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1. 发明专利

TW201831319A 層積膜、電子裝置用構件以及電子裝置审中-公开
简体标题：层积膜、电子设备用构件以及电子设备
公开(公告)号：TW201831319A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106136684
申请日：2017-10-25
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：永縄智史 , NAGANAWA, SATOSHI , 大橋健寬 , OHASHI, TAKEHIRO , 岩屋涉 , IWAYA, WATARU
IPC分类号： B32B7/02 , C08J7/06 , H01L29/786
摘要：本發明係一種層積膜，其特徵在於：其係至少具有：基材、及氣體阻隔層的層積膜，以下式(1)計算，在上述氣體阻隔層表面產生的拉伸應變(ε)在0.8%以下；由該層積膜組成的電子裝置用構件；以及具有該電子裝置用構件的電子裝置。式(1)中，T係在層積膜的厚度方向，從離氣體阻隔層最遠的表面到氣體阻隔層的下面的距離[m]，λ係表示從層積膜的上述表面到層積膜中的不會發生應力的假想面(α)的距離。根據本發明，可提供氣體阻隔性及撓曲性優良的層積膜、由該層積膜組成的電子裝置用構件、及具有該電子裝置用構件的電子裝置。 ε=(T-λ)/{(3×10-3)+λ}×100 (1)
简体摘要：本发明系一种层积膜，其特征在于：其系至少具有：基材、及气体阻隔层的层积膜，以下式(1)计算，在上述气体阻隔层表面产生的拉伸应变(ε)在0.8%以下；由该层积膜组成的电子设备用构件；以及具有该电子设备用构件的电子设备。式(1)中，T系在层积膜的厚度方向，从离气体阻隔层最远的表面到气体阻隔层的下面的距离[m]，λ系表示从层积膜的上述表面到层积膜中的不会发生应力的假想面(α)的距离。根据本发明，可提供气体阻隔性及挠曲性优良的层积膜、由该层积膜组成的电子设备用构件、及具有该电子设备用构件的电子设备。 ε=(T-λ)/{(3×10-3)+λ}×100 (1)

2. 发明专利

TWI690421B 氣體阻隔性層積體、電子裝置用構件及電子裝置有权
简体标题：气体阻隔性层积体、电子设备用构件及电子设备
公开(公告)号：TWI690421B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW105109647
申请日：2016-03-28
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：大橋健寬 , OHASHI, TAKEHIRO , 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUUTA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00

3. 发明专利

TW201902692A 阻氣性積層體审中-公开
简体标题：阻气性积层体
公开(公告)号：TW201902692A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107110486
申请日：2018-03-27
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：古屋拓己 , FURUYA, TAKUMI , 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 大橋健寬 , OHASHI, TAKEHIRO
IPC分类号： B32B9/04 , B32B27/00 , B32B7/06 , B32B7/12
摘要：本發明之阻氣性積層體，具有：基材層；在該基材層的其中一面(A)上直接或介隔其他層積層而成的阻氣層；在該阻氣層上直接積層而成的保護膜(α)；在和該基材層之面(A)為相反的面(B)上直接或介隔其他層積層而成的保護膜(β)；該阻氣層含有特定的無機化合物，將該保護膜(α)及保護膜(β)於特定條件剝離時的黏著力各為特定值以下。依本發明，提供阻氣性積層體，能不對於露出面的外觀造成不利影響而將保護膜予以剝離去除，而且即使將保護膜剝離去除，殘留的積層體中仍維持起初的水蒸氣遮斷性。
简体摘要：本发明之阻气性积层体，具有：基材层；在该基材层的其中一面(A)上直接或介隔其他层积层而成的阻气层；在该阻气层上直接积层而成的保护膜(α)；在和该基材层之面(A)为相反的面(B)上直接或介隔其他层积层而成的保护膜(β)；该阻气层含有特定的无机化合物，将该保护膜(α)及保护膜(β)于特定条件剥离时的黏着力各为特定值以下。依本发明，提供阻气性积层体，能不对于露出面的外观造成不利影响而将保护膜予以剥离去除，而且即使将保护膜剥离去除，残留的积层体中仍维持起初的水蒸气遮断性。

4. 发明专利

TW201707953A 氣體阻隔性層積體、電子裝置用構件及電子裝置审中-公开
简体标题：气体阻隔性层积体、电子设备用构件及电子设备
公开(公告)号：TW201707953A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105109647
申请日：2016-03-28
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：大橋健寬 , OHASHI, TAKEHIRO , 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUUTA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00
CPC分类号： B65D43/02 , B32B7/02 , B32B27/00 , B32B27/283 , C08J7/045 , C08J7/123 , C08J2483/06 , C08J2483/08 , C08J2483/16 , C23C14/48 , H01L51/5256
摘要：本發明係一種氣體阻隔性層積體，具有：基材；及氣體阻隔性單元，其特徵在於：上述氣體阻隔性單元係由：配置在上述基材側的氣體阻隔層(1)；及配置在上述氣體阻隔層(1)的基材側的相反側的面側的氣體阻隔層(2)所組成，且上述氣體阻隔性單元的厚度，在170nm至10μm；由該氣體阻隔性層積體組成的電子裝置用構件；及包括該電子裝置用構件的電子裝置。根據本發明，可提供氣體阻隔性優良，且無色透明性優良的氣體阻隔性層積體、由該氣體阻隔性層積體組成的電子裝置用構件、及以包括該電子裝置用構件的電子裝置。
简体摘要：本发明系一种气体阻隔性层积体，具有：基材；及气体阻隔性单元，其特征在于：上述气体阻隔性单元系由：配置在上述基材侧的气体阻隔层(1)；及配置在上述气体阻隔层(1)的基材侧的相反侧的面侧的气体阻隔层(2)所组成，且上述气体阻隔性单元的厚度，在170nm至10μm；由该气体阻隔性层积体组成的电子设备用构件；及包括该电子设备用构件的电子设备。根据本发明，可提供气体阻隔性优良，且无色透明性优良的气体阻隔性层积体、由该气体阻隔性层积体组成的电子设备用构件、及以包括该电子设备用构件的电子设备。

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