基本信息:
- 专利标题： 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子器件的製造方法
- 专利标题（英）：Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device
- 专利标题（中）：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
- 申请号：TW108125868 申请日：2019-07-22
- 公开(公告)号：TW202010762A 公开(公告)日：2020-03-16
- 发明人： 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 冨賀敬充 , TOMIGA, TAKAMITSU , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 米久田康智 , YONEKUTA, YASUNORI , 畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA
- 申请人： 日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
- 专利权人： 日商富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： 日商富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 代理人： 葉璟宗; 卓俊傑
- 优先权： 2018-166280 20180905;2019-058857 20190326
- 主分类号： C08F212/14
- IPC分类号： C08F212/14 ; C08F220/18 ; C08F220/28 ; C08F220/06 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/20 ; G03F7/30 ; G03F7/38 ; H01L21/027
Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which contains : a resin (A); a compound (B) having a glass transition temperature of 100 DEG C or less; and a solvent, wherein: the resin (A) includes a repeating unit (a1) derived from a monomer having a glass transition temperature of 50 DEG C or less when formed into a homopolymer, and a repeating unit (a2) having an acid-decomposable group; the repeating unit (a1) is a non-acid-decomposable repeating unit; the resin (A) has a repeating unit having an aromatic ring; the content of the compound (B) is 1 mass% or more with respect to the total solid content; and the solid content concentration of the compound (B) is 10 mass% or more. Also provided are a resist film formed from the composition, a pattern forming method using the composition, and a method for producing an electronic device.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F212/00 | 具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳—碳双键，并且至少有1个是以芳族碳环为终端 |
| --------C08F212/02 | .只含1个不饱和脂族基的单体 |
| ----------C08F212/04 | ..含1个环 |
| ------------C08F212/14 | ...以杂原子或含杂原子的基团取代的 |