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1. 发明专利

TWI270956B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI270956B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW092112464
申请日：2003-05-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67276 , G05B19/41865 , G05B2219/32315 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要：在控制裝置MC，前一批中，記憶有最後進行處理的處理室PM（最終處理PM），而在開始這次一批的處理，從該最終處理PM的下一處理室（例如，最終處理PM為處理室PM1時是處理室PM2）開始搬入半導體晶圓W。
由此，可將各處理部的使用頻度成為均勻化，而可抑制在維修週期或處理部內的零件的消耗度發生差異。
简体摘要：在控制设备MC，前一批中，记忆有最后进行处理的处理室PM（最终处理PM），而在开始这次一批的处理，从该最终处理PM的下一处理室（例如，最终处理PM为处理室PM1时是处理室PM2）开始搬入半导体晶圆W。由此，可将各处理部的使用频度成为均匀化，而可抑制在维修周期或处理部内的零件的消耗度发生差异。

2. 发明专利

TW202030795A 基板處理系統、搬運方法、搬運程式及固持具审中-公开
简体标题：基板处理系统、搬运方法、搬运进程及固持具
公开(公告)号：TW202030795A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108144060
申请日：2019-12-03
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO , 豊卷俊明 , TOYOMAKI, TOSHIAKI , 貝瀬精一 , KAISE, SEIICHI , 武山裕紀 , TAKEYAMA, YUKI
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/677 , B65G49/07
摘要：本發明之目的在於藉由縮短真空處理室內的消耗零件的更換時間，以令基板處理系統的運作效率提高。為了達成上述目的，本發明之基板處理系統具備：常壓搬運室、真空處理室、一個以上的加載互鎖模組、真空搬運室、複數個安裝部、第1搬運機構、第2搬運機構，以及控制部。複數個安裝部，設置於常壓搬運室。可將複數個保管部各自以隨意裝卸的方式安裝於複數個安裝部。控制部，令第1搬運機構以及第2搬運機構同步實行從保管部經由常壓搬運室以及一個以上的加載互鎖模組的其中一個到真空處理室的消耗零件的搬運，與從真空處理室經由真空搬運室以及一個以上的加載互鎖模組的其中另一個的消耗零件的搬運。
简体摘要：本发明之目的在于借由缩短真空处理室内的消耗零件的更换时间，以令基板处理系统的运作效率提高。为了达成上述目的，本发明之基板处理系统具备：常压搬运室、真空处理室、一个以上的加载互锁模块、真空搬运室、复数个安装部、第1搬运机构、第2搬运机构，以及控制部。复数个安装部，设置于常压搬运室。可将复数个保管部各自以随意装卸的方式安装于复数个安装部。控制部，令第1搬运机构以及第2搬运机构同步实行从保管部经由常压搬运室以及一个以上的加载互锁模块的其中一个到真空处理室的消耗零件的搬运，与从真空处理室经由真空搬运室以及一个以上的加载互锁模块的其中另一个的消耗零件的搬运。

3. 发明专利

TWI679721B 基板處理裝置、基板處理方法及記錄有基板處理程式的記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记录有基板处理进程的记录媒体
公开(公告)号：TWI679721B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104142872
申请日：2015-12-21
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO , 石川佳一 , ISHIKAWA, YOSHIKAZU , 濱田敏彥 , HAMADA, TOSHIHIKO , 佐藤淳哉 , SATO, JUNYA , 小林俊之 , KOBAYASHI, TOSHIYUKI , 男武昌一 , OTAKE, SHOUICHI
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/02

4. 发明专利

TWI464792B 基板處理系統之洗淨方法、記憶媒體及基板處理系統有权
简体标题：基板处理系统之洗净方法、记忆媒体及基板处理系统
公开(公告)号：TWI464792B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW098108460
申请日：2009-03-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO , 望月宏朗 , MOCHIZUKI, HIROAKI , 飯島清仁 , IIJIMA, KIYOHITO
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67207 , H01L21/67028 , H01L21/67253

5. 发明专利

TW201635417A 基板處理裝置、基板處理方法及記錄有基板處理程式的記錄媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记录有基板处理进程的记录媒体
公开(公告)号：TW201635417A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104142872
申请日：2015-12-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO , 石川佳一 , ISHIKAWA, YOSHIKAZU , 濱田敏彥 , HAMADA, TOSHIHIKO , 佐藤淳哉 , SATO, JUNYA , 小林俊之 , KOBAYASHI, TOSHIYUKI , 男武昌一 , OTAKE, SHOUICHI
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32009 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , H01L21/67276 , H01L21/67742
摘要：本發明旨在抑制基板搬送至位置檢測器，而謀求產量之提高。本發明提供一種基板處理裝置，其包含有處理模組、位置檢測器及控制部，該處理模組用以處理基板；該位置檢測器用以檢測基板之位置；該控制部將該位置檢測器控制為測定從在同一處理模組內處理之基板中按所設定的處理模組之測定間隔所選擇的基板之位置。
简体摘要：本发明旨在抑制基板搬送至位置检测器，而谋求产量之提高。本发明提供一种基板处理设备，其包含有处理模块、位置检测器及控制部，该处理模块用以处理基板；该位置检测器用以检测基板之位置；该控制部将该位置检测器控制为测定从在同一处理模块内处理之基板中按所设置的处理模块之测定间隔所选择的基板之位置。

6. 发明专利

TWI496230B 基板處理裝置及基板處理裝置的控制方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理设备的控制方法
公开(公告)号：TWI496230B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW096144988
申请日：2007-11-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02 , B65G49/07

7. 发明专利

TWI466218B 基板處理裝置及其基板搬運方法有权
简体标题：基板处理设备及其基板搬运方法
公开(公告)号：TWI466218B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW098113912
申请日：2009-04-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：飯島清仁 , IIJIMA, KIYOHITO , 望月宏朗 , MOCHIZUKI, HIROAKI , 沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67748 , H01L21/67253 , H01L21/67754

8. 发明专利

TWI453853B 處理系統之控制裝置、處理系統之控制方法及記憶控制程式之記憶媒體有权
简体标题：处理系统之控制设备、处理系统之控制方法及记忆控制进程之记忆媒体
公开(公告)号：TWI453853B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW097135656
申请日：2008-09-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博 , NUMAKURA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： G05B19/4184 , G05B2219/31355 , G05B2219/32243 , G05B2219/32297 , G05B2219/45031 , H01L21/67276 , Y02P90/14 , Y02P90/20

9. 发明专利

TW200400584A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW200400584A
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW092112464
申请日：2003-05-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：沼倉雅博
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67276 , G05B19/41865 , G05B2219/32315 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要：在控制裝置MC，前一批中，記憶有最後進行處理的處理室PM（最終處理PM），而在開始這次一批的處理，從該最終處理PM的下一處理室（例如，最終處理PM為處理室PM1時是處理室PM2）開始搬入半導體晶圓W。由此，可將各處理部的使用頻度成為均勻化，而可抑制在維修週期或處理部內的零件的消耗度發生差異。
简体摘要：在控制设备MC，前一批中，记忆有最后进行处理的处理室PM（最终处理PM），而在开始这次一批的处理，从该最终处理PM的下一处理室（例如，最终处理PM为处理室PM1时是处理室PM2）开始搬入半导体晶圆W。由此，可将各处理部的使用频度成为均匀化，而可抑制在维修周期或处理部内的零件的消耗度发生差异。

10. 发明专利

TW201009989A 基板處理裝置及其基板搬運方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及其基板搬运方法
公开(公告)号：TW201009989A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098113912
申请日：2009-04-27
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飯島清仁 , 望月宏朗 , 沼倉雅博
IPC分类号： H01L , B65G
CPC分类号： H01L21/67748 , H01L21/67253 , H01L21/67754
摘要：其課題係防止藉由插入晶圓之處理而使得處理室內之條件被破壞。其解決手段係在重複以正常時搬出形式之順序使製品晶圓（Wp）和虛擬晶圓（Wd）自卡匣容器（134A、134B）搬出之控制的期間，當插入開始鈕被按壓時，根據晶圓之搬出履歷判斷此時之搬出形式之循環是否結束，當判斷其循環結束之時緊接著，又當判斷其循環未結束之時，以該正常時搬出形式將晶圓搬出至其循環結束為止。在下一個循環以將製品晶圓置換成插入晶圓之插入時搬出形式之順序，使插入晶圓（Wf）和虛擬晶圓（Wd）從卡匣容器（134C、134B）搬出。
简体摘要：其课题系防止借由插入晶圆之处理而使得处理室内之条件被破坏。其解决手段系在重复以正常时搬出形式之顺序使制品晶圆（Wp）和虚拟晶圆（Wd）自卡匣容器（134A、134B）搬出之控制的期间，当插入开始钮被按压时，根据晶圆之搬出履历判断此时之搬出形式之循环是否结束，当判断其循环结束之时紧接着，又当判断其循环未结束之时，以该正常时搬出形式将晶圆搬出至其循环结束为止。在下一个循环以将制品晶圆置换成插入晶圆之插入时搬出形式之顺序，使插入晶圆（Wf）和虚拟晶圆（Wd）从卡匣容器（134C、134B）搬出。

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