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    • 1. 发明专利
    • 羧 青黴素衍生物及其製備方法
    • 羧 青霉素衍生物及其制备方法
    • TW255892B
    • 1995-09-01
    • TW082107234
    • 1993-09-02
    • 東亞製藥股份有限公司
    • 申熙贊李在杰林重仁金枝永金南植金啓源張民善
    • C07D
    • C07D477/20C07D207/12Y02P20/55
    • 本發明係有關一化學式(I)的化合物□ (Ⅰ)其中R1係氫原子或甲基,R2係氫原子、金屬或非金屬鹽基、或羧基保護基,R3係氫原子或亞胺基保護基,及R4係氫原子、低烷基、羥基、氰基、或鹵原子,R5係羥基、低烷氧基、受保護或未保護的胺基、或是下面化學式(1)至(4)其中之一;
      (1) CC其中R6及R7係互不相干表示氫原子或低烷基,R8係羥基、氰基、鹵原子、包含1至4個雜原子的5或6員環之雜環基,其中該等雜原子上可視需要以適當取代基給予取代、受保護或未保護的胺基、或下面的共通化學式:□(其中R9係低烷基硫醯基、鹵低烷基硫醯基、苯基(C1至C4)烷基硫醯基或N,N-二低烷胺基磺醯基),n係0至4的整數
      (2) CC其中R6係氫原子或低烷基,n係0至4的整數
      (3) CC其中R6及R7係互不相干表示氫原子或低烷基,n係0至4的整數
      (4) CC其中R6係氫原子或低烷基,R10係低烷基、低烷基硫醯基、鹵低烷基硫醯基、苯基(C1至C4)苯基硫醯基、N-(低)烷胺基磺 醯 基、N,N-二低烷胺基磺 醯 基、包含1至4個雜原子的5或6員環之雜環基,其中該等雜原子上可視需要以適當取代基給予取代、或下面的共通化學式
      CC(其中R11係
    • 本发明系有关一化学式(I)的化合物□ (Ⅰ)其中R1系氢原子或甲基,R2系氢原子、金属或非金属盐基、或羧基保护基,R3系氢原子或亚胺基保护基,及R4系氢原子、低烷基、羟基、氰基、或卤原子,R5系羟基、低烷氧基、受保护或未保护的胺基、或是下面化学式(1)至(4)其中之一; (1) CC其中R6及R7系互不相干表示氢原子或低烷基,R8系羟基、氰基、卤原子、包含1至4个杂原子的5或6员环之杂环基,其中该等杂原子上可视需要以适当取代基给予取代、受保护或未保护的胺基、或下面的共通化学式:□(其中R9系低烷基硫酰基、卤低烷基硫酰基、苯基(C1至C4)烷基硫酰基或N,N-二低烷胺基磺酰基),n系0至4的整数 (2) CC其中R6系氢原子或低烷基,n系0至4的整数 (3) CC其中R6及R7系互不相干表示氢原子或低烷基,n系0至4的整数 (4) CC其中R6系氢原子或低烷基,R10系低烷基、低烷基硫酰基、卤低烷基硫酰基、苯基(C1至C4)苯基硫酰基、N-(低)烷胺基磺 酰 基、N,N-二低烷胺基磺 酰 基、包含1至4个杂原子的5或6员环之杂环基,其中该等杂原子上可视需要以适当取代基给予取代、或下面的共通化学式 CC(其中R11系