专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201207894A 顯像裝置、顯像方法及記憶媒體 DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：显像设备、显像方法及记忆媒体 DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201207894A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW099144776
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：瀧口靖史 , 山本太郎 , 有馬裕 , 吉原孝介 , 吉田勇一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/3021
摘要： [課題]提供抑制顯像液之使用量並且快速在基板表面全體形成顯像液之液膜的顯像裝置。[解決手段]顯像裝置之構成係具備形成處理氣氛之氣密的處理容器;和被設置在該處理容器內,用以載置基板之調溫板;和將含霧氣及蒸氣之氣氛氣體供給至上述處理容器內之氣氛氣體供給部;和用以將上述調溫板調整成上述蒸氣在基板上凝結之溫度的第1溫度調整部,上述處理容器之內壁係被設成維持在上述蒸氣難以在該內壁凝結的溫度。
简体摘要： [课题]提供抑制显像液之使用量并且快速在基板表面全体形成显像液之液膜的显像设备。[解决手段]显像设备之构成系具备形成处理气氛之气密的处理容器;和被设置在该处理容器内,用以载置基板之调温板;和将含雾气及蒸气之气氛气体供给至上述处理容器内之气氛气体供给部;和用以将上述调温板调整成上述蒸气在基板上凝结之温度的第1温度调整部,上述处理容器之内壁系被设成维持在上述蒸气难以在该内壁凝结的温度。

2. 发明专利

TWI418956B 顯影裝置、顯影方法及記憶媒體有权
简体标题：显影设备、显影方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI418956B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW099107295
申请日：2010-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715

3. 发明专利

TW201207895A 顯像裝置，顯像方法及記憶媒體 DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：显像设备，显像方法及记忆媒体 DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201207895A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW099144777
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：有馬裕 , 吉原孝介 , 吉田勇一 , 瀧口靖史 , 山本太郎
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/3021
摘要： [課題]提供可取得高生產率之顯像裝置。[解決手段]顯像裝置之構成係具備形成處理氣氛之氣密的處理容器;和為了使顯像液凝結在被搬入至該處理容器內之基板表面而形成液膜,將顯像液之霧氣供給至該處理容器內之氣氛氣體供給部;為了停止藉由上述液膜的顯像,使基板予以乾燥之乾燥部。因可以使顯像液和光阻(Resist)之反應停止,故可以和藉由洗淨模組的洗淨處理並行執行顯像處理,而取得高生產率。
简体摘要： [课题]提供可取得高生产率之显像设备。[解决手段]显像设备之构成系具备形成处理气氛之气密的处理容器;和为了使显像液凝结在被搬入至该处理容器内之基板表面而形成液膜,将显像液之雾气供给至该处理容器内之气氛气体供给部;为了停止借由上述液膜的显像,使基板予以干燥之干燥部。因可以使显像液和光阻(Resist)之反应停止,故可以和借由洗净模块的洗净处理并行运行显像处理,而取得高生产率。

4. 发明专利

TWI386979B 顯像裝置、顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：显像设备、显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI386979B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW099144776
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021

5. 发明专利

TW201033758A 基板處理裝置、基板處理方法、塗佈顯影裝置、塗佈顯影方法及記憶媒體 SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, COATING AND DEVELOPING APPARATUS, COATING AND DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、涂布显影设备、涂布显影方法及记忆媒体 SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, COATING AND DEVELOPING APPARATUS, COATING AND DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201033758A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW099107294
申请日：2010-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：吉田勇一 , 有馬裕 , 山本太郎 , 吉原孝介
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/67748 , H01L21/67109 , H01L21/6715
摘要：本發明之課題為：提供用以將曝光後之基板加熱的基板處理裝置，可抑制顯影缺顯，以抑制產量下降，進一步可減輕後段裝置之處理的勞力。為解決上述課題，以具備下述部分方式構成基板處理裝置：加熱板，將表面塗佈有抗蝕劑且曝光後的基板加熱；表面處理液霧化機構，將用來使供給至該抗蝕劑的顯影液對該基板之潤濕性提高的表面處理液加以霧化；冷卻機構，用以冷卻由該加熱板受加熱的基板；及表面處理液供給機構，從開始以該加熱板進行加熱起，到結束以該冷卻機構進行冷卻為止，對基板供給霧化之該表面處理液。
简体摘要：本发明之课题为：提供用以将曝光后之基板加热的基板处理设备，可抑制显影缺显，以抑制产量下降，进一步可减轻后段设备之处理的劳力。为解决上述课题，以具备下述部分方式构成基板处理设备：加热板，将表面涂布有抗蚀剂且曝光后的基板加热；表面处理液雾化机构，将用来使供给至该抗蚀剂的显影液对该基板之润湿性提高的表面处理液加以雾化；冷却机构，用以冷却由该加热板受加热的基板；及表面处理液供给机构，从开始以该加热板进行加热起，到结束以该冷却机构进行冷却为止，对基板供给雾化之该表面处理液。

6. 发明专利

TWI418955B 基板處理裝置、基板處理方法、塗佈顯影裝置、塗佈顯影方法及記憶媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、涂布显影设备、涂布显影方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI418955B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW099107294
申请日：2010-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI , 有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67748 , H01L21/67109 , H01L21/6715

7. 发明专利

TW201142930A 塗佈、顯像裝置、顯像方法及記憶媒體 COATING AND DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：涂布、显像设备、显像方法及记忆媒体 COATING AND DEVELOPING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201142930A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099144778
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：瀧口靖史 , 山本太郎 , 有馬裕 , 吉原孝介 , 吉田勇一
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/68742 , H01L21/68785
摘要： [課題]提供在基板表面全體形成均勻性高之顯像液的液膜,並且可取得高生產率之塗佈、顯像裝置。[解決手段]塗佈、顯像裝置係構成具備顯像模組、和洗淨模組、和將藉由上述顯像模組而被顯像之基板搬運至上述洗淨模組之搬運機構,上述顯像模組具備形成處理氣氛之氣密的處理容器;和被設置在該處理容器內,用以載置基板,並予以冷卻之調溫板;和將含有顯像液之霧氣的氣氛氣體供給至上述處理容器內之蒸氣供給部;和用以將上述調溫板調整成上述蒸氣在基板上凝結之溫度的溫度調整部。因可以在顯像模組和洗淨模組並行執行處理,故可以取得高生產率。
简体摘要： [课题]提供在基板表面全体形成均匀性高之显像液的液膜,并且可取得高生产率之涂布、显像设备。[解决手段]涂布、显像设备系构成具备显像模块、和洗净模块、和将借由上述显像模块而被显像之基板搬运至上述洗净模块之搬运机构,上述显像模块具备形成处理气氛之气密的处理容器;和被设置在该处理容器内,用以载置基板,并予以冷却之调温板;和将含有显像液之雾气的气氛气体供给至上述处理容器内之蒸气供给部;和用以将上述调温板调整成上述蒸气在基板上凝结之温度的温度调整部。因可以在显像模块和洗净模块并行运行处理,故可以取得高生产率。

8. 发明专利

TW201033759A 顯影裝置、顯影方法及記憶媒體 DEVELOPING DEVICE, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：显影设备、显影方法及记忆媒体 DEVELOPING DEVICE, DEVELOPING METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201033759A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW099107295
申请日：2010-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：有馬裕 , 吉田勇一 , 山本太郎 , 吉原孝介
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：提供一種顯影裝置，可高均一性地供給顯影液至基板，抑制良品率的低下。該顯影裝置係具有：基板保持部，其水平保持表面塗佈有抗蝕劑且曝光後的基板；表面處理液霧化機構，其為了提高顯影液對該基板的可濕潤性而霧化表面處理液；第1噴霧噴嘴，其將霧化的該表面處理液噴霧至該基板；顯影液流出噴嘴，其為了顯影而將該顯影液流出至經表面處理液噴霧後的基板。將霧化的表面處理液相較於維持液狀的表面處理液，因為對基板的表面張力低，在基板上的凝集受抑制，故可輕易地供給至基板整體，因而可提高基板的可濕潤性。其結果為，可將顯影液高均一性地供給至基板，並可抑制良品率的低下。
简体摘要：提供一种显影设备，可高均一性地供给显影液至基板，抑制良品率的低下。该显影设备系具有：基板保持部，其水平保持表面涂布有抗蚀剂且曝光后的基板；表面处理液雾化机构，其为了提高显影液对该基板的可湿润性而雾化表面处理液；第1喷雾喷嘴，其将雾化的该表面处理液喷雾至该基板；显影液流出喷嘴，其为了显影而将该显影液流出至经表面处理液喷雾后的基板。将雾化的表面处理液相较于维持液状的表面处理液，因为对基板的表面张力低，在基板上的凝集受抑制，故可轻易地供给至基板整体，因而可提高基板的可湿润性。其结果为，可将显影液高均一性地供给至基板，并可抑制良品率的低下。

9. 发明专利

TWI492281B 塗佈、顯像裝置、顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：涂布、显像设备、显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI492281B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW099144778
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/30 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/68742 , H01L21/68785

10. 发明专利

TWI393173B 顯像裝置，顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：显像设备，显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI393173B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW099144777
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式