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1. 发明专利

TW201822277A 雷射退火裝置审中-公开
简体标题：激光退火设备
公开(公告)号：TW201822277A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106138626
申请日：2017-11-08
申请人：日商V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：新井敏成 , ARAI, TOSHINARI , 松本隆徳 , MATSUMOTO, TAKANORI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/268
摘要：［課題］本發明可將照射雷射之區域精確地設為惰性氣體環境。［解決手段］於板狀之搬送載台11上，分別形成有複數個吹出孔及吸引孔，且鄰接於搬送載台11之上表面11a而與上表面11a大致平行地設有板狀構件。自吹出孔中的位於第1區域中之吹出孔吹出惰性氣體，並自吹出孔中的位於第1區域以外之第2區域中之吹出孔吹出空氣，該第1區域包含於俯視時與板狀構件重合之區域。又，板狀構件係以於俯視時包含雷射光照射至基板W之區域之大小而形成。
简体摘要：［课题］本发明可将照射激光之区域精确地设为惰性气体环境。［解决手段］于板状之搬送载台11上，分别形成有复数个吹出孔及吸引孔，且邻接于搬送载台11之上表面11a而与上表面11a大致平行地设有板状构件。自吹出孔中的位于第1区域中之吹出孔吹出惰性气体，并自吹出孔中的位于第1区域以外之第2区域中之吹出孔吹出空气，该第1区域包含于俯视时与板状构件重合之区域。又，板状构件系以于俯视时包含激光光照射至基板W之区域之大小而形成。

2. 发明专利

TW201832857A 雷射照射裝置及薄膜電晶體的製造方法审中-公开
简体标题：激光照射设备及薄膜晶体管的制造方法
公开(公告)号：TW201832857A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106142010
申请日：2017-11-30
申请人：日商V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 新井敏成 , ARAI, TOSHINARI , 畑中誠 , HATANAKA, MAKOTO , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： B23K26/062 , H01L21/268 , H01L21/336
摘要：在包含在玻璃基板中的複數個薄膜電晶體的特性之中，有產生偏差的可能性。本發明之雷射照射裝置中，包含：光源，用以產生雷射光；及投射透鏡，用以使雷射光照射在沈積在玻璃基板上的複數個薄膜電晶體的各個之上的非晶形矽薄膜的指定區域；及投影遮罩圖案，設置在投射透鏡之上方，包含複數個遮罩，其設定了雷射光所穿透的比率的穿透率，其中投射透鏡透過包含在投影遮罩圖案中的複數個遮罩的各個而對在指定的方向上移動的玻璃基板上的複數個薄膜電晶體照射雷射光，及包含在投影遮罩圖案中的複數個遮罩的各個係設定複數個穿透率之其中一者。
简体摘要：在包含在玻璃基板中的复数个薄膜晶体管的特性之中，有产生偏差的可能性。本发明之激光照射设备中，包含：光源，用以产生激光光；及投射透镜，用以使激光光照射在沉积在玻璃基板上的复数个薄膜晶体管的各个之上的非晶形硅薄膜的指定区域；及投影遮罩图案，设置在投射透镜之上方，包含复数个遮罩，其设置了激光光所穿透的比率的穿透率，其中投射透镜透过包含在投影遮罩图案中的复数个遮罩的各个而对在指定的方向上移动的玻璃基板上的复数个薄膜晶体管照射激光光，及包含在投影遮罩图案中的复数个遮罩的各个系设置复数个穿透率之其中一者。

3. 发明专利

TW201830105A 偏振光照射裝置及偏振光照射方法审中-公开
简体标题：偏振光照射设备及偏振光照射方法
公开(公告)号：TW201830105A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106143959
申请日：2017-12-14
申请人：日商V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：新井敏成 , ARAI, TOSHINARI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： G02F1/1335
摘要：本發明可藉由光配向處理而生成液晶分子之預傾角小之配向膜。自光源出射並透過遮罩上形成之透光區域之偏振光被照射至載置於載台之曝光對象物。偏振光係自相對於與載台之上表面大致正交之方向而傾斜大致50度至大致70度之方向照射向曝光對象物。
简体摘要：本发明可借由光配向处理而生成液晶分子之预倾角小之配向膜。自光源出射并透过遮罩上形成之透光区域之偏振光被照射至载置于载台之曝光对象物。偏振光系自相对于与载台之上表面大致正交之方向而倾斜大致50度至大致70度之方向照射向曝光对象物。

4. 发明专利

TW201437740A 校正用光罩及校正方法审中-公开
公开(公告)号：TW201437740A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102110173
申请日：2013-03-22
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：野村義昭 , NOMURA, YOSHIAKI , 松本隆德 , MATSUMOTO, TAKANORI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20
摘要：本發明可容易測定調整曝光裝置曝光位置之影像感測器的分解度。使光穿透校正用光罩，接收除遮蔽線群外所穿透之光，從該所接收之光的上方轉換為影像資訊，基於影像資訊測定分解度資訊，前述校正用光罩係具備：光罩部，其係具備用於取得影像的影像取得窗口；玻璃面部，其係使用接著層接著於光罩部下方側且影像取得窗口附近，由玻璃材料所構成；及遮蔽線群，其係在影像取得窗口及玻璃面部上分別設有由遮蔽材料所構成的遮蔽線。
简体摘要：本发明可容易测定调整曝光设备曝光位置之影像传感器的分解度。使光穿透校正用光罩，接收除屏蔽线群外所穿透之光，从该所接收之光的上方转换为影像信息，基于影像信息测定分解度信息，前述校正用光罩系具备：光罩部，其系具备用于取得影像的影像取得窗口；玻璃面部，其系使用接着层接着于光罩部下方侧且影像取得窗口附近，由玻璃材料所构成；及屏蔽线群，其系在影像取得窗口及玻璃面部上分别设有由屏蔽材料所构成的屏蔽线。

5. 发明专利

TW201317706A 光罩审中-公开
公开(公告)号：TW201317706A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101127908
申请日：2012-08-03
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：野村義昭 , NOMURA, YOSHIAKI , 松本隆德 , MATSUMOTO, TAKANORI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： G03F1/38 , G03F7/20
摘要：本發明係構成為含有：於被曝光基板之搬送方向的垂直方向以一定配列間距所形成之遮罩圖案、形成於搬送方向之上游側端部的第1觀測窗、形成於下游側端部之第2觀測窗、以及於第1觀測窗及第2觀測窗具有各自遮罩圖案之配列間距整數倍的相等間隔而設置於該垂直方向之第1對位標記及第2對位標記，第2對位標記係相對於第1對位標記位移有遮罩圖案之配列間距之整數倍尺寸而形成於該垂直方向。
简体摘要：本发明系构成为含有：于被曝光基板之搬送方向的垂直方向以一定配列间距所形成之遮罩图案、形成于搬送方向之上游侧端部的第1观测窗、形成于下游侧端部之第2观测窗、以及于第1观测窗及第2观测窗具有各自遮罩图案之配列间距整数倍的相等间隔而设置于该垂直方向之第1对位标记及第2对位标记，第2对位标记系相对于第1对位标记位移有遮罩图案之配列间距之整数倍尺寸而形成于该垂直方向。

6. 发明专利

TWI578096B 校正用光罩及校正方法有权
公开(公告)号：TWI578096B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW102110173
申请日：2013-03-22
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：野村義昭 , NOMURA, YOSHIAKI , 松本隆德 , MATSUMOTO, TAKANORI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20

7. 发明专利

TWI528104B 光罩有权
公开(公告)号：TWI528104B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101127908
申请日：2012-08-03
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：野村義昭 , NOMURA, YOSHIAKI , 松本隆德 , MATSUMOTO, TAKANORI , 竹下琢郎 , TAKESHITA, TAKURO
IPC分类号： G03F1/38 , G03F7/20

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