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1. 发明专利

TWI492266B 電漿處理裝置及電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI492266B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW100111328
申请日：2011-03-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：米澤亮太 , YONEZAWA, RYOTA , 高橋哲朗 , TAKAHASHI, TETSURO , 大崎良規 , OSAKI, YOSHINORI , 鈴木公貴 , SUZUKI, KOUKI , 齊藤智博 , SAITO, TOMOHIRO , 山下潤 , YAMASHITA, JUN , 佐藤吉宏 , SATO, YOSHIHIRO , 鹽澤俊彥 , SHIOZAWA, TOSHIHIKO , 山崎幸一 , YAMAZAKI, KOICHI , 古木和弘 , FURUKI, KAZUHIRO
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J2237/166

2. 发明专利

TW201207885A 電漿處理裝置及電漿處理方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TW201207885A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100111328
申请日：2011-03-31
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：米澤亮太 , 高橋哲朗 , 大崎良規 , 鈴木公貴 , 齊藤智博 , 山下潤 , 佐藤吉宏 , 鹽澤俊彥 , 山崎幸一 , 古木和弘
IPC分类号： H01J , H01L , H05H
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J2237/166
摘要：在介電質板(28)與蓋構件(13)的支撐部(13a)之間具有環狀的O型環(29a),且在該O型環(29a)的外周側設置用以在配置於處理容器(1)的上部的蓋構件(13)的支撐部(13a)與介電質板(28)之間形成間隙d的間隔件(60)。藉由間隙d,即使蓋構件(13)或介電質板(28)因為處理容器(1)內的電漿的熱而熱膨脹,蓋構件(13)與介電質板(28)也不會接觸、摩擦,可防止介電質板(28)的破損或微粒的發生。
简体摘要：在介电质板(28)与盖构件(13)的支撑部(13a)之间具有环状的O型环(29a),且在该O型环(29a)的外周侧设置用以在配置于处理容器(1)的上部的盖构件(13)的支撑部(13a)与介电质板(28)之间形成间隙d的间隔件(60)。借由间隙d,即使盖构件(13)或介电质板(28)因为处理容器(1)内的等离子的热而热膨胀,盖构件(13)与介电质板(28)也不会接触、摩擦,可防止介电质板(28)的破损或微粒的发生。

3. 外观设计

TWD149222S 空腔塊 CHAMBER BLOCK 有权
简体标题：空腔块 CHAMBER BLOCK
公开(公告)号：TWD149222S
公开(公告)日：2012-09-11
申请号：TW100304781
申请日：2011-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司
设计人：鈴木公貴 , 古木和弘 , 山崎幸一
摘要：【物品用途】
本創作的物品是空腔塊，係構成可利用電漿在基板上進行氧化膜等之成膜和蝕刻之類的處理的電漿處理裝置之處理容器的一部分之空腔塊。
【創作特點】
從各視圖觀之，本物品的本體呈方形塊狀體，本體上方設有一貫通圓孔，該圓孔內由底部向上擴展成不同直徑大小之同心圓，使該貫通圓孔內呈現段差高度，本體一側具有一長方形突塊；如使用狀態參考圖所示，該空腔塊係構成處理容器1之一部分，在側壁具有確認窗8，處理容器1係具備處理和排氣室6，在處理容器1內，係設置有用來載置處理基板9的載置台7，在處理容器1之內壁上，係安裝有內襯材2、4、5，在載置台7的周圍係配設有擋板3。
简体摘要：【物品用途】本创作的物品是空腔块，系构成可利用等离子在基板上进行氧化膜等之成膜和蚀刻之类的处理的等离子处理设备之处理容器的一部分之空腔块。【创作特点】从各视图观之，本物品的本体呈方形块状体，本体上方设有一贯通圆孔，该圆孔内由底部向上扩展成不同直径大小之同心圆，使该贯通圆孔内呈现段差高度，本体一侧具有一长方形突块；如使用状态参考图所示，该空腔块系构成处理容器1之一部分，在侧壁具有确认窗8，处理容器1系具备处理和排气室6，在处理容器1内，系设置有用来载置处理基板9的载置台7，在处理容器1之内壁上，系安装有内衬材2、4、5，在载置台7的周围系配设有挡板3。

4. 发明专利

TW396487B 真空處理裝置失效
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TW396487B
公开(公告)日：2000-07-01
申请号：TW087114638
申请日：1998-09-03
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：山崎幸一 , 河西繁
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67115
摘要：本發明之真空處理裝置，其係包含有:一處理室，用以在特定之真空狀態下，針對對象物施以特定之處理者;載置台，設置於前述處理室內並用以載置對象物者;燈組，該燈組具有多數個設於前述處理室下部並作為光源之電燈，而藉該等電燈向前述載置台所照射之光的熱能，將前述載置台上之對象物加熱者;旋轉軸，連結於前述燈組以使前述燈組旋轉者;軸承體，用以支撐前述旋轉軸而使之自由旋轉者;以及熱電微型組件，設於前述旋轉軸與前述軸承體之接觸部，藉吸收前述旋轉軸之側的熱並向前述軸承體之側釋放，而令前述燈組之熱經由前述旋轉軸往前述軸承體移動。
简体摘要：本发明之真空处理设备，其系包含有:一处理室，用以在特定之真空状态下，针对对象物施以特定之处理者;载置台，设置于前述处理室内并用以载置对象物者;灯组，该灯组具有多数个设于前述处理室下部并作为光源之电灯，而藉该等电灯向前述载置台所照射之光的热能，将前述载置台上之对象物加热者;旋转轴，链接于前述灯组以使前述灯组旋转者;轴承体，用以支撑前述旋转轴而使之自由旋转者;以及热电微型组件，设于前述旋转轴与前述轴承体之接触部，藉吸收前述旋转轴之侧的热并向前述轴承体之侧释放，而令前述灯组之热经由前述旋转轴往前述轴承体移动。

5. 外观设计

TWD149223S 電漿處理裝置用內襯材 LINER FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS 有权
简体标题：等离子处理设备用内衬材 LINER FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TWD149223S
公开(公告)日：2012-09-11
申请号：TW100304782
申请日：2011-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司
设计人：鈴木公貴 , 鳥屋大輔 , 山崎幸一
摘要：【物品用途】
本創作的物品是電漿處理裝置用內襯材，係構成可利用電漿在基板上進行氧化膜等之成膜和蝕刻之類的處理的電漿處理裝置之處理容器的一部分之電漿處理裝置用內襯材。
【創作特點】
從各視圖觀之，本物品的本體呈圓形環體，本體環周面上方設有等距之淺梯形突起部，本體之前、後方各設有一不同大小且由下往上凹陷之矩形缺口；如使用狀態參考圖所示，該處理容器1具有確認窗8、處理室及排氣室6，在處理容器1內，係設置有用來載置處理基板9的載置台7，該載置台7的周圍係配設有擋板3，本物品之電漿處理裝置用內襯材2係在處理容器1之內壁上，於其他電漿處理裝置用內襯材4、5之上方；具有防止因處理容器1之構成材料所產生的金屬污染之功能。
简体摘要：【物品用途】本创作的物品是等离子处理设备用内衬材，系构成可利用等离子在基板上进行氧化膜等之成膜和蚀刻之类的处理的等离子处理设备之处理容器的一部分之等离子处理设备用内衬材。【创作特点】从各视图观之，本物品的本体呈圆形环体，本体环周面上方设有等距之浅梯形突起部，本体之前、后方各设有一不同大小且由下往上凹陷之矩形缺口；如使用状态参考图所示，该处理容器1具有确认窗8、处理室及排气室6，在处理容器1内，系设置有用来载置处理基板9的载置台7，该载置台7的周围系配设有挡板3，本物品之等离子处理设备用内衬材2系在处理容器1之内壁上，于其他等离子处理设备用内衬材4、5之上方；具有防止因处理容器1之构成材料所产生的金属污染之功能。

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