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1. 发明专利

TW201842612A 自轉檢測用治具、基板處理裝置及基板處理裝置之運轉方法审中-公开
简体标题：自转检测用治具、基板处理设备及基板处理设备之运转方法
公开(公告)号：TW201842612A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107106295
申请日：2018-02-26
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林健 , KOBAYASHI, TAKESHI , 加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要：本發明之課題為在使旋轉台的一面側所設置之基板的載置台一邊公轉一邊自轉時，能夠正確地檢測載置台的自轉量。其解決方法為旋轉台所設置之基板的載置台係設置有以其自轉軸為中心而旋轉之旋轉構件，並且藉由固定組件來將和該旋轉構件一同構成旋轉編碼器之編碼器本體固定在旋轉台。又，在旋轉台設置有第1控制器，該第1控制器係具備有會處理編碼器本體所檢測的檢測訊號之訊號處理部。當載置台旋轉時，旋轉構件便會旋轉，而藉由編碼器本體來檢測其旋轉角度。然後，以訊號處理部來求得例如每單位時間之旋轉角度，並傳送至外部的第2控制器且顯示於顯示部。
简体摘要：本发明之课题为在使旋转台的一面侧所设置之基板的载置台一边公转一边自转时，能够正确地检测载置台的自转量。其解决方法为旋转台所设置之基板的载置台系设置有以其自转轴为中心而旋转之旋转构件，并且借由固定组件来将和该旋转构件一同构成旋转编码器之编码器本体固定在旋转台。又，在旋转台设置有第1控制器，该第1控制器系具备有会处理编码器本体所检测的检测信号之信号处理部。当载置台旋转时，旋转构件便会旋转，而借由编码器本体来检测其旋转角度。然后，以信号处理部来求得例如每单位时间之旋转角度，并发送至外部的第2控制器且显示于显示部。

2. 发明专利

TWI694516B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI694516B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW107100736
申请日：2018-01-09
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU , 小林健 , KOBAYASHI, TAKESHI
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/44

3. 发明专利

TWI648424B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI648424B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW105128720
申请日：2016-09-06
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/02 , C23C16/458

4. 发明专利

TW201839853A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201839853A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107100736
申请日：2018-01-09
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU , 小林健 , KOBAYASHI, TAKESHI
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/44
摘要：本發明之課題為一邊使旋轉台的一面側所載置之基板(即晶圓)公轉一邊進行成膜處理時，能沿著晶圓的圓周方向來施予均勻的處理。其解決手段係在旋轉台的一面側設置會因旋轉台而公轉之載置有晶圓之載置台。又，載置台的自轉軸設置有被動齒輪，且沿著該被動齒輪的公轉軌道整周設置有構成該被動齒輪與磁性齒輪機構之驅動齒輪。由於係藉由自轉用旋轉機構來讓驅動齒輪旋轉，且藉由讓驅動齒輪的角速度與被動齒輪的公轉所致之角速度產生速度差來使載置台自轉，故可在晶圓的圓周方向上提高成膜處理的均勻性。又，可藉由驅動齒輪的角速度與被動齒輪的角速度之差值，來容易地調整被動齒輪的自轉速度。
简体摘要：本发明之课题为一边使旋转台的一面侧所载置之基板(即晶圆)公转一边进行成膜处理时，能沿着晶圆的圆周方向来施予均匀的处理。其解决手段系在旋转台的一面侧设置会因旋转台而公转之载置有晶圆之载置台。又，载置台的自转轴设置有被动齿轮，且沿着该被动齿轮的公转轨道整周设置有构成该被动齿轮与磁性齿轮机构之驱动齿轮。由于系借由自转用旋转机构来让驱动齿轮旋转，且借由让驱动齿轮的角速度与被动齿轮的公转所致之角速度产生速度差来使载置台自转，故可在晶圆的圆周方向上提高成膜处理的均匀性。又，可借由驱动齿轮的角速度与被动齿轮的角速度之差值，来容易地调整被动齿轮的自转速度。

5. 发明专利

TWI695907B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI695907B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW106102802
申请日：2017-01-25
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU , 小林健 , KOBAYASHI, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/52 , C23C16/452

6. 发明专利

TWI482872B 成膜裝置及成膜方法有权
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TWI482872B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW099145680
申请日：2010-12-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/44 , C23C16/458 , H01L21/285
CPC分类号： C23C16/45551 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , H01L21/68764 , H01L21/68771

7. 发明专利

TW201326453A 基板處理裝置及成膜裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备及成膜设备
公开(公告)号：TW201326453A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101131274
申请日：2012-08-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎本忠 , ENOMOTO, TADASHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： C23C16/46
CPC分类号： H01L21/67103 , C23C16/401 , C23C16/45551 , C23C16/4585 , C23C16/46 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：基板處理裝置，係包含有：處理容器；旋轉台，係設置於該處理容器內，於一面側載置基板並進行旋轉，且於載置該基板之基板載置區域設有熱容量小於其他區域的基板載置部；以及加熱部，係從該旋轉台之另一面側來加熱該基板。
简体摘要：基板处理设备，系包含有：处理容器；旋转台，系设置于该处理容器内，于一面侧载置基板并进行旋转，且于载置该基板之基板载置区域设有热容量小于其他区域的基板载置部；以及加热部，系从该旋转台之另一面侧来加热该基板。

8. 发明专利

TW201732079A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201732079A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106102802
申请日：2017-01-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：加藤壽 , KATO, HITOSHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU , 小林健 , KOBAYASHI, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/52 , C23C16/452
摘要：本發明之基板處理裝置係設置於處理容器內，而將基板載置於繞旋轉軸旋轉之旋轉台的一面側，藉由使該旋轉台旋轉來一邊使基板公轉一邊對該基板供應處理氣體而進行處理之基板處理裝置；其具備有：載置台，係可自轉自如地繞著延伸於沿該旋轉台之旋轉軸的方向之自轉軸所加以設置，而用以載置該基板；以及磁性齒輪機構，係具有用以使該載置台繞著自轉軸自轉之被動齒輪部，與將該被動齒輪部加以驅動之驅動齒輪部；該被動齒輪部係透過該自轉軸而連結於該載置台，並旋轉自如地設置於使該載置台自轉之方向，且具備有會在與該驅動齒輪部側所設置的驅動面之間形成有磁力線之被動面；該驅動齒輪部係在使該驅動面相對於伴隨著該旋轉台的旋轉而移動之該被動齒輪通過移動軌道上之預設位置的被動面會呈對向之狀態下所加以配置，並且為了使該磁力線移動來使被動齒輪旋轉，而連接於使該驅動面移動之驅動部。
简体摘要：本发明之基板处理设备系设置于处理容器内，而将基板载置于绕旋转轴旋转之旋转台的一面侧，借由使该旋转台旋转来一边使基板公转一边对该基板供应处理气体而进行处理之基板处理设备；其具备有：载置台，系可自转自如地绕着延伸于沿该旋转台之旋转轴的方向之自转轴所加以设置，而用以载置该基板；以及磁性齿轮机构，系具有用以使该载置台绕着自转轴自转之被动齿轮部，与将该被动齿轮部加以驱动之驱动齿轮部；该被动齿轮部系透过该自转轴而链接于该载置台，并旋转自如地设置于使该载置台自转之方向，且具备有会在与该驱动齿轮部侧所设置的驱动面之间形成有磁力线之被动面；该驱动齿轮部系在使该驱动面相对于伴随着该旋转台的旋转而移动之该被动齿轮通过移动轨道上之默认位置的被动面会呈对向之状态下所加以配置，并且为了使该磁力线移动来使被动齿轮旋转，而连接于使该驱动面移动之驱动部。

9. 发明专利

TWI573894B 基板處理裝置及成膜裝置有权
简体标题：基板处理设备及成膜设备
公开(公告)号：TWI573894B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW101131274
申请日：2012-08-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎本忠 , ENOMOTO, TADASHI , 大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： C23C16/46
CPC分类号： H01L21/67103 , C23C16/401 , C23C16/45551 , C23C16/4585 , C23C16/46 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771

10. 发明专利

TWI514507B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI514507B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW099141614
申请日：2010-12-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：大泉行雄 , OHIZUMI, YUKIO , 本間學 , HONMA, MANABU
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67748 , C23C16/45546 , C23C16/4584 , H01L21/68742 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68785 , H01L21/68792

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