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1. 发明专利

TW399251B 基板的兩面洗淨裝置以及兩面洗淨方法失效
简体标题：基板的两面洗净设备以及两面洗净方法
公开(公告)号：TW399251B
公开(公告)日：2000-07-21
申请号：TW087102649
申请日：1998-02-24
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：米水昭 , 松山雄二
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67028 , Y10S134/902
摘要：一種基板的兩面洗淨裝置，其特徵為具備:
具有一邊將液體噴灑在基板的表面上一邊使擦洗構件接觸在基板上來進行擦洗的第l洗淨單元(21)，以及一邊將液體噴灑在基板的內面上一邊使擦洗構件接觸在基板上來進行擦洗的第2洗淨單元(23)之處理部(2);及
在此處理部內，至少將基板分別取出或放入第l和第2洗淨單元內的主臂機構(4);及設置在前述處理部的一側，基板收容用的多數個盒被裝載或卸下之第l盒部(l);及
設置在前述處理部的另一側，與前述第l盒部相對而夾住前述處理部，且基板收容用的多數個盒被裝載或卸下之第2盒部(3);及
將基板由前述第l盒部的盒內取出或放入，與前述主臂機構之間搬送基板之第l副臂機構(ll);及將基板由前述第2盒部的盒內取出或放入，與前述主臂機構之間搬送基板之第2副臂機構(31);以及
控制器(90~93);此控制器係分別控制前述主臂機構以及前述處理部，使得能夠對於由前述第l盒部取出的第l基板，於前述第l洗淨單元中將其表面洗淨後，於前述第2洗淨單元中洗淨其內面;而對於由前述第2盒部取出的第2基板，於前述第2洗淨單元中將其內面洗淨後，於前述第l洗淨單元中洗淨其表面。
简体摘要：一种基板的两面洗净设备，其特征为具备: 具有一边将液体喷洒在基板的表面上一边使擦洗构件接触在基板上来进行擦洗的第l洗净单元(21)，以及一边将液体喷洒在基板的内面上一边使擦洗构件接触在基板上来进行擦洗的第2洗净单元(23)之处理部(2);及在此处理部内，至少将基板分别取出或放入第l和第2洗净单元内的主臂机构(4);及设置在前述处理部的一侧，基板收容用的多数个盒被装载或卸下之第l盒部(l);及设置在前述处理部的另一侧，与前述第l盒部相对而夹住前述处理部，且基板收容用的多数个盒被装载或卸下之第2盒部(3);及将基板由前述第l盒部的盒内取出或放入，与前述主臂机构之间搬送基板之第l副臂机构(ll);及将基板由前述第2盒部的盒内取出或放入，与前述主臂机构之间搬送基板之第2副臂机构(31);以及控制器(90~93);此控制器系分别控制前述主臂机构以及前述处理部，使得能够对于由前述第l盒部取出的第l基板，于前述第l洗净单元中将其表面洗净后，于前述第2洗净单元中洗净其内面;而对于由前述第2盒部取出的第2基板，于前述第2洗净单元中将其内面洗净后，于前述第l洗净单元中洗净其表面。

2. 发明专利

TW384511B 基板的兩面洗淨方法以及兩面洗淨裝置失效
简体标题：基板的两面洗净方法以及两面洗净设备
公开(公告)号：TW384511B
公开(公告)日：2000-03-11
申请号：TW087102645
申请日：1998-02-24
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：米水昭 , 松山雄二
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B1/007 , B08B1/04 , B08B7/0057 , Y10S134/902
摘要：一種基板的洗淨方法，其特徵為具備：
（a）一邊將液體噴灑在旋轉中的基板表面上，一邊使擦洗構件接觸在基板上來進行洗淨的第１洗淨過程；及
（b)一邊將液體噴灑在旋轉中的基板內面上，一邊使擦洗構件接觸在基板上來進行洗淨的第2洗淨過程；及
（c）加熱濕潤的基板使其乾燥的加熱乾燥過程；及
（d）在前述第１及第２洗淨過程（a）、（b）之間的時期以及前述第２洗淨過程（b）之後的時期，分別實施前述加熱乾燥過程（c）、或是僅在前述第２洗淨過程（b）之後的時期實施前述加熱乾燥過程（c）、或是不實施前述加熱乾燥過程（c）等３種製程之中選擇其中一種製程的製程選擇過程；以及
（e）根據前述製程選擇過程（d）所選擇的製程，實行/不實行前述加熱乾燥過程（c）的過程。
简体摘要：一种基板的洗净方法，其特征为具备：（a）一边将液体喷洒在旋转中的基板表面上，一边使擦洗构件接触在基板上来进行洗净的第１洗净过程；及（b)一边将液体喷洒在旋转中的基板内面上，一边使擦洗构件接触在基板上来进行洗净的第2洗净过程；及（c）加热湿润的基板使其干燥的加热干燥过程；及（d）在前述第１及第２洗净过程（a）、（b）之间的时期以及前述第２洗净过程（b）之后的时期，分别实施前述加热干燥过程（c）、或是仅在前述第２洗净过程（b）之后的时期实施前述加热干燥过程（c）、或是不实施前述加热干燥过程（c）等３种制程之中选择其中一种制程的制程选择过程；以及（e）根据前述制程选择过程（d）所选择的制程，实行/不实行前述加热干燥过程（c）的过程。

3. 发明专利

TW414926B 處理裝置有权
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TW414926B
公开(公告)日：2000-12-11
申请号：TW088106768
申请日：1999-04-27
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：石原明 , 難波和善 , 米水昭 , 宮崎高典
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67046
摘要：係設在轉動可能之操作臂部材(20)的前端,而設有驅動處理體(24)之用的驅動機構(42)。該驅動機構(42)含有為旋轉驅動用而具有刷子(58)之處理體的馬達(61)，以及調節將處理體(24)押著在晶圓(W)之力量的調節機構(45)。處理體(24)乃不必介著傳輸帶等之可轉彎之傳動機構,而介著旋轉軸(55)結合於馬達(61)作直接驅動。調節機構(45)乃由具有固定要素(46)，並沿著固定要素(46)而可作昇降之可動要素(48)之電磁式的線性調節器所成且馬達(61)，乃結合於可動要素(48)。依調節機構(45)，就可將處理體(24)之上下方向有關的位置以及處理體(24)得以押著在晶圓(W)之力量予以調節。
简体摘要：系设在转动可能之操作臂部材(20)的前端,而设有驱动处理体(24)之用的驱动机构(42)。该驱动机构(42)含有为旋转驱动用而具有刷子(58)之处理体的马达(61)，以及调节将处理体(24)押着在晶圆(W)之力量的调节机构(45)。处理体(24)乃不必介着传输带等之可转弯之传动机构,而介着旋转轴(55)结合于马达(61)作直接驱动。调节机构(45)乃由具有固定要素(46)，并沿着固定要素(46)而可作升降之可动要素(48)之电磁式的线性调节器所成且马达(61)，乃结合于可动要素(48)。依调节机构(45)，就可将处理体(24)之上下方向有关的位置以及处理体(24)得以押着在晶圆(W)之力量予以调节。

4. 发明专利

TW405150B 處理裝置及處理方法有权
简体标题：处理设备及处理方法
公开(公告)号：TW405150B
公开(公告)日：2000-09-11
申请号：TW088105330
申请日：1999-04-02
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：石原明 , 米水昭 , 宮崎高典
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67253 , B08B1/00 , B08B1/04 , H01L21/67046 , Y10S134/902
摘要：提供一種處理裝置及處理方法，以便適宜且簡易地，正確地獲得處理中之處理體的接觸壓資料。
於使處理體40接觸於由保持機構旋轉卡盤22所保持之晶圓W之表面藉以處理之表面處理裝置7，將處理體40躲避自如地構成於離開晶圓W之表面的躲避位置25，且，設有一將測定機器26及用來淨化處理體40之淨化機器27構成一體之淨化機器28，其中測定機器26係將處理體46躲避自如地構成於離開晶圓W表面之躲避位置25，以測定躲避在躲避位置25之處理體4O的接觸壓。該測機機器26，包含有一用載置處理體40之台座60、及一感測出施加於台座60之接觸壓藉以測定處理體40之接觸壓的按壓感測器62;台座60之載置面63之高度，係等於由旋轉卡盤22所保持之晶圓 W表面之高度。
简体摘要：提供一种处理设备及处理方法，以便适宜且简易地，正确地获得处理中之处理体的接触压数据。于使处理体40接触于由保持机构旋转卡盘22所保持之晶圆W之表面借以处理之表面处理设备7，将处理体40躲避自如地构成于离开晶圆W之表面的躲避位置25，且，设有一将测定机器26及用来净化处理体40之净化机器27构成一体之净化机器28，其中测定机器26系将处理体46躲避自如地构成于离开晶圆W表面之躲避位置25，以测定躲避在躲避位置25之处理体4O的接触压。该测机机器26，包含有一用载置处理体40之台座60、及一传感出施加于台座60之接触压借以测定处理体40之接触压的按压传感器62;台座60之载置面63之高度，系等于由旋转卡盘22所保持之晶圆 W表面之高度。

5. 发明专利

TW350971B 洗淨裝置失效
简体标题：洗净设备
公开(公告)号：TW350971B
公开(公告)日：1999-01-21
申请号：TW085105588
申请日：1996-05-11
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：米水昭
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67046 , A46B13/04
摘要：本發明之洗淨裝置，具有可保持晶圓且使其轉動之旋轉夾頭；摩擦晶圓表面之刷子；及，支持刷子之臂部。經由線性導件將支座連結於臂部，使臂部與支座在水平方向形成一體移動，同時在垂直方向可相對移位者。臂部與支座間配設有壓縮彈簧，其係隨著臂部與支座間垂直方向相對位移而變形。使刷子相對於保持在旋轉夾頭之晶圓而接觸時，對應壓縮彈簧的變形產生對晶圓之刷子的作用力。並藉支座垂直方向之下降量的調節設定刷子之作用力者。
简体摘要：本发明之洗净设备，具有可保持晶圆且使其转动之旋转夹头；摩擦晶圆表面之刷子；及，支持刷子之臂部。经由线性导件将支座链接于臂部，使臂部与支座在水平方向形成一体移动，同时在垂直方向可相对移位者。臂部与支座间配设有压缩弹簧，其系随着臂部与支座间垂直方向相对位移而变形。使刷子相对于保持在旋转夹头之晶圆而接触时，对应压缩弹簧的变形产生对晶圆之刷子的作用力。并藉支座垂直方向之下降量的调节设置刷子之作用力者。

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