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1. 发明专利

TWI561927B 光阻組成物，光阻圖型之形成方法有权
简体标题：光阻组成物，光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TWI561927B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW101101416
申请日：2012-01-13
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 前盛諭 , MAEMORI, SATOSHI , 新井雅俊 , ARAI, MASATOSHI , 鹽野大壽 , SHIONO, DAIJU
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/20

2. 发明专利

TW201510009A 被膜形成方法审中-公开
公开(公告)号：TW201510009A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103113222
申请日：2014-04-10
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 舘俊聡 , TACHI, TOSHIAKI , 入江真樹子 , IRIE, MAKIKO , 片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA
IPC分类号： C08J5/18 , C09D7/12 , B05C11/08 , B32B27/06 , C08J7/04 , C09D129/08 , C09D133/14 , C09D161/06
CPC分类号： C09D161/06 , C08K5/07 , C08K5/101 , C09D125/06 , C09D133/06 , C09D133/08 , C09D161/04 , C08L61/30
摘要：本發明係提供一種即使不添加高價添加劑於被膜形成用組成物時，以旋塗法可在300mm徑以上的大型基板上形成膜厚均勻之膜厚50μm以上厚度的被膜之被膜形成方法。又，提供一種具備在該被膜形成方法所形成之被膜的附包膜基板。本發明為將含有具有所定範圍內之蒸氣壓及黏度的溶劑與樹脂的被膜形成用組成物，於300mm徑以上之大型基板上，藉由旋塗法塗布至膜厚50μm以上。
简体摘要：本发明系提供一种即使不添加高价添加剂于被膜形成用组成物时，以旋涂法可在300mm径以上的大型基板上形成膜厚均匀之膜厚50μm以上厚度的被膜之被膜形成方法。又，提供一种具备在该被膜形成方法所形成之被膜的附包膜基板。本发明为将含有具有所定范围内之蒸气压及黏度的溶剂与树脂的被膜形成用组成物，于300mm径以上之大型基板上，借由旋涂法涂布至膜厚50μm以上。

3. 发明专利

TW201642043A 感光性樹脂層之形成方法、光阻圖型之製造方法、及鍍敷造形物之形成方法审中-公开
简体标题：感光性树脂层之形成方法、光阻图型之制造方法、及镀敷造形物之形成方法
公开(公告)号：TW201642043A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105106340
申请日：2016-03-02
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：志村英一 , SHIMURA, EIICHI , 熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 桃澤綾 , MOMOZAWA, AYA
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/09 , G03F7/168 , G03F7/40
摘要：提供在使用化學增幅正型感光性樹脂組成物，形成含有感光性樹脂層的光阻圖型時，例如具備相較於頂部(感光性樹脂層的表面側)寬，底部(基板表面側)寬較大的非阻劑部之光阻圖型般可控制光阻圖型的形狀之感光性樹脂層的形成方法、光阻圖型之製造方法、及鍍敷造形物之形成方法。包含於基板之具有觸媒活性的金屬表面上層合由含有酸產生劑(A)、因酸作用而對鹼之溶解性增大的樹脂(B)及有機溶劑(S)之化學增幅正型感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層之層合步驟、與對前述感光性樹脂層進行加熱之加熱步驟的感光性樹脂層的形成方法，且前述酸產生劑(A)含有因曝光而產生酸，且在前述具有觸媒活性的金屬表面上經前述加熱而產生酸的酸產生劑(A1)，前述感光性樹脂層為經前述加熱而愈接近與前述基板的界面部位對鹼之溶解性愈高者。
简体摘要：提供在使用化学增幅正型感光性树脂组成物，形成含有感光性树脂层的光阻图型时，例如具备相较于顶部(感光性树脂层的表面侧)宽，底部(基板表面侧)宽较大的非阻剂部之光阻图型般可控制光阻图型的形状之感光性树脂层的形成方法、光阻图型之制造方法、及镀敷造形物之形成方法。包含于基板之具有触媒活性的金属表面上层合由含有酸产生剂(A)、因酸作用而对碱之溶解性增大的树脂(B)及有机溶剂(S)之化学增幅正型感光性树脂组成物所构成的感光性树脂层之层合步骤、与对前述感光性树脂层进行加热之加热步骤的感光性树脂层的形成方法，且前述酸产生剂(A)含有因曝光而产生酸，且在前述具有触媒活性的金属表面上经前述加热而产生酸的酸产生剂(A1)，前述感光性树脂层为经前述加热而愈接近与前述基板的界面部位对碱之溶解性愈高者。

4. 发明专利

TWI548936B 光阻組成物，光阻圖型之形成方法有权
简体标题：光阻组成物，光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TWI548936B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW101146393
申请日：2012-12-10
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 高山寿一 , TAKAYAMA, TOSHIKAZU , 山下直紀 , YAMASHITA, NAOKI , 平山文武 , HIRAYAMA, FUMITAKE
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , H01L21/027

5. 发明专利

TWI619751B 被膜形成方法有权
公开(公告)号：TWI619751B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103113222
申请日：2014-04-10
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 舘俊聡 , TACHI, TOSHIAKI , 入江真樹子 , IRIE, MAKIKO , 片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA
IPC分类号： C08J5/18 , C09D7/12 , B05C11/08 , B32B27/06 , C08J7/04 , C09D129/08 , C09D133/14 , C09D161/06
CPC分类号： C09D161/06 , C08K5/07 , C08K5/101 , C09D125/06 , C09D133/06 , C09D133/08 , C09D161/04 , C08L61/30

6. 发明专利

TW201339746A 光阻組成物，光阻圖型之形成方法审中-公开
简体标题：光阻组成物，光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TW201339746A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101146393
申请日：2012-12-10
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：熊田信次 , KUMADA, SHINJI , 高山寿一 , TAKAYAMA, TOSHIKAZU , 山下直紀 , YAMASHITA, NAOKI , 平山文武 , HIRAYAMA, FUMITAKE
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , H01L21/027
摘要： [課題]本發明提供一種具有優良微影蝕刻特性及密著性、降低浮渣之光阻組成物，及光阻圖型之形成方法。[解決手段]一種光阻組成物，其特徵為，含有經由酸之作用而對顯影液之溶解性產生變化之基材成份(A)、經由曝光而產生酸之酸產生劑成份(B)、具有式(c0)所表示之結構單位(c0)的高分子化合物(C)與含有由式(d1)~(d3)所表示之化合物所形成之群所選出之1個以上之化合物的光反應型抑制劑(Quencher)(D)之光阻組成物。 [式中，R為氫原子、烷基或鹵化烷基；R1為具有1個以上之一級或二級之醇性羥基或具有鏈狀三級醇性羥基的有機基；R3為烴基；Z2c為碳數1~30之烴基；R4為有機基；Y3為伸烷基或伸芳基；Rf0為烴基；Z+為鋶或錪陽離子]。
简体摘要： [课题]本发明提供一种具有优良微影蚀刻特性及密着性、降低浮渣之光阻组成物，及光阻图型之形成方法。[解决手段]一种光阻组成物，其特征为，含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)、经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)、具有式(c0)所表示之结构单位(c0)的高分子化合物(C)与含有由式(d1)~(d3)所表示之化合物所形成之群所选出之1个以上之化合物的光反应型抑制剂(Quencher)(D)之光阻组成物。 [式中，R为氢原子、烷基或卤化烷基；R1为具有1个以上之一级或二级之醇性羟基或具有链状三级醇性羟基的有机基；R3为烃基；Z2c为碳数1~30之烃基；R4为有机基；Y3为伸烷基或伸芳基；Rf0为烃基；Z+为锍或錪阳离子]。

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