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1. 发明专利

TWI523928B 附有黏著劑層之透明導電性膜、透明導電性積層體及觸控面板有权
简体标题：附有黏着剂层之透明导电性膜、透明导电性积层体及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI523928B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW100126655
申请日：2011-07-27
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 佐竹正之 , SATAKE, MASAYUKI , 村上亞衣 , MURAKAMI, AI , 山崎由佳 , YAMAZAKI, YUKA
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/06 , B32B7/12 , H01B5/14 , G06F3/044
CPC分类号： C09J7/0217 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/306 , B32B2307/412 , B32B2405/00 , B32B2457/202 , B32B2457/208 , C08K3/28 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J143/02 , C09J2203/318 , C09J2205/102 , C09J2433/00 , G06F3/044 , Y10T428/2848

2. 发明专利

TW201500501A 光學用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学用黏着剂层、附黏着剂层之光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201500501A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103113548
申请日：2014-04-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 秋月伸介 , AKIZUKI, SHINSUKE
IPC分类号： C09J133/14 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09K3/16 , G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC分类号： C09J7/0217 , C08K3/16 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J2203/318 , C09J2205/102 , G02B5/3033 , Y10T428/2848 , Y10T428/2891
摘要：本發明提供能夠形成具有抗靜電功能且滿足耐久性的黏著劑層之光學用黏著劑組成物。一種光學用黏著劑層，其特徵在於，由含有基礎聚合物(A)的光學用黏著劑形成，且含有碘及/或碘離子(B)。
简体摘要：本发明提供能够形成具有抗静电功能且满足耐久性的黏着剂层之光学用黏着剂组成物。一种光学用黏着剂层，其特征在于，由含有基础聚合物(A)的光学用黏着剂形成，且含有碘及/或碘离子(B)。

3. 发明专利

TW201819176A 附有附隔離件之黏合劑層的偏振薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：附有附隔离件之黏合剂层的偏振薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201819176A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW107104354
申请日：2014-06-06
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI
IPC分类号： B32B7/12 , C09J7/02 , G02B5/30
摘要：本發明的目的在於提供即使在隔離件上形成有含有離子性化合物之黏合劑層的情況下也能夠抑制隔離件所使用基材薄膜中的低聚物向黏合劑層中的轉移的附隔離件之黏合劑層。本發明附隔離件之黏合劑層係在隔離件上具有黏合劑層者，其特徵在於，前述隔離件在基材薄膜上依序設置有低聚物防止層、脫模層，並且，前述脫模層的表面電阻值為1.0×1013Ω/□以上，前述黏合劑層由含有基礎聚合物及離子性化合物的黏合劑組成物形成，且設置於前述隔離件的脫模層。
简体摘要：本发明的目的在于提供即使在隔离件上形成有含有离子性化合物之黏合剂层的情况下也能够抑制隔离件所使用基材薄膜中的低聚物向黏合剂层中的转移的附隔离件之黏合剂层。本发明附隔离件之黏合剂层系在隔离件上具有黏合剂层者，其特征在于，前述隔离件在基材薄膜上依序设置有低聚物防止层、脱模层，并且，前述脱模层的表面电阻值为1.0×1013Ω/□以上，前述黏合剂层由含有基础聚合物及离子性化合物的黏合剂组成物形成，且设置于前述隔离件的脱模层。

4. 发明专利

TWI585173B 光學膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置有权
简体标题：光学膜用黏着剂层、附黏着剂层之光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TWI585173B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102115309
申请日：2013-04-29
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J151/06 , C09J7/02 , G02B5/30 , C09J9/00
CPC分类号： C09J133/08 , C08F265/06 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J151/003 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , Y10T428/254 , C08F2220/1825 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2230/085 , C08F220/18 , C08F230/08

5. 发明专利

TWI531635B 光學薄膜用黏著劑層及其製造方法、黏著型光學薄膜及其製造方法、影像顯示裝置以及塗佈液供給裝置有权
简体标题：光学薄膜用黏着剂层及其制造方法、黏着型光学薄膜及其制造方法、影像显示设备以及涂布液供给设备
公开(公告)号：TWI531635B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW101114518
申请日：2012-04-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：塘口直樹 , TOMOGUCHI, NAOKI , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 增田友昭 , MASUDA, TOMOAKI , 柳成鎮 , RYU, SONJIN , 諸星勉 , MOROHOSHI, TSUTOMU
IPC分类号： C09J7/02
CPC分类号： C09J9/00 , C09J7/38 , C09J2203/318 , G02B5/30 , Y10T428/249983 , Y10T428/28 , Y10T428/2848

6. 发明专利

TW201614284A 附黏著劑層的偏光板审中-公开
简体标题：附黏着剂层的偏光板
公开(公告)号：TW201614284A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104127924
申请日：2015-08-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：秋月伸介 , AKIZUKI, SHINSUKE , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/305 , C09J133/06 , C09J133/066
摘要：本發明涉及附黏著劑層的偏光板。提供了一種幾乎不翹曲的附黏著劑層的薄型偏光板。本發明的附黏著劑層的偏光板依次包括第一黏著劑層、保護薄膜及偏光膜，其中：所述偏光膜的厚度為13μm以下；所述保護薄膜與所述偏光膜的厚度之比(所述保護薄膜的厚度/所述偏光膜的厚度)為1.5至9.0；且當將500g的負荷施加至所述第一黏著劑層1小時時的潛變量為20μm/h至300μm/h。
简体摘要：本发明涉及附黏着剂层的偏光板。提供了一种几乎不翘曲的附黏着剂层的薄型偏光板。本发明的附黏着剂层的偏光板依次包括第一黏着剂层、保护薄膜及偏光膜，其中：所述偏光膜的厚度为13μm以下；所述保护薄膜与所述偏光膜的厚度之比(所述保护薄膜的厚度/所述偏光膜的厚度)为1.5至9.0；且当将500g的负荷施加至所述第一黏着剂层1小时时的潜变量为20μm/h至300μm/h。

7. 发明专利

TW201350553A 光學膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学膜用黏着剂层、附黏着剂层之光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TW201350553A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102115309
申请日：2013-04-29
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J151/06 , C09J7/02 , G02B5/30 , C09J9/00
CPC分类号： C09J133/08 , C08F265/06 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J151/003 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , Y10T428/254 , C08F2220/1825 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2230/085 , C08F220/18 , C08F230/08
摘要：本發明之目的在於提供一種難以發生消偏光、且二次加工性、再利用性優異之光學膜用黏著劑層。本發明之光學膜用黏著劑層之特徵在於：其係由水分散型黏著劑組合物形成者，且上述水分散型黏著劑組合物含有如下核殼結構之乳液粒子，該核殼結構之乳液粒子中，係於同一乳液粒子內甲基丙烯酸系共聚物(B)作為核層、(甲基)丙烯酸系共聚物(A)作為殼層而存在，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之單體作為單體單元，且玻璃轉移溫度(其中，玻璃轉移溫度係依據單體單元中之單官能單體而計算)為-55℃以上且未達0℃，上述甲基丙烯酸系共聚物(B)含有甲基丙烯酸烷基酯及含羧基之單體作為單體單元，且上述甲基丙烯酸烷基酯之單體單元之含量為甲基丙烯酸系共聚物(B)所含之總單體單元之68~82重量%，且玻璃轉移溫度為0℃以上且180℃以下，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度與甲基丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度的差為50℃以上，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與甲基丙烯酸系共聚物(B)之混合比率為(A)/(B)=50~90/10~50(固形物成分重量比率)；且上述水分散型黏著劑組合物之乳液粒子之數量平均粒徑為10~100 nm。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种难以发生消偏光、且二次加工性、再利用性优异之光学膜用黏着剂层。本发明之光学膜用黏着剂层之特征在于：其系由水分散型黏着剂组合物形成者，且上述水分散型黏着剂组合物含有如下核壳结构之乳液粒子，该核壳结构之乳液粒子中，系于同一乳液粒子内甲基丙烯酸系共聚物(B)作为核层、(甲基)丙烯酸系共聚物(A)作为壳层而存在，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之单体作为单体单元，且玻璃转移温度(其中，玻璃转移温度系依据单体单元中之单官能单体而计算)为-55℃以上且未达0℃，上述甲基丙烯酸系共聚物(B)含有甲基丙烯酸烷基酯及含羧基之单体作为单体单元，且上述甲基丙烯酸烷基酯之单体单元之含量为甲基丙烯酸系共聚物(B)所含之总单体单元之68~82重量%，且玻璃转移温度为0℃以上且180℃以下，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃转移温度与甲基丙烯酸系共聚物(B)之玻璃转移温度的差为50℃以上，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)与甲基丙烯酸系共聚物(B)之混合比率为(A)/(B)=50~90/10~50(固形物成分重量比率)；且上述水分散型黏着剂组合物之乳液粒子之数量平均粒径为10~100 nm。

8. 发明专利

TW201323566A 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜用黏着剂层之制造方法、光学薄膜用黏着剂层、黏着型光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201323566A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101134710
申请日：2012-09-21
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08
CPC分类号： C09J7/0217 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J2201/622 , Y10T428/1476
摘要：本發明係提供一種不會發生塗佈速度低減等生產性減損，且可減低視認性問題之光學薄膜用黏著劑層之製造方法。本發明係一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，包含有將含有水分散液之水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)以及將經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)，而該水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，該製造方法中，前述水分散型黏著劑在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s，形成於前述脫模薄膜上之前述光學薄膜用黏著劑層之表面的表面粗度(Ra)為10~40nm，且前述光學薄膜用黏著劑層之霧度(haze)為1%以下。
简体摘要：本发明系提供一种不会发生涂布速度低减等生产性减损，且可减低视认性问题之光学薄膜用黏着剂层之制造方法。本发明系一种光学薄膜用黏着剂层之制造方法，包含有将含有水分散液之水分散型黏着剂涂布于脱模薄膜之步骤(1)以及将经涂布之水分散型黏着剂干燥之步骤(2)，而该水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，该制造方法中，前述水分散型黏着剂在剪力速度4000(1/s)下之黏度为0.01~0.1Pa．s，形成于前述脱模薄膜上之前述光学薄膜用黏着剂层之表面的表面粗度(Ra)为10~40nm，且前述光学薄膜用黏着剂层之雾度(haze)为1%以下。

9. 发明专利

TW201314282A 黏著型光學薄膜、其製造方法及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：黏着型光学薄膜、其制造方法及影像显示设备
公开(公告)号：TW201314282A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101146712
申请日：2011-08-11
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI , 木村智之 , KIMURA, TOMOYUKI , 佐竹正之 , SATAKE, MASAYUKI , 後藤周作 , GOTO, SHUSUKE , 喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 森智博 , MORI, TOMOHIRO , 上條卓史 , KAMIJO, TAKASHI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/12 , B32B37/12 , C09J7/02
CPC分类号： C09J7/026 , B05D5/10 , C09J7/385 , G02B5/3025 , G02B5/3033 , Y10T156/10 , Y10T428/1059
摘要：本發明之黏著型光學薄膜具有光學薄膜與設置在前述光學薄膜之黏著劑層，前述黏著劑層之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。該黏著型光學薄膜可減低基於黏著劑層之可視性之不均勻問題。
简体摘要：本发明之黏着型光学薄膜具有光学薄膜与设置在前述光学薄膜之黏着剂层，前述黏着剂层之厚度(μm)标准偏差值在0.12μm以下。该黏着型光学薄膜可减低基于黏着剂层之可视性之不均匀问题。

10. 发明专利

TWI640587B 附黏著劑層的偏光薄膜及影像顯示裝置有权
简体标题：附黏着剂层的偏光薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TWI640587B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW103108729
申请日：2014-03-12
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：秋月伸介 , AKIZUKI, SHINSUKE , 保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J11/06 , C09J133/06 , C09K15/04 , G02B5/30 , G02F1/1335

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