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1. 发明专利

TWI643922B 接著劑組成物及接著薄膜有权
简体标题：接着剂组成物及接着薄膜
公开(公告)号：TWI643922B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106108756
申请日：2013-09-25
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 鈴木康夫 , SUZUKI, YASUO
IPC分类号： C09J125/10 , C09J133/06 , C09J153/02 , C09J7/00

2. 发明专利

TWI637985B 複合層材料、膜製造方法、及層合體製造方法有权
简体标题：复合层材料、膜制造方法、及层合体制造方法
公开(公告)号：TWI637985B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW103123634
申请日：2014-07-09
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 藤村悟史 , FUJIMURA, SATOSHI , 藤川茂紀 , FUJIKAWA, SHIGENORI
IPC分类号： C08J5/18 , B32B27/06 , B32B27/18 , B32B38/10 , B32B37/00

3. 发明专利

TW201835206A 表面處理液及表面處理方法审中-公开
简体标题：表面处理液及表面处理方法
公开(公告)号：TW201835206A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106143457
申请日：2017-12-12
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：先崎尊博 , SENZAKI, TAKAHIRO , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA
IPC分类号： C08L39/04 , C08L33/14 , C08L33/26 , C08L43/04 , C08L43/02
摘要：本發明之課題在於提供一種即使不含被膜形成性的樹脂，亦可對被處理體的表面進行良好的親水化或疏水化之表面處理液，以及使用該表面處理液之表面處理方法。　　本發明之解決手段如下：於含有樹脂(A)以及溶劑(C)之表面處理液中，使用以下樹脂作為樹脂(A)，該樹脂具有：含氮雜環基之官能基I，以及為官能基I以外的官能基且係選自親水性基及疏水性基之1種以上的基之官能基II；並且含有具有前述官能基I之構成單位(a1)與選自由於側鏈具有陽離子性基之構成單位(a2)，以及於側鏈具有陰離子性基之構成單位(a3)所組成之群組之1種以上的構成單位。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种即使不含被膜形成性的树脂，亦可对被处理体的表面进行良好的亲水化或疏水化之表面处理液，以及使用该表面处理液之表面处理方法。　　本发明之解决手段如下：于含有树脂(A)以及溶剂(C)之表面处理液中，使用以下树脂作为树脂(A)，该树脂具有：含氮杂环基之官能基I，以及为官能基I以外的官能基且系选自亲水性基及疏水性基之1种以上的基之官能基II；并且含有具有前述官能基I之构成单位(a1)与选自由于侧链具有阳离子性基之构成单位(a2)，以及于侧链具有阴离子性基之构成单位(a3)所组成之群组之1种以上的构成单位。

4. 发明专利

TW201731676A 積層體之製造方法、及積層體审中-公开
简体标题：积层体之制造方法、及积层体
公开(公告)号：TW201731676A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106100133
申请日：2017-01-04
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 先崎尊博 , SENZAKI, TAKAHIRO , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI
IPC分类号： B32B7/00 , B32B27/06 , H01L21/56
摘要：本發明之課題在於提供：一種積層體之製造方法，其係包含作為樹脂薄膜之平坦膜及作為多孔質體之支持膜的積層體之製造方法，其能夠不將平坦膜之材質填充至支持膜所具有之細孔中，並且不使平坦膜產生破損或皺褶而將平坦膜與支持膜積層；一種積層體，其藉由該方法較佳地製造，包含能夠使氣體透過之平坦膜，並且即便施加壓力亦不容易破裂，強度優異；一種氣體用過濾器，其包含該積層體作為分離膜；及一種分離方法，其使用該過濾器。本發明之解決手段係使包含水之剝離液接觸於形成於基板上之較薄平坦膜之後，將於單個主面具備覆蓋膜之支持膜以支持膜與平坦膜接觸之方式層壓，繼而，自基板剝離包含平坦膜、支持膜、及覆蓋膜之附覆蓋膜之積層體，並自所獲得之附覆蓋膜之積層體剝離包含平坦膜及支持膜之積層體。
简体摘要：本发明之课题在于提供：一种积层体之制造方法，其系包含作为树脂薄膜之平坦膜及作为多孔质体之支持膜的积层体之制造方法，其能够不将平坦膜之材质填充至支持膜所具有之细孔中，并且不使平坦膜产生破损或皱褶而将平坦膜与支持膜积层；一种积层体，其借由该方法较佳地制造，包含能够使气体透过之平坦膜，并且即便施加压力亦不容易破裂，强度优异；一种气体用过滤器，其包含该积层体作为分离膜；及一种分离方法，其使用该过滤器。本发明之解决手段系使包含水之剥离液接触于形成于基板上之较薄平坦膜之后，将於单个主面具备覆盖膜之支持膜以支持膜与平坦膜接触之方式层压，继而，自基板剥离包含平坦膜、支持膜、及覆盖膜之附覆盖膜之积层体，并自所获得之附覆盖膜之积层体剥离包含平坦膜及支持膜之积层体。

5. 发明专利

TWI571482B 接著劑組成物的製造方法、接著劑組成物及接著薄膜有权
简体标题：接着剂组成物的制造方法、接着剂组成物及接着薄膜
公开(公告)号：TWI571482B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW102103991
申请日：2013-02-01
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA
IPC分类号： C08J3/00 , C09J7/00

6. 发明专利

TW201412916A 接著劑組成物、接著薄膜及貼附方法审中-公开
简体标题：接着剂组成物、接着薄膜及贴附方法
公开(公告)号：TW201412916A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102128287
申请日：2013-08-07
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO
IPC分类号： C09J153/00 , C09J7/02 , C09J5/00
CPC分类号： H01L21/6836 , C09J7/387 , C09J2203/326 , H01L21/6835 , H01L2221/68318 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , H01L2221/68381 , H01L2924/0002 , Y10T428/2878 , H01L2924/00
摘要：本發明之接著劑組成物係將彈性體作為主成分之接著劑組成物，其係使用上述接著劑組成物所形成的接著層，滿足於220℃時的儲存模數(G’)為20,000Pa以上、及於220℃時的損失模數(G”)為20,000Pa以上之至少一者。
简体摘要：本发明之接着剂组成物系将弹性体作为主成分之接着剂组成物，其系使用上述接着剂组成物所形成的接着层，满足于220℃时的存储模数(G’)为20,000Pa以上、及于220℃时的损失模数(G”)为20,000Pa以上之至少一者。

7. 发明专利

TW201410832A 層合體及層合體之製造方法审中-公开
简体标题：层合体及层合体之制造方法
公开(公告)号：TW201410832A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102118643
申请日：2013-05-27
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：田村弘毅 , TAMURA, KOKI , 今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO , 宮成淳 , MIYANARI, ATSUSHI
IPC分类号： C09J7/02
摘要：本發明之課題在於對層合體進行所欲處理時，為抑制晶圓剝離，而保護分離層。其解決手段為本發明之層合體係依基板(11)、接著層(13)、因吸收光而變質之分離層(14)、支承板(12)之順序層合而成，在分離層(14)之表面且未與支承板(12)接著之面之中，更具備至少覆蓋未與接著層(13)重疊之面之保護層(15)。
简体摘要：本发明之课题在于对层合体进行所欲处理时，为抑制晶圆剥离，而保护分离层。其解决手段为本发明之层合体系依基板(11)、接着层(13)、因吸收光而变质之分离层(14)、支承板(12)之顺序层合而成，在分离层(14)之表面且未与支承板(12)接着之面之中，更具备至少覆盖未与接着层(13)重叠之面之保护层(15)。

8. 发明专利

TW201713764A 基板、構造體、構造體之製造方法、細胞之選別方法、細胞之製造方法、及分泌物之生產方法审中-公开
简体标题：基板、构造体、构造体之制造方法、细胞之选别方法、细胞之制造方法、及分泌物之生产方法
公开(公告)号：TW201713764A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105131002
申请日：2016-09-26
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 中外製藥股份有限公司 , CHUGAI SEIYAKU KABUSHIKI KAISHA
发明人：大坂享史 , OHSAKA, TAKASHI , 鈴木康夫 , SUZUKI, YASUO , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 高橋德行 , TAKAHASHI, NORIYUKI , 馬場威 , BABA, TAKESHI , 角田浩行 , TSUNODA, HIROYUKI
IPC分类号： C12M1/18 , C12M3/04 , C12N11/08 , C40B20/04
CPC分类号： C12M1/00 , C12M1/32 , C12M1/34 , C12N5/10 , C12P21/02 , C12Q1/02 , G01N33/48 , G01N37/00 , G03F7/038
摘要：本發明於一態樣中提供一種構造體、構造體之製造方法、或細胞之選別方法等。於一態樣中，本發明之構造體1係包含第一基板10、及以與上述第一基板10之一側相對向之方式配置之第二基板20者，並且上述第一基板10於上述第一基板之另一側開口，具備複數個具有可捕捉一單位細胞之大小之凹部11，且於上述凹部11之至少一部分中，具備將上述一側與上述另一側連通、且具有由上述細胞分泌出之分泌物可移動的大小之連通孔12，上述第二基板20可具備上述分泌物經由上述連通孔12移動並蓄積之蓄積部13，上述蓄積部13可與上述凹部11相對應。
简体摘要：本发明于一态样中提供一种构造体、构造体之制造方法、或细胞之选别方法等。于一态样中，本发明之构造体1系包含第一基板10、及以与上述第一基板10之一侧相对向之方式配置之第二基板20者，并且上述第一基板10于上述第一基板之另一侧开口，具备复数个具有可捕捉一单位细胞之大小之凹部11，且于上述凹部11之至少一部分中，具备将上述一侧与上述另一侧连通、且具有由上述细胞分泌出之分泌物可移动的大小之连通孔12，上述第二基板20可具备上述分泌物经由上述连通孔12移动并蓄积之蓄积部13，上述蓄积部13可与上述凹部11相对应。

9. 发明专利

TW201343728A 接著劑組成物的製造方法、接著劑組成物及接著薄膜审中-公开
简体标题：接着剂组成物的制造方法、接着剂组成物及接着薄膜
公开(公告)号：TW201343728A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102103991
申请日：2013-02-01
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO , 野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA
IPC分类号： C08J3/00 , C09J7/00
摘要：本發明提供一種使用於晶圓與該晶圓的支撐體之接著後，可藉溶劑溶解且洗淨之防止晶圓上之殘留物發生之接著劑組成物。用於使晶圓與該晶圓的支撐體接著之接著劑組成物的製造方法包含去除接著劑組成物中所含膠著防止劑之純化步驟。
简体摘要：本发明提供一种使用于晶圆与该晶圆的支撑体之接着后，可藉溶剂溶解且洗净之防止晶圆上之残留物发生之接着剂组成物。用于使晶圆与该晶圆的支撑体接着之接着剂组成物的制造方法包含去除接着剂组成物中所含胶着防止剂之纯化步骤。

10. 发明专利

TWI609061B 接著劑組成物、接著薄膜及貼附方法有权
简体标题：接着剂组成物、接着薄膜及贴附方法
公开(公告)号：TWI609061B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW102128287
申请日：2013-08-07
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野口拓也 , NOGUCHI, TAKUYA , 緒方寿幸 , OGATA, TOSHIYUKI , 久保安通史 , KUBO, ATSUSHI , 今井洋文 , IMAI, HIROFUMI , 吉岡孝広 , YOSHIOKA, TAKAHIRO
IPC分类号： C09J153/00 , C09J7/02 , C09J5/00
CPC分类号： H01L21/6836 , C09J7/387 , C09J2203/326 , H01L21/6835 , H01L2221/68318 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , H01L2221/68381 , H01L2924/0002 , Y10T428/2878 , H01L2924/00

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