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1. 发明专利

TWI644122B 影像顯示裝置、防眩性薄膜及防眩性薄膜之製造方法有权
简体标题：影像显示设备、防眩性薄膜及防眩性薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI644122B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106131814
申请日：2013-05-14
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 二宮正紀 , NINOMIYA, MASAKI , 橋本尚樹 , HASHIMOTO, NAOKI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335

2. 发明专利

TWI560590B 雙面透明導電性膜與其捲繞體、及觸控面板有权
简体标题：双面透明导电性膜与其卷绕体、及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI560590B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW104103329
申请日：2015-01-30
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：橋本尚樹 , HASHIMOTO, NAOKI , 高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI , 豬飼和宏 , IKAI, KAZUHIRO , 平岡慎哉 , HIRAOKA, SHINYA , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI , 津野直樹 , TSUNO, NAOKI , 梅本徹 , UMEMOTO, TORU , 鷹尾寬行 , TAKAO, HIROYUKI
IPC分类号： G06F3/041 , B32B27/00 , B32B7/02
CPC分类号： G06F3/044 , B32B7/02 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/536 , B32B2457/208 , G06F3/041 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , G06F2203/04104

3. 发明专利

TWI542468B 光學積層體有权
简体标题：光学积层体
公开(公告)号：TWI542468B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW103134058
申请日：2014-09-30
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：柴田周作 , SHIBATA, SHUSAKU , 岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： B32B27/30
CPC分类号： B32B27/308 , B32B27/06 , B32B2307/536 , B32B2551/00 , G02B1/14 , G02B1/16

4. 发明专利

TW201515840A 光學積層體审中-公开
简体标题：光学积层体
公开(公告)号：TW201515840A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103134061
申请日：2014-09-30
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：柴田周作 , SHIBATA, SHUSAKU , 岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： B32B27/30 , B32B7/02 , C08J7/04 , G02B1/11
CPC分类号： B32B27/18 , B32B7/00 , B32B7/10 , B32B27/00 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B2255/00 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2264/00 , B32B2307/40 , B32B2307/50 , G02B1/113
摘要：本發明提供一種具備基材層與硬塗層，防止干涉斑，且具有充分之硬度之光學積層體。本發明之光學積層體具備：基材層，其係由熱塑性樹脂膜形成；及硬塗層，其係將包含分子量為600~2500之硬化性化合物與折射率為1.50以上之高折射率微粒子的硬塗層形成用組合物塗佈於該熱塑性樹脂膜而形成；且該硬塗層包含該硬塗層形成用組合物向該熱塑性樹脂膜滲透而形成之滲透區域，該高折射率微粒子於該硬塗層中以濃度自未設置該基材層之側之表面向厚度方向連續變低之方式偏析。
简体摘要：本发明提供一种具备基材层与硬涂层，防止干涉斑，且具有充分之硬度之光学积层体。本发明之光学积层体具备：基材层，其系由热塑性树脂膜形成；及硬涂层，其系将包含分子量为600~2500之硬化性化合物与折射率为1.50以上之高折射率微粒子的硬涂层形成用组合物涂布于该热塑性树脂膜而形成；且该硬涂层包含该硬涂层形成用组合物向该热塑性树脂膜渗透而形成之渗透区域，该高折射率微粒子于该硬涂层中以浓度自未设置该基材层之侧之表面向厚度方向连续变低之方式偏析。

5. 发明专利

TWI622611B 硬塗膜及硬塗膜捲繞體有权
简体标题：硬涂膜及硬涂膜卷绕体
公开(公告)号：TWI622611B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW103118309
申请日：2014-05-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：橋本尚樹 , HASHIMOTO, NAOKI , 高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI , 平岡慎哉 , HIRAOKA, SHINYA , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： C08J7/04 , C09D7/12 , C09D201/00

6. 发明专利

TWI618943B 影像顯示裝置、防眩性薄膜及防眩性薄膜之製造方法有权
简体标题：影像显示设备、防眩性薄膜及防眩性薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI618943B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102117013
申请日：2013-05-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 二宮正紀 , NINOMIYA, MASAKI , 橋本尙樹 , HASHIMOTO, NAOKI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B1/10 , G02B1/11 , G02B1/118 , G02B1/18 , G02B5/0221 , G02B5/0226 , G02B5/0242 , G02B5/0284

7. 发明专利

TWI605266B 防眩性薄膜之製造方法、防眩性薄膜、偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：防眩性薄膜之制造方法、防眩性薄膜、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI605266B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW102117015
申请日：2013-05-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 二宮正紀 , NINOMIYA, MASAKI , 橋本尙樹 , HASHIMOTO, NAOKI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI
IPC分类号： G02B1/11 , G02B5/02 , G02B5/30 , B05D5/06
CPC分类号： G02B1/10 , G02B1/11 , G02B1/115 , G02B1/118 , G02B1/18 , G02B5/0221 , G02B5/0242 , G02B5/0284 , G02B5/3025

8. 发明专利

TW201700998A 偏光板及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光板及其制造方法
公开(公告)号：TW201700998A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105111701
申请日：2016-04-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI , 仲井宏太 , NAKAI, KOTA , 樋口直孝 , HIGUCHI, NAOTAKA , 木村啓介 , KIMURA, KEISUKE , 北村吉紹 , KITAMURA, YOSHITSUGU , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： G02B5/20 , G02B1/14
CPC分类号： G02B5/3025 , G02B1/14 , G02B5/3033 , G02F1/1335 , G02F1/133528
摘要：本發明提供一種耐久性優異之偏光板。本發明之實施形態之偏光板100具有偏光元件10、及分別配置於偏光元件10之兩主表面之一對保護膜21、22，且具有由偏光元件10之端面10a較保護膜21、22之端面21a、22a位於面方向內側而形成之偏光元件空隙部30。
简体摘要：本发明提供一种耐久性优异之偏光板。本发明之实施形态之偏光板100具有偏光组件10、及分别配置于偏光组件10之两主表面之一对保护膜21、22，且具有由偏光组件10之端面10a较保护膜21、22之端面21a、22a位于面方向内侧而形成之偏光组件空隙部30。

9. 发明专利

TW201643482A 偏光元件、偏光板及偏光元件之製造方法审中-公开
简体标题：偏光组件、偏光板及偏光组件之制造方法
公开(公告)号：TW201643482A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105111700
申请日：2016-04-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI , 仲井宏太 , NAKAI, KOTA , 樋口直孝 , HIGUCHI, NAOTAKA , 木村啓介 , KIMURA, KEISUKE , 北村吉紹 , KITAMURA, YOSHITSUGU , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/305 , B29D11/00644 , C08J3/24 , C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B1/08 , G02B1/14 , G02B5/3033
摘要：本發明提供一種耐久性優異之偏光元件。本發明之實施形態之偏光元件包含含有硼酸之樹脂膜，且於該樹脂膜之端部形成有硼酸之含有濃度低於其他部位之低濃度部。
简体摘要：本发明提供一种耐久性优异之偏光组件。本发明之实施形态之偏光组件包含含有硼酸之树脂膜，且于该树脂膜之端部形成有硼酸之含有浓度低于其他部位之低浓度部。

10. 发明专利

TW201520048A 光學積層體审中-公开
简体标题：光学积层体
公开(公告)号：TW201520048A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103134058
申请日：2014-09-30
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：柴田周作 , SHIBATA, SHUSAKU , 岸敦史 , KISHI, ATSUSHI , 倉本浩貴 , KURAMOTO, HIROKI
IPC分类号： B32B27/30
CPC分类号： B32B27/308 , B32B27/06 , B32B2307/536 , B32B2551/00 , G02B1/14 , G02B1/16
摘要：本發明提供一種可兼顧硬塗層與基材層之密接性及硬度，且無需可能引起基材膜之變形之溫度之加熱即可製造之光學積層體。本發明之光學積層體具備：基材層，其係由(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成；硬塗層，其係於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜塗佈硬塗層形成用組合物而形成；及滲透層，其係該硬塗層形成用組合物向該(甲基)丙烯酸系樹脂膜滲透而形成於該基材層與該硬塗層之間。該硬塗層形成用組合物包含：含有1個以上之自由基聚合性不飽和基及芳香環之硬化性化合物(A)、含有2個以上之自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之硬化性化合物(B)、及含有1個自由基聚合性不飽和基但不含有芳香環之單官能單體(C)。
简体摘要：本发明提供一种可兼顾硬涂层与基材层之密接性及硬度，且无需可能引起基材膜之变形之温度之加热即可制造之光学积层体。本发明之光学积层体具备：基材层，其系由(甲基)丙烯酸系树脂膜形成；硬涂层，其系于该(甲基)丙烯酸系树脂膜涂布硬涂层形成用组合物而形成；及渗透层，其系该硬涂层形成用组合物向该(甲基)丙烯酸系树脂膜渗透而形成于该基材层与该硬涂层之间。该硬涂层形成用组合物包含：含有1个以上之自由基聚合性不饱和基及芳香环之硬化性化合物(A)、含有2个以上之自由基聚合性不饱和基但不含有芳香环之硬化性化合物(B)、及含有1个自由基聚合性不饱和基但不含有芳香环之单官能单体(C)。

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