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    • 2. 发明专利
    • 光阻組成物,光阻圖型之形成方法
    • 光阻组成物,光阻图型之形成方法
    • TW201339746A
    • 2013-10-01
    • TW101146393
    • 2012-12-10
    • 東京應化工業股份有限公司TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    • 熊田信次KUMADA, SHINJI高山寿一TAKAYAMA, TOSHIKAZU山下直紀YAMASHITA, NAOKI平山文武HIRAYAMA, FUMITAKE
    • G03F7/004C08F220/26H01L21/027
    • [課題]本發明提供一種具有優良微影蝕刻特性及密著性、降低浮渣之光阻組成物,及光阻圖型之形成方法。[解決手段]一種光阻組成物,其特徵為,含有經由酸之作用而對顯影液之溶解性產生變化之基材成份(A)、經由曝光而產生酸之酸產生劑成份(B)、具有式(c0)所表示之結構單位(c0)的高分子化合物(C)與含有由式(d1)~(d3)所表示之化合物所形成之群所選出之1個以上之化合物的光反應型抑制劑(Quencher)(D)之光阻組成物。 [式中,R為氫原子、烷基或鹵化烷基;R1為具有1個以上之一級或二級之醇性羥基或具有鏈狀三級醇性羥基的有機基;R3為烴基;Z2c為碳數1~30之烴基;R4為有機基;Y3為伸烷基或伸芳基;Rf0為烴基;Z+為鋶或錪陽離子]。
    • [课题]本发明提供一种具有优良微影蚀刻特性及密着性、降低浮渣之光阻组成物,及光阻图型之形成方法。[解决手段]一种光阻组成物,其特征为,含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)、经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)、具有式(c0)所表示之结构单位(c0)的高分子化合物(C)与含有由式(d1)~(d3)所表示之化合物所形成之群所选出之1个以上之化合物的光反应型抑制剂(Quencher)(D)之光阻组成物。 [式中,R为氢原子、烷基或卤化烷基;R1为具有1个以上之一级或二级之醇性羟基或具有链状三级醇性羟基的有机基;R3为烃基;Z2c为碳数1~30之烃基;R4为有机基;Y3为伸烷基或伸芳基;Rf0为烃基;Z+为锍或錪阳离子]。