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1. 发明专利

TW201517116A 基板處理裝置、基板處理方法及基板處理用記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及基板处理用记忆媒体
公开(公告)号：TW201517116A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124624
申请日：2014-07-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：下青木剛 , SHIMOAOKI, TAKESHI , 宮田雄一郎 , MIYATA, YUICHIRO , 小杉仁 , KOSUGI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , B05C5/02
摘要：本發明提供一種可充分地抑制凹凸圖案的崩塌之基板處理裝置。基板處理裝置U1，具備旋轉保持部20、顯影液供給部23、沖洗液供給部24、充填液供給部25、及控制部27。控制部27，在控制旋轉保持部20及顯影液供給部23，使晶圓W旋轉並對晶圓W之表面供給顯影液後，控制旋轉保持部20及沖洗液供給部24以使晶圓W旋轉並對晶圓W的表面供給沖洗液，藉以形成凹凸圖案。控制部27，在控制旋轉保持部20及充填液供給部25，使晶圓W旋轉並對凹凸圖案上供給充填液，以將沖洗液置換為充填液後，控制旋轉保持部20以使晶圓W旋轉，使充填液乾燥，藉以將較凹凸圖案的凸部更低之充填部形成於凹凸圖案的凹部。
简体摘要：本发明提供一种可充分地抑制凹凸图案的崩塌之基板处理设备。基板处理设备U1，具备旋转保持部20、显影液供给部23、冲洗液供给部24、充填液供给部25、及控制部27。控制部27，在控制旋转保持部20及显影液供给部23，使晶圆W旋转并对晶圆W之表面供给显影液后，控制旋转保持部20及冲洗液供给部24以使晶圆W旋转并对晶圆W的表面供给冲洗液，借以形成凹凸图案。控制部27，在控制旋转保持部20及充填液供给部25，使晶圆W旋转并对凹凸图案上供给充填液，以将冲洗液置换为充填液后，控制旋转保持部20以使晶圆W旋转，使充填液干燥，借以将较凹凸图案的凸部更低之充填部形成于凹凸图案的凹部。

2. 发明专利

TWI452608B 光阻塗布顯影裝置、基板運送方法、介面裝置有权
简体标题：光阻涂布显影设备、基板运送方法、界面设备
公开(公告)号：TWI452608B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW099126648
申请日：2010-08-10
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山田善章 , YAMADA, YOSHIAKI , 山本雄一 , YAMAMOTO, YUICHI , 小杉仁 , KOSUGI, HITOSHI , 藤本勢二 , FUJIMOTO, SEIJI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67196 , H01L21/67201

3. 发明专利

TWI573176B 基板處理裝置、基板處理方法及基板處理用記憶媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及基板处理用记忆媒体
公开(公告)号：TWI573176B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW103124624
申请日：2014-07-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：下青木剛 , SHIMOAOKI, TAKESHI , 宮田雄一郎 , MIYATA, YUICHIRO , 小杉仁 , KOSUGI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , B05C5/02

4. 发明专利

TWI463275B 基板之處理方法、電腦記憶媒體及基板處理系統有权
简体标题：基板之处理方法、电脑记忆媒体及基板处理系统
公开(公告)号：TWI463275B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW099134898
申请日：2010-10-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山田善章 , YAMADA, YOSHIAKI , 田中啟一 , TANAKA, KEIICHI , 小杉仁 , KOSUGI, HITOSHI
IPC分类号： G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/38

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