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1. 发明专利

TW200952113A 被處理體的移載機構及被處理體的處理系統 TRANSFER MECHANISM FOR TARGET ITEM FOR PROCESSING, AND PROCESSING SYSTEM FOR TARGET ITEM FOR PROCESSING 审中-公开
简体标题：被处理体的移载机构及被处理体的处理系统 TRANSFER MECHANISM FOR TARGET ITEM FOR PROCESSING, AND PROCESSING SYSTEM FOR TARGET ITEM FOR PROCESSING
公开(公告)号：TW200952113A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098119520
申请日：2009-06-11
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：菅原佑道
IPC分类号： H01L , B65G , B65D
摘要：本發明之目的在於提供一種被處理體的移載機構，其用少數台離子產生機構就能除去例如在被處理體移載區域內的寬廣範圍內的帶電處所的靜電以及漂浮帶電塵粒的靜電。為達成上述目的，本發明之被處理體移載機構52，在收容匣盒6與被處理體保持機構18之間移載被處理體；該收容匣盒6以複數段方式保持並收容複數被處理體W；該被處理體保持機構18以複數段方式保持複數被處理體，並將其裝載到用來對被處理體實施既定處理的處理容器64內，或從處理容器64卸載被處理體；該被處理體移載機構52的特徵為包含：昇降台56，受昇降機構54驅動而朝上下方向昇降；叉狀機構58，設置在昇降台上，載置著被處理體前進、後退以及旋轉；以及離子產生機構60，設置在叉狀機構上並產生能夠去除掉靜電的離子。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种被处理体的移载机构，其用少数台离子产生机构就能除去例如在被处理体移载区域内的宽广范围内的带电处所的静电以及漂浮带电尘粒的静电。为达成上述目的，本发明之被处理体移载机构52，在收容匣盒6与被处理体保持机构18之间移载被处理体；该收容匣盒6以复数段方式保持并收容复数被处理体W；该被处理体保持机构18以复数段方式保持复数被处理体，并将其装载到用来对被处理体实施既定处理的处理容器64内，或从处理容器64卸载被处理体；该被处理体移载机构52的特征为包含：升降台56，受升降机构54驱动而朝上下方向升降；叉状机构58，设置在升降台上，载置着被处理体前进、后退以及旋转；以及离子产生机构60，设置在叉状机构上并产生能够去除掉静电的离子。

2. 发明专利

TW201327678A 膜裂紋偵測裝置及膜形成裝置审中-公开
简体标题：膜裂纹侦测设备及膜形成设备
公开(公告)号：TW201327678A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101129430
申请日：2012-08-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4401 , C23C16/52
摘要：一種膜裂紋偵測裝置，用以進行一膜裂紋偵測運作，其安裝於一膜形成裝置，而該膜形成裝置係具有一處理容器，用以接收一待處理之物體且在該待處理之物體的一表面上形成一薄膜，該膜形成裝置包括一彈性波偵測單元，安裝於該膜形成裝置而偵測一彈性波、及一判定單元，基於該彈性波偵測單元的一偵測結果而判定是否需要進行該處理容器的一清潔處理。
简体摘要：一种膜裂纹侦测设备，用以进行一膜裂纹侦测运作，其安装于一膜形成设备，而该膜形成设备系具有一处理容器，用以接收一待处理之物体且在该待处理之物体的一表面上形成一薄膜，该膜形成设备包括一弹性波侦测单元，安装于该膜形成设备而侦测一弹性波、及一判定单元，基于该弹性波侦测单元的一侦测结果而判定是否需要进行该处理容器的一清洁处理。

3. 发明专利

TW201240006A 蓋體開閉裝置 LID OPENING AND CLOSING DEVICE 审中-公开
简体标题：盖体开闭设备 LID OPENING AND CLOSING DEVICE
公开(公告)号：TW201240006A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101107492
申请日：2012-03-06
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：菅原佑道
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67772
摘要：一種半導體製造設備的蓋體開閉裝置,該半導體製造設備具有隔牆,用以劃分載具搬運區以及基板搬運區,該隔牆具有含有邊緣部份的搬運閘道,該蓋體開閉裝置包含:排氣口,用以經由該排氣口將氛圍氣體自一密閉空間排出,該密閉空間係在與該搬運閘道之該邊緣部份接觸的載具以及開啓/關閉門之間形成;以及設置在該開啓/關閉門中的清洗氣體注入部。該清洗氣體注入部係配置成,經由在載具蓋體之前表面上形成的開孔進入該載具蓋體的內部空間,以將清洗氣體注入該載具蓋體的該內部空間,然後經由該載具蓋體的另一開孔而將存在於該載具蓋體之該內部空間的氛圍氣體排出至該密閉空間內。
简体摘要：一种半导体制造设备的盖体开闭设备,该半导体制造设备具有隔墙,用以划分载具搬运区以及基板搬运区,该隔墙具有含有边缘部份的搬运闸道,该盖体开闭设备包含:排气口,用以经由该排气口将氛围气体自一密闭空间排出,该密闭空间系在与该搬运闸道之该边缘部份接触的载具以及开启/关闭门之间形成;以及设置在该开启/关闭门中的清洗气体注入部。该清洗气体注入部系配置成,经由在载具盖体之前表面上形成的开孔进入该载具盖体的内部空间,以将清洗气体注入该载具盖体的该内部空间,然后经由该载具盖体的另一开孔而将存在于该载具盖体之该内部空间的氛围气体排出至该密闭空间内。

4. 发明专利

TWI495032B 被處理體的移載機構及被處理體的處理系統有权
简体标题：被处理体的移载机构及被处理体的处理系统
公开(公告)号：TWI495032B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW098119520
申请日：2009-06-11
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , B65D85/90

5. 发明专利

TWI442449B 半導體製造裝置的地震受害擴散減低方法及地震受害擴散減低系統有权
简体标题：半导体制造设备的地震受害扩散减低方法及地震受害扩散减低系统
公开(公告)号：TWI442449B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW096133905
申请日：2007-09-11
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO , 菊池浩 , KIKUCHI, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , F27B9/40
CPC分类号： F27B17/0025 , F27D21/00 , H01L21/67109 , H01L21/67253

6. 发明专利

TW200947584A 用於半導體製造裝置之抑制地震損害擴大之方法及抑制地震損害擴大之系統 METHOD FOR LIMITING EXPANSION OF EARTHQUAKE DAMAGE AND SYSTEM FOR LIMITING EXPANSION OF EARTHQUAKE DAMAGE FOR USE IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS 审中-公开
简体标题：用于半导体制造设备之抑制地震损害扩大之方法及抑制地震损害扩大之系统 METHOD FOR LIMITING EXPANSION OF EARTHQUAKE DAMAGE AND SYSTEM FOR LIMITING EXPANSION OF EARTHQUAKE DAMAGE FOR USE IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
公开(公告)号：TW200947584A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW097146048
申请日：2008-11-27
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：菅原佑道 , 菊池浩
IPC分类号： H01L , G01V
摘要：本發明有關預測一地震之出現以便藉由預防待處理的一物體飛出一開啟容器而最小化損害。一半導體製造裝置1包括：一輸送區域Sa，其包括容器3用之輸送機構13；一偵測機構32，其經構成為用以從一裝載及卸載部分7上的該容器3卸下一蓋3a並偵測待處理的一物體W之位置；一接收及傳送機構33，其經構成為用以從該輸送機構13接收該容器3並傳送該容器3至該輸送機構13；一提升機構18，其係配置在一加熱爐5下面的一工作區域Sb中，該提升機構18經構成為用以將固持待處理的複數個物體之一固持器4支撐於一蓋部件17上而且裝載固持器4於該加熱爐5中並從該加熱爐卸載該固持器；一門機構15，其經構成為用以與該容器3之蓋3a一起開啟與關閉分離該輸送區域Sa及該工作區域Sb的一分割壁6之一開口34；以及一待處理物體之一對準機構16。由一接收部分28接收根據一初期微震而透過一通信線傳遞的一緊急地震通知，或者由一初期微震偵測部分60直接偵測一初期微震。一控制部分29執行：一第一步驟，其中根據由該接收部分28接收的該緊急地震通知或由該初期微震偵測部分60偵測的該初期微震而停止一半導體製造裝置1的操作；以及一第二步驟，其中當在該門機構為開啟時，關閉該門機構15。
简体摘要：本发明有关预测一地震之出现以便借由预防待处理的一物体飞出一打开容器而最小化损害。一半导体制造设备1包括：一输送区域Sa，其包括容器3用之输送机构13；一侦测机构32，其经构成为用以从一装载及卸载部分7上的该容器3卸下一盖3a并侦测待处理的一物体W之位置；一接收及发送机构33，其经构成为用以从该输送机构13接收该容器3并发送该容器3至该输送机构13；一提升机构18，其系配置在一加热炉5下面的一工作区域Sb中，该提升机构18经构成为用以将固持待处理的复数个物体之一固持器4支撑于一盖部件17上而且装载固持器4于该加热炉5中并从该加热炉卸载该固持器；一门机构15，其经构成为用以与该容器3之盖3a一起打开与关闭分离该输送区域Sa及该工作区域Sb的一分割壁6之一开口34；以及一待处理物体之一对准机构16。由一接收部分28接收根据一初期微震而透过一通信线传递的一紧急地震通知，或者由一初期微震侦测部分60直接侦测一初期微震。一控制部分29运行：一第一步骤，其中根据由该接收部分28接收的该紧急地震通知或由该初期微震侦测部分60侦测的该初期微震而停止一半导体制造设备1的操作；以及一第二步骤，其中当在该门机构为打开时，关闭该门机构15。

7. 发明专利

TWI533386B 蓋體開閉裝置有权
简体标题：盖体开闭设备
公开(公告)号：TWI533386B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW101109108
申请日：2012-03-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO
IPC分类号： H01L21/67 , B65B7/28
CPC分类号： H01L21/68735 , H01L21/67772 , Y10T137/794 , Y10T137/8376

8. 发明专利

TWI500105B 蓋體開閉裝置有权
简体标题：盖体开闭设备
公开(公告)号：TWI500105B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW101107492
申请日：2012-03-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67772

9. 发明专利

TWI419247B 用於半導體製造裝置之抑制地震損害擴大之方法及抑制地震損害擴大之系統有权
简体标题：用于半导体制造设备之抑制地震损害扩大之方法及抑制地震损害扩大之系统
公开(公告)号：TWI419247B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW097146048
申请日：2008-11-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO , 菊池浩 , KIKUCHI, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/67 , G01V1/16

10. 发明专利

TWI475930B 離子供應裝置及設有該離子供應裝置之工件處理系統有权
简体标题：离子供应设备及设有该离子供应设备之工件处理系统
公开(公告)号：TWI475930B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW100124622
申请日：2011-07-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原佑道 , SUGAWARA, YUDO
IPC分类号： H05F3/06 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67213

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