSUNO, SATOSHI
IPC分类号： B05B1/16 , H01L21/3065 , C23C16/513

5. 发明专利

TWI630643B 處理裝置及準直器有权
简体标题：处理设备及准直器
公开(公告)号：TWI630643B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW106102564
申请日：2017-01-24
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：竹內将勝 , TAKEUCHI, MASAKATSU , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 青山德博 , AOYAMA, YASUHIRO , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 德田祥典 , TOKUDA, YOSHINORI
IPC分类号： H01L21/203 , C23C14/54

6. 发明专利

TW201806673A 流路構造及處理裝置审中-公开
简体标题：流路构造及处理设备
公开(公告)号：TW201806673A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106125268
申请日：2017-07-27
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：東真也 , HIGASHI, SHINYA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 松田拓也 , MATSUDA, TAKUYA , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI
IPC分类号： B05B1/34 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31
摘要：本發明之一個實施形態之流路構造具備：殼體、及複數個第1壁部。前述殼體具有位於第1方向之端的外表面，且在內部設置有彼此獨立之二個通路，該二個通路分別包含：至少一個流體室、在前述外表面開口之複數個開口、及與前述流體室連接之複數個分歧路，前述二個通路之各自之前述流體室係在前述第1方向上交替地配置，前述複數個分歧路包含連接前述複數個開口中至少一個與一個前述流體室的前述複數個分歧路及連接一個前述流體室與其他前述流體室的前述複數個分歧路之至少一者。前述複數個第1壁部設置於前述殼體，面向前述流體室且在前述第1方向上介隔前述流體室而並排。
简体摘要：本发明之一个实施形态之流路构造具备：壳体、及复数个第1壁部。前述壳体具有位于第1方向之端的外表面，且在内部设置有彼此独立之二个通路，该二个通路分别包含：至少一个流体室、在前述外表面开口之复数个开口、及与前述流体室连接之复数个分歧路，前述二个通路之各自之前述流体室系在前述第1方向上交替地配置，前述复数个分歧路包含连接前述复数个开口中至少一个与一个前述流体室的前述复数个分歧路及连接一个前述流体室与其他前述流体室的前述复数个分歧路之至少一者。前述复数个第1壁部设置于前述壳体，面向前述流体室且在前述第1方向上介隔前述流体室而并排。

7. 发明专利

TWI555875B 流路構造、吸排氣構件及處理裝置有权
简体标题：流路构造、吸排气构件及处理设备
公开(公告)号：TWI555875B
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104129991
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA
IPC分类号： C23C16/455 , F17D1/04
CPC分类号： H01L21/67017 , B33Y80/00 , C23C16/4412 , F17D1/00 , F17D1/04

8. 发明专利

TWI573216B 處理裝置及準直器有权
简体标题：处理设备及准直器
公开(公告)号：TWI573216B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104136545
申请日：2015-11-05
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C14/54
CPC分类号： H01J37/3447 , C23C14/225 , C23C14/34 , C23C14/564 , H01L21/2855

9. 发明专利

TW201634121A 噴嘴及液體供給裝置审中-公开
简体标题：喷嘴及液体供给设备
公开(公告)号：TW201634121A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104129990
申请日：2015-09-10
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 出浦香織 , DEURA, KAORI , 町田守寛 , MACHIDA, MORIHIRO
IPC分类号： B05B9/01 , B05B1/30 , B05C5/00
CPC分类号： B05C5/00 , B05C11/08 , H01L21/027
摘要：本發明之一實施形態之噴嘴具備主體。於主體設置有被供給液體之供給口、朝下方噴出液體之噴出口、及跨及供給口與噴出口之流路。於流路設置有貯留部，該貯留部包含供朝向噴出口之液體朝下方流動之第一部分、及設置於第一部分之下游側且供朝向噴出口之液體朝上方流動之第二部分；及排氣部，其可於未自噴出口噴出液體之狀態即液體貯留於貯留部之狀態下，排出第二部分之上游側之氣體。
简体摘要：本发明之一实施形态之喷嘴具备主体。于主体设置有被供给液体之供给口、朝下方喷出液体之喷出口、及跨及供给口与喷出口之流路。于流路设置有贮留部，该贮留部包含供朝向喷出口之液体朝下方流动之第一部分、及设置于第一部分之下游侧且供朝向喷出口之液体朝上方流动之第二部分；及排气部，其可于未自喷出口喷出液体之状态即液体贮留于贮留部之状态下，排出第二部分之上游侧之气体。

10. 发明专利

TWI640367B 混合器構造、流體通路裝置及處理裝置有权
简体标题：混合器构造、流体通路设备及处理设备
公开(公告)号：TWI640367B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW106104066
申请日：2017-02-08
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：寺田貴洋 , TERADA, TAKAHIRO , 田中正幸 , TANAKA, MASAYUKI , 加藤視紅磨 , KATO, SHIGUMA , 中田慎二 , NAKATA, SHINJI , 町田守寬 , MACHIDA, MORIHIRO
IPC分类号： B05B7/10 , B05B7/04 , C23C16/455

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