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1. 发明专利

TW201300474A 光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜用黏着剂组成物、光学薄膜用黏着剂层、黏着型光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201300474A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW100117187
申请日：2011-05-17
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 佐竹正之 , SATAKE, MASAYUKI , 岡田研一 , OKADA, KENICHI , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 森智博 , MORI, TOMOHIRO , 上條卓史 , KAMIJO, TAKASHI
IPC分类号： C09J133/08 , C09J133/14 , C09J7/02 , G02B5/30
CPC分类号： C08F265/06 , C08F220/18 , C08F2220/1808 , C09J151/06 , G02F2202/28 , Y10T428/265 , Y10T428/2848 , Y10T428/2891 , C08F2/22 , C08F220/06 , C08F230/08 , C08F230/02
摘要：本發明之光學薄膜用水分散型黏著劑組成物係含有核殼構造的乳膠，該核殼構造的乳膠係玻璃轉移溫度為-55℃以上且0℃以下的(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及玻璃轉移溫度為0℃以上且180℃以下的(甲基)丙烯酸系共聚物(B)，在同一乳膠粒子內，任一方的共聚物係作為核層而另一方的共聚物係作為殼層而存在，而且前述共聚物(A)及共聚物(B)的至少一方係將含羧基的單體作為單體單元而含有，前述聚合物(A)與共聚物(B)的玻璃轉移溫度之差為50℃以上，且(A)/(B)=50～90/10～50(重量比率)的範圍。本發明的光學薄膜用水分散型黏著劑組成物係能夠形成黏著劑層，該黏著劑層能夠抑制在加濕環境下的剝落及從高溫加濕環境下取出至常溫下而長時間保存時所產生的經時剝落。
简体摘要：本发明之光学薄膜用水分散型黏着剂组成物系含有核壳构造的乳胶，该核壳构造的乳胶系玻璃转移温度为-55℃以上且0℃以下的(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及玻璃转移温度为0℃以上且180℃以下的(甲基)丙烯酸系共聚物(B)，在同一乳胶粒子内，任一方的共聚物系作为核层而另一方的共聚物系作为壳层而存在，而且前述共聚物(A)及共聚物(B)的至少一方系将含羧基的单体作为单体单元而含有，前述聚合物(A)与共聚物(B)的玻璃转移温度之差为50℃以上，且(A)/(B)=50～90/10～50(重量比率)的范围。本发明的光学薄膜用水分散型黏着剂组成物系能够形成黏着剂层，该黏着剂层能够抑制在加湿环境下的剥落及从高温加湿环境下取出至常温下而长时间保存时所产生的经时剥落。

2. 发明专利

TWI529234B 光學薄膜用黏著劑層、附有黏著劑層之光學薄膜、影像顯示裝置及光學薄膜之剝離方法有权
简体标题：光学薄膜用黏着剂层、附有黏着剂层之光学薄膜、影像显示设备及光学薄膜之剥离方法
公开(公告)号：TWI529234B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW100143110
申请日：2011-11-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI , 佐竹正之 , SATAKE, MASAYUKI , 岡田研一 , OKADA, KENICHI , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/04 , G02B5/30
CPC分类号： C09J133/08 , B32B38/10 , C08K3/36 , C08L33/02 , C08L2201/54 , C09D133/08 , C09J7/00 , C09J7/10 , C09J7/385 , C09J133/04 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2205/102 , C09J2433/00 , G02F1/1335 , G02F1/133528 , G02F2202/28 , Y10T156/11 , Y10T428/2891

3. 发明专利

TW201910460A 撓性影像顯示裝置用積層體及撓性影像顯示裝置审中-公开
简体标题：挠性影像显示设备用积层体及挠性影像显示设备
公开(公告)号：TW201910460A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126326
申请日：2018-07-30
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI
IPC分类号： C09J7/20 , G02B5/30 , H05B33/02 , H01L51/50
摘要：本發明課題之目的在於提供一種撓性影像顯示裝置用積層體、及配置有前述撓性影像顯示裝置用積層體之撓性影像顯示裝置，該撓性影像顯示裝置用積層體藉由使用至少含有偏光膜之光學薄膜與具有特定模數之黏著劑層，則即使暴於常溫或高溫環境下時，面對反覆撓曲亦不會發生剝落或裂斷，從而具有優異耐撓曲性及密著性。其解決手段係一種撓性影像顯示裝置用積層體，其特徵在於：包含黏著劑層與至少含有偏光膜之光學薄膜，並且前述黏著劑層之100%模數的應力為0.01~0.1N/mm2，且前述黏著劑層之500%模數的應力為0.05~0.2N/mm2。
简体摘要：本发明课题之目的在于提供一种挠性影像显示设备用积层体、及配置有前述挠性影像显示设备用积层体之挠性影像显示设备，该挠性影像显示设备用积层体借由使用至少含有偏光膜之光学薄膜与具有特定模数之黏着剂层，则即使暴于常温或高温环境下时，面对反复挠曲亦不会发生剥落或裂断，从而具有优异耐挠曲性及密着性。其解决手段系一种挠性影像显示设备用积层体，其特征在于：包含黏着剂层与至少含有偏光膜之光学薄膜，并且前述黏着剂层之100%模数的应力为0.01~0.1N/mm2，且前述黏着剂层之500%模数的应力为0.05~0.2N/mm2。

4. 发明专利

TWI585173B 光學膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置有权
简体标题：光学膜用黏着剂层、附黏着剂层之光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TWI585173B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102115309
申请日：2013-04-29
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J151/06 , C09J7/02 , G02B5/30 , C09J9/00
CPC分类号： C09J133/08 , C08F265/06 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J151/003 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , Y10T428/254 , C08F2220/1825 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2230/085 , C08F220/18 , C08F230/08

5. 发明专利

TW201350553A 光學膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学膜用黏着剂层、附黏着剂层之光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TW201350553A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102115309
申请日：2013-04-29
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J151/06 , C09J7/02 , G02B5/30 , C09J9/00
CPC分类号： C09J133/08 , C08F265/06 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J151/003 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , Y10T428/254 , C08F2220/1825 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2230/085 , C08F220/18 , C08F230/08
摘要：本發明之目的在於提供一種難以發生消偏光、且二次加工性、再利用性優異之光學膜用黏著劑層。本發明之光學膜用黏著劑層之特徵在於：其係由水分散型黏著劑組合物形成者，且上述水分散型黏著劑組合物含有如下核殼結構之乳液粒子，該核殼結構之乳液粒子中，係於同一乳液粒子內甲基丙烯酸系共聚物(B)作為核層、(甲基)丙烯酸系共聚物(A)作為殼層而存在，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之單體作為單體單元，且玻璃轉移溫度(其中，玻璃轉移溫度係依據單體單元中之單官能單體而計算)為-55℃以上且未達0℃，上述甲基丙烯酸系共聚物(B)含有甲基丙烯酸烷基酯及含羧基之單體作為單體單元，且上述甲基丙烯酸烷基酯之單體單元之含量為甲基丙烯酸系共聚物(B)所含之總單體單元之68~82重量%，且玻璃轉移溫度為0℃以上且180℃以下，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度與甲基丙烯酸系共聚物(B)之玻璃轉移溫度的差為50℃以上，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與甲基丙烯酸系共聚物(B)之混合比率為(A)/(B)=50~90/10~50(固形物成分重量比率)；且上述水分散型黏著劑組合物之乳液粒子之數量平均粒徑為10~100 nm。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种难以发生消偏光、且二次加工性、再利用性优异之光学膜用黏着剂层。本发明之光学膜用黏着剂层之特征在于：其系由水分散型黏着剂组合物形成者，且上述水分散型黏着剂组合物含有如下核壳结构之乳液粒子，该核壳结构之乳液粒子中，系于同一乳液粒子内甲基丙烯酸系共聚物(B)作为核层、(甲基)丙烯酸系共聚物(A)作为壳层而存在，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之单体作为单体单元，且玻璃转移温度(其中，玻璃转移温度系依据单体单元中之单官能单体而计算)为-55℃以上且未达0℃，上述甲基丙烯酸系共聚物(B)含有甲基丙烯酸烷基酯及含羧基之单体作为单体单元，且上述甲基丙烯酸烷基酯之单体单元之含量为甲基丙烯酸系共聚物(B)所含之总单体单元之68~82重量%，且玻璃转移温度为0℃以上且180℃以下，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃转移温度与甲基丙烯酸系共聚物(B)之玻璃转移温度的差为50℃以上，上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)与甲基丙烯酸系共聚物(B)之混合比率为(A)/(B)=50~90/10~50(固形物成分重量比率)；且上述水分散型黏着剂组合物之乳液粒子之数量平均粒径为10~100 nm。

6. 发明专利

TW201323566A 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜用黏着剂层之制造方法、光学薄膜用黏着剂层、黏着型光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201323566A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101134710
申请日：2012-09-21
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 乾州弘 , INUI, KUNIHIRO , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE , 細川敏嗣 , HOSOKAWA, TOSHITSUGU , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/08
CPC分类号： C09J7/0217 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J2201/622 , Y10T428/1476
摘要：本發明係提供一種不會發生塗佈速度低減等生產性減損，且可減低視認性問題之光學薄膜用黏著劑層之製造方法。本發明係一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，包含有將含有水分散液之水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)以及將經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)，而該水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，該製造方法中，前述水分散型黏著劑在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s，形成於前述脫模薄膜上之前述光學薄膜用黏著劑層之表面的表面粗度(Ra)為10~40nm，且前述光學薄膜用黏著劑層之霧度(haze)為1%以下。
简体摘要：本发明系提供一种不会发生涂布速度低减等生产性减损，且可减低视认性问题之光学薄膜用黏着剂层之制造方法。本发明系一种光学薄膜用黏着剂层之制造方法，包含有将含有水分散液之水分散型黏着剂涂布于脱模薄膜之步骤(1)以及将经涂布之水分散型黏着剂干燥之步骤(2)，而该水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，该制造方法中，前述水分散型黏着剂在剪力速度4000(1/s)下之黏度为0.01~0.1Pa．s，形成于前述脱模薄膜上之前述光学薄膜用黏着剂层之表面的表面粗度(Ra)为10~40nm，且前述光学薄膜用黏着剂层之雾度(haze)为1%以下。

7. 发明专利

TW201911567A 撓性影像顯示裝置用積層體、及撓性影像顯示裝置审中-公开
简体标题：挠性影像显示设备用积层体、及挠性影像显示设备
公开(公告)号：TW201911567A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126327
申请日：2018-07-30
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/54 , C09J133/10
摘要：本發明課題之目的在於提供一種撓性影像顯示裝置用積層體、及配置有前述撓性影像顯示裝置用積層體的撓性影像顯示裝置，本發明之撓性影像顯示裝置用積層體包含黏著劑層與至少含有偏光膜之光學薄膜，且將前述積層體彎折180°後再使之回復平坦後所殘存之彎折角度在特定範圍內，因此面對反覆撓曲亦不會剝落及斷裂，從而具有優異耐撓曲性及密著性。其解決手段為一種撓性影像顯示裝置用積層體，其特徵在於：包含黏著劑層與至少含有偏光膜之光學薄膜，且將前述積層體彎折180°後再使之回復平坦後所殘存之彎折角度為0°~60°。
简体摘要：本发明课题之目的在于提供一种挠性影像显示设备用积层体、及配置有前述挠性影像显示设备用积层体的挠性影像显示设备，本发明之挠性影像显示设备用积层体包含黏着剂层与至少含有偏光膜之光学薄膜，且将前述积层体弯折180°后再使之回复平坦后所残存之弯折角度在特定范围内，因此面对反复挠曲亦不会剥落及断裂，从而具有优异耐挠曲性及密着性。其解决手段为一种挠性影像显示设备用积层体，其特征在于：包含黏着剂层与至少含有偏光膜之光学薄膜，且将前述积层体弯折180°后再使之回复平坦后所残存之弯折角度为0°~60°。

8. 发明专利

TW201807122A 硬化性樹脂組合物、偏光膜及其製造方法、光學膜與圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：硬化性树脂组合物、偏光膜及其制造方法、光学膜与图像显示设备
公开(公告)号：TW201807122A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106113039
申请日：2017-04-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下川佳世 , SHIMOKAWA, KAYO , 浅井量子 , ASAI, RYOKO , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 伊藤嘉章 , ITO, YOSHIAKI , 山崎達也 , YAMASAKI, TATSUYA
IPC分类号： C09J4/02 , C09J11/06 , C09J7/02 , B32B27/30 , B32B7/12 , B32B37/12 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： C09J135/02 , B32B7/12 , B32B27/306 , B32B37/14 , B32B2037/1253 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2310/08 , B32B2457/20 , C09J4/00 , C09J5/06 , C09J7/30 , C09J2203/318 , C09J2429/006 , C09J2433/00 , G02B1/14 , G02B5/3033 , C08F220/56
摘要：本發明係一種硬化性樹脂組合物，其係用以於基材(C)之至少一面形成接著劑層者，且含有下述通式(1)：所表示之化合物(A)(式(1)中，X為包含反應性基之官能基，R1及R2各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)及接著輔助化合物(B)，於將化合物(A)之HSP值設為HSP(A)、將接著輔助化合物(B)之HSP值設為HSP(B)、且將基材(C)之HSP值設為HSP(C)時，滿足下述式(X)及(Y)：-10≦HSP(A)－HSP(B)≦10(X)-10≦HSP(C)－HSP(B)≦10(Y)。
简体摘要：本发明系一种硬化性树脂组合物，其系用以于基材(C)之至少一面形成接着剂层者，且含有下述通式(1)：所表示之化合物(A)(式(1)中，X为包含反应性基之官能基，R1及R2各自独立地表示氢原子、可具有取代基之脂肪族烃基、芳基或杂环基)及接着辅助化合物(B)，于将化合物(A)之HSP值设为HSP(A)、将接着辅助化合物(B)之HSP值设为HSP(B)、且将基材(C)之HSP值设为HSP(C)时，满足下述式(X)及(Y)：-10≦HSP(A)－HSP(B)≦10(X)-10≦HSP(C)－HSP(B)≦10(Y)。

10. 发明专利

TWI516565B 黏著劑層、黏著薄膜及光學裝置有权
简体标题：黏着剂层、黏着薄膜及光学设备
公开(公告)号：TWI516565B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100121620
申请日：2011-06-21
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：下川佳世 , SHIMOKAWA, KAYO , 岡田研一 , OKADA, KENICHI , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA , 木谷義明 , KITANI, YOSHIAKI , 下栗大器 , SHIMOKURI, TAIKI , 卷幡陽介 , MAKIHATA, YOUSUKE
IPC分类号： C09J7/02 , C09J133/00 , G02B5/30
CPC分类号： C09J7/0207 , C08L2201/50 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J133/04 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , G02B5/00 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612

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