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1. 发明专利

TWI695448B 真空處理裝置的運轉方法有权
简体标题：真空处理设备的运转方法
公开(公告)号：TWI695448B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108107589
申请日：2019-03-07
申请人：日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 小川恵太郎 , OGAWA, KEITAROU , 櫻木崇弘 , SAKURAGI, TAKAHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/02

2. 发明专利

TW201330163A 真空處理裝置审中-公开
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TW201330163A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101105092
申请日：2012-02-16
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 田內勤 , TAUCHI, SUSUMU , 近藤英明 , KONDO, HIDEAKI , 小林滿知明 , KOBAYASHI, MICHIAKI
IPC分类号： H01L21/68 , C23C16/54 , C23C16/44
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67184
摘要：本發明之課題在於提供單位設置面積的生產性很高的真空處理裝置。本發明的解決手段為一種真空處理裝置，係具備：在大氣搬送室的背面側被配置搬送晶圓至內部之真空搬送機械臂的複數真空搬送室的各個至少各有1個被連結之複數真空處理室；把卡匣內的複數晶圓取出而依序往前述複數真空處理室搬送而進行處理後返回前述卡匣的真空處理裝置；設定前述複數枚之晶圓的搬送動作而調節此動作的控制部，以任意之前述晶圓被搬送至前述複數真空搬送室之中連結於被配置在最裏側的真空搬送室的前述真空處理室之全部的方式進行調節之後，使次一晶圓的搬送，在前述任意晶圓成為可以從被連結於前述最裏側的真空搬送室的前述真空處理室搬出之前，可搬入該次一晶圓的前述真空處理室，且係以被搬送至被配置於最後方的真空處理室的方式進行調節。
简体摘要：本发明之课题在于提供单位设置面积的生产性很高的真空处理设备。本发明的解决手段为一种真空处理设备，系具备：在大气搬送室的背面侧被配置搬送晶圆至内部之真空搬送机械臂的复数真空搬送室的各个至少各有1个被链接之复数真空处理室；把卡匣内的复数晶圆取出而依序往前述复数真空处理室搬送而进行处理后返回前述卡匣的真空处理设备；设置前述复数枚之晶圆的搬送动作而调节此动作的控制部，以任意之前述晶圆被搬送至前述复数真空搬送室之中链接于被配置在最里侧的真空搬送室的前述真空处理室之全部的方式进行调节之后，使次一晶圆的搬送，在前述任意晶圆成为可以从被链接于前述最里侧的真空搬送室的前述真空处理室搬出之前，可搬入该次一晶圆的前述真空处理室，且系以被搬送至被配置于最后方的真空处理室的方式进行调节。

3. 发明专利

TWI447838B 真空處理裝置失效
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TWI447838B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW099127567
申请日：2010-08-18
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 田內勤 , TAUCHI, SUSUMU , 近藤英明 , KONDO, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67742

4. 发明专利

TW201448095A 真空處理裝置及其之運轉方法审中-公开
简体标题：真空处理设备及其之运转方法
公开(公告)号：TW201448095A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103101817
申请日：2014-01-17
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 工藤豊 , KUDOU, YUTAKA , 下村隆浩 , SHIMOMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/67196
摘要：〔課題〕在介隔著真空搬送中間室連結複數個真空搬送室之真空處理裝置中，使作業比(operating ratio)提升。〔解決手段〕一種真空處理裝置的運轉方法，該真空處理裝置具有：介隔著真空搬送中間室而被連結之複數個真空搬送室、以及各自連結到該真空搬送室之複數個真空處理容器；其特徵為：介隔著真空搬送中間室使複數個真空搬送室連通，供給沖洗氣體到複數個真空搬送室中連結到閉鎖室之真空搬送室，使從閉鎖室來算為較遠的真空搬送室的搬送室內進行減壓排氣，把複數個真空搬送室之全部的搬送室內壓力高於真空處理容器的容器內壓力。
简体摘要：〔课题〕在介隔着真空搬送中间室链接复数个真空搬送室之真空处理设备中，使作业比(operating ratio)提升。〔解决手段〕一种真空处理设备的运转方法，该真空处理设备具有：介隔着真空搬送中间室而被链接之复数个真空搬送室、以及各自链接到该真空搬送室之复数个真空处理容器；其特征为：介隔着真空搬送中间室使复数个真空搬送室连通，供给冲洗气体到复数个真空搬送室中链接到闭锁室之真空搬送室，使从闭锁室来算为较远的真空搬送室的搬送室内进行减压排气，把复数个真空搬送室之全部的搬送室内压力高于真空处理容器的容器内压力。

5. 发明专利

TWI555115B 真空處理裝置及其之運轉方法有权
简体标题：真空处理设备及其之运转方法
公开(公告)号：TWI555115B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW103101817
申请日：2014-01-17
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 工藤豊 , KUDOU, YUTAKA , 下村隆浩 , SHIMOMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/67196

6. 发明专利

TWI471968B 真空處理裝置有权
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TWI471968B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW101105092
申请日：2012-02-16
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 田內勤 , TAUCHI, SUSUMU , 近藤英明 , KONDO, HIDEAKI , 小林滿知明 , KOBAYASHI, MICHIAKI
IPC分类号： H01L21/68 , C23C16/54 , C23C16/44
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67184

7. 发明专利

TWI445121B 真空處理裝置有权
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TWI445121B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100101804
申请日：2011-01-18
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯村僚一 , ISOMURA, RYOICHI , 田內勤 , TAUCHI, SUSUMU , 近藤英明 , KONDO, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/67742

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