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1. 发明专利

TWI638245B 光處理裝置及光處理方法有权
简体标题：光处理设备及光处理方法
公开(公告)号：TWI638245B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW105102888
申请日：2016-01-29
申请人：日商牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：丸山俊 , MARUYAMA, SHUN , 堀部大輝 , HORIBE, HIROKI , 羽生智行 , HABU, TOMOYUKI , 遠藤真一 , ENDO, SHINICHI , 饗庭彰 , AIBA, AKIRA , 三浦真毅 , MIURA, MASAKI
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/67

2. 发明专利

TWI408722B 準分子燈有权
简体标题：准分子灯
公开(公告)号：TWI408722B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW096126193
申请日：2007-07-18
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：遠藤真一 , ENDO, SHINICHI , 竹添法隆 , TAKEZOE, NORITAKA , 川口真孝 , KAWAGUCHI, MASATAKA , 菱沼宣是 , HISHINUMA, NOBUYUKI
IPC分类号： H01J65/00

3. 发明专利

TWI390552B 準分子燈裝置有权
简体标题：准分子灯设备
公开(公告)号：TWI390552B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW096126192
申请日：2007-07-18
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：菱沼宣是 , HISHINUMA, NOBUYUKI , 遠藤真一 , ENDO, SHINICHI
IPC分类号： G21K5/00 , F21S2/00 , B08B7/00

4. 发明专利

TWI575559B 光照射裝置有权
简体标题：光照射设备
公开(公告)号：TWI575559B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW100149232
申请日：2011-12-28
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：遠藤真一 , ENDO, SHINICHI , 山森賢治 , YAMAMORI, KENJI , 石原肇 , ISHIHARA, HAJIME , 川口真孝 , KAWAGUCHI, MASATAKA
IPC分类号： H01J65/04 , H01J61/35 , H01J61/40

5. 发明专利

TW201628476A 除膠渣處理裝置审中-公开
简体标题：除胶渣处理设备
公开(公告)号：TW201628476A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW105112824
申请日：2015-04-16
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：廣瀬賢一 , HIROSE, KENICHI , 堀部大輝 , HORIBE, HIROKI , 羽生智行 , HABU, TOMOYUKI , 遠藤真一 , ENDO, SHINICHI
IPC分类号： H05K3/42 , H05K3/00
摘要：提供即使是起因於無機物質及有機物質之任一的膠渣，也可確實去除，不需要使用需要廢液處理之藥品的除膠渣處理裝置。一種除膠渣處理裝置，係層積由含有充填物之樹脂所成的絕緣層與導電層，並形成貫通前述絕緣層的貫通孔之配線基板材料的除膠渣處理裝置，其特徵為具有：紫外線照射處理部，係對於前述配線基板材料，照射波長220nm以下的紫外線；及物理性振動處理部，係對藉由該紫外線照射處理部進行紫外線照射處理的配線基板材料賦予物理性振動。
简体摘要：提供即使是起因于无机物质及有机物质之任一的胶渣，也可确实去除，不需要使用需要废液处理之药品的除胶渣处理设备。一种除胶渣处理设备，系层积由含有充填物之树脂所成的绝缘层与导电层，并形成贯通前述绝缘层的贯通孔之配线基板材料的除胶渣处理设备，其特征为具有：紫外线照射处理部，系对于前述配线基板材料，照射波长220nm以下的紫外线；及物理性振动处理部，系对借由该紫外线照射处理部进行紫外线照射处理的配线基板材料赋予物理性振动。

6. 发明专利

TWI445043B 準分子燈裝置有权
简体标题：准分子灯设备
公开(公告)号：TWI445043B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW098131927
申请日：2009-09-22
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：遠藤真一 , ENDO, SHINICHI
IPC分类号： H01J61/30 , B08B7/00 , H01L21/30

7. 发明专利

TW201337398A 液晶面板處理用水槽及光處理裝置审中-公开
简体标题：液晶皮肤处理用水槽及光处理设备
公开(公告)号：TW201337398A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW102100700
申请日：2013-01-09
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：遠藤真一 , ENDO, SHINICHI
IPC分类号： G02F1/1334 , G02F1/1337
摘要： [課題]提供於將含有樹脂液晶面板配置在水中，並使光線照射前述液晶面板的液晶面板處理用水槽及光處理裝置中，使將液晶面板浸漬在水中的作業簡略化，不使水槽內的液體起波動，不使氣泡殘留在液晶面板表面，且使光源燈之構造簡單化的構造。[解決手段]特徵為具備在前述水槽內垂直配置前述液晶面板的面板保持具；於前述水槽的側壁，在與前述液晶面板之被照射面對向的位置，設置有照射光透射窗；進而，特徵為對向於前述照射光透射窗，設置光源。
简体摘要： [课题]提供于将含有树脂液晶皮肤配置在水中，并使光线照射前述液晶皮肤的液晶皮肤处理用水槽及光处理设备中，使将液晶皮肤浸渍在水中的作业简略化，不使水槽内的液体起波动，不使气泡残留在液晶皮肤表面，且使光源灯之构造简单化的构造。[解决手段]特征为具备在前述水槽内垂直配置前述液晶皮肤的皮肤保持具；于前述水槽的侧壁，在与前述液晶皮肤之被照射面对向的位置，设置有照射光透射窗；进而，特征为对向于前述照射光透射窗，设置光源。

8. 发明专利

TWI407484B 準分子燈有权
简体标题：准分子灯
公开(公告)号：TWI407484B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW099114042
申请日：2010-05-03
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：遠藤真一 , ENDO, SHINICHI , 竹添法隆 , TAKEZOE, NORITAKA
IPC分类号： H01J65/00

9. 发明专利

TWI607680B 除膠渣處理裝置有权
简体标题：除胶渣处理设备
公开(公告)号：TWI607680B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105112824
申请日：2015-04-16
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：廣瀬賢一 , HIROSE, KENICHI , 堀部大輝 , HORIBE, HIROKI , 羽生智行 , HABU, TOMOYUKI , 遠藤真一 , ENDO, SHINICHI
IPC分类号： H05K3/42 , H05K3/00

10. 发明专利

TWI595818B 除膠渣處理裝置有权
简体标题：除胶渣处理设备
公开(公告)号：TWI595818B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW104112394
申请日：2015-04-17
申请人：牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：竹添法 , TAKEZOE, NORITAKA , 遠藤真一 , ENDO, SHINICHI , 羽生智行 , HABU, TOMOYUKI
IPC分类号： H05K3/26 , B08B5/00 , H01J65/00
CPC分类号： H05K3/0055 , B08B5/00 , B08B7/0057 , B08B7/0071 , H05K3/26 , H05K2203/087 , H05K2203/1509

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