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1. 发明专利

TW201835975A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201835975A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107119690
申请日：2016-07-13
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI,YUKIHIKO
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/06
摘要：本發明之基板處理裝置具備前部熱處理區塊、前部中繼區塊及液體處理區塊。前部熱處理區塊具備熱處理單元及主搬送機構。前部中繼區塊具備載置部及搬送機構。液體處理區塊具備液體處理單元及液體處理用搬送機構。前部熱處理區塊與前部中繼區塊連接，且能夠相互搬送基板。前部中繼區塊與液體處理區塊連接，且能夠相互搬送基板。前部中繼區塊係配置於液體處理區塊與前部熱處理區塊之間。
简体摘要：本发明之基板处理设备具备前部热处理区块、前部中继区块及液体处理区块。前部热处理区块具备热处理单元及主搬送机构。前部中继区块具备载置部及搬送机构。液体处理区块具备液体处理单元及液体处理用搬送机构。前部热处理区块与前部中继区块连接，且能够相互搬送基板。前部中继区块与液体处理区块连接，且能够相互搬送基板。前部中继区块系配置于液体处理区块与前部热处理区块之间。

2. 发明专利

TW201806103A 熱處理裝置、基板處理裝置及熱處理方法审中-公开
简体标题：热处理设备、基板处理设备及热处理方法
公开(公告)号：TW201806103A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106123005
申请日：2017-07-10
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： H01L23/34 , H01L21/677
CPC分类号： B05D3/0254 , B05D1/005 , F26B15/00 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67748 , H01L21/68742
摘要：本發明之熱處理裝置包含待機部、加熱部及搬送機構。待機部包含複數個支持銷。搬送機構包含保持基板之搬送臂，且藉由使搬送臂移動而在待機部與加熱部之間搬送基板。搬送臂具有複數個區域，在搬送臂內設置有分別冷卻複數個區域之複數條冷卻水通路。
简体摘要：本发明之热处理设备包含待机部、加热部及搬送机构。待机部包含复数个支持销。搬送机构包含保持基板之搬送臂，且借由使搬送臂移动而在待机部与加热部之间搬送基板。搬送臂具有复数个区域，在搬送臂内设置有分别冷却复数个区域之复数条冷却水通路。

3. 发明专利

TW201808467A 周緣部處理裝置及周緣部處理方法审中-公开
简体标题：周缘部处理设备及周缘部处理方法
公开(公告)号：TW201808467A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106128548
申请日：2017-08-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： B05C11/10 , B05C5/00 , B05D1/40 , H01L21/027 , G03F7/16
CPC分类号： B41J2/04505 , B05D1/02 , B24B9/00 , B41J2/04586 , H01L21/67028 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/67253
摘要：本發明之周緣部處理裝置係藉由旋轉夾頭而保持基板並使其旋轉。自噴出部對藉由旋轉夾頭而旋轉之基板噴出處理液。噴出部具有排列於一方向之複數個噴出口，且能夠自複數個噴出口分別選擇性地噴出處理液。於噴出部之複數個噴出口之排列橫跨藉由旋轉夾頭而旋轉之基板之周緣部且與周緣部對向之狀態下，自周緣部之內緣對外側處理液供給。不對較基板之周緣部之內緣更靠內側供給處理液。
简体摘要：本发明之周缘部处理设备系借由旋转夹头而保持基板并使其旋转。自喷出部对借由旋转夹头而旋转之基板喷出处理液。喷出部具有排列于一方向之复数个喷出口，且能够自复数个喷出口分别选择性地喷出处理液。于喷出部之复数个喷出口之排列横跨借由旋转夹头而旋转之基板之周缘部且与周缘部对向之状态下，自周缘部之内缘对外侧处理液供给。不对较基板之周缘部之内缘更靠内侧供给处理液。

4. 发明专利

TWI647800B 熱處理裝置、基板處理裝置及熱處理方法有权
简体标题：热处理设备、基板处理设备及热处理方法
公开(公告)号：TWI647800B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW106123005
申请日：2017-07-10
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： H01L23/34 , H01L21/677

5. 发明专利

TWI644381B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI644381B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW105136863
申请日：2016-11-11
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677

6. 发明专利

TW201719794A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201719794A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105136863
申请日：2016-11-11
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67225 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/67276 , H01L21/67745
摘要：本發明之基板處理裝置具備對基板進行處理之處理部。處理部之正面及處理部之背面之任一者均可與將基板供給至處理部之分度器部連接。根據此種基板處理裝置，可提高處理部與分度器部之配置自由度。
简体摘要：本发明之基板处理设备具备对基板进行处理之处理部。处理部之正面及处理部之背面之任一者均可与将基板供给至处理部之分度器部连接。根据此种基板处理设备，可提高处理部与分度器部之配置自由度。

7. 发明专利

TW202014364A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW202014364A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108123530
申请日：2019-07-04
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：桑原丈二 , KUWAHARA, JOJI , 稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO , 村井征爾 , MURAI, SEIJI
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677
摘要：本發明係一種基板處理裝置，其處理基板，上述裝置包含以下要素：分度區塊，其針對每個載具載置部具備分度機器人，上述分度機器人具有用以自上述載具載置部之載具取出基板且將基板收納於上述載具載置部之載具之臂，且水平方向之位置固定；橋接區塊，其與上述分度區塊鄰接配置；及處理區塊，其具有多個階層，上述多個階層積層有具備至少1個以上之處理單元之階層；且上述橋接區塊具備：緩衝部；通路部，其設置於自多個階層之最下層至最上層之範圍；及兩台橋接機械人，其等具有於與上述通路部之間交接基板之臂。
简体摘要：本发明系一种基板处理设备，其处理基板，上述设备包含以下要素：分度区块，其针对每个载具载置部具备分度机器人，上述分度机器人具有用以自上述载具载置部之载具取出基板且将基板收纳于上述载具载置部之载具之臂，且水平方向之位置固定；桥接区块，其与上述分度区块邻接配置；及处理区块，其具有多个阶层，上述多个阶层积层有具备至少1个以上之处理单元之阶层；且上述桥接区块具备：缓冲部；通路部，其设置于自多个阶层之最下层至最上层之范围；及两台桥接机器人，其等具有于与上述通路部之间交接基板之臂。

8. 发明专利

TW201717254A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201717254A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105122093
申请日：2016-07-13
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：稲垣幸彥 , INAGAKI, YUKIHIKO
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/06
CPC分类号： B05B1/24 , B05C13/00 , B05C13/02 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67276 , H01L21/67745
摘要：本發明之基板處理裝置具備前部熱處理區塊、前部中繼區塊及液體處理區塊。前部熱處理區塊具備熱處理單元及主搬送機構。前部中繼區塊具備載置部及搬送機構。液體處理區塊具備液體處理單元及液體處理用搬送機構。前部熱處理區塊與前部中繼區塊連接，且能夠相互搬送基板。前部中繼區塊與液體處理區塊連接，且能夠相互搬送基板。前部中繼區塊係配置於液體處理區塊與前部熱處理區塊之間。
简体摘要：本发明之基板处理设备具备前部热处理区块、前部中继区块及液体处理区块。前部热处理区块具备热处理单元及主搬送机构。前部中继区块具备载置部及搬送机构。液体处理区块具备液体处理单元及液体处理用搬送机构。前部热处理区块与前部中继区块连接，且能够相互搬送基板。前部中继区块与液体处理区块连接，且能够相互搬送基板。前部中继区块系配置于液体处理区块与前部热处理区块之间。

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